【課題】把持部材を半導体チップの上面に近づけたときに把持部材から噴出する気体の背圧が予め定めた圧力まで上昇しなくても把持部材が半導体チップの上面に接触する高さ位置を、簡単な構成で高精度に求めることのできるハンドラのティーチング方法及びハンドラを提供する。
【解決手段】吸着パッドを検査用ソケットに配置されたＩＣチップに向かって下動させるとき、吸着パッドの先端から気体を噴出させながら下降させる。そして、吸着パッドの先端から噴出する気体の流量を流量センサで検出し、流量センサで検出した流量が予め定めた流量まで減少した時の吸着パッドの下降位置を吸着パッドがＩＣチップの上面に接触する高さ位置として記憶手段に登録する。 （もっと読む）

【課題】ウエハ温度を短時間で変化させる場合においてもウエハ温度を均一に保持することのできるプラズマ処理装置を提供する。
【解決手段】真空処理室と、該真空処理室内に配置された試料台と、前記真空処理室に処理ガスを導入するガス導入手段を備え、前記真空処理室内に高周波電力を供給してプラズマを生成し、生成されたプラズマにより前記試料台上に配置した試料にプラズマ処理を施すプラズマ処理装置において、前記試料台は、基材の上部に配置され試料が載置される前記基材上面を加熱するヒータ２０４と、前記基材の上面の外周側であって前記基材の側面に沿って配置され前記ヒータと接続して電力を供給する給電路２０９を有する。 （もっと読む）

【課題】半導体ウエハの表面に貼付けられた保護テープに剥離テープを適切に貼付け、この剥離テープを剥離することで、保護テープを剥離テープと一体にして半導体ウエハか円滑に剥離する。
【解決手段】貼付け部材５４に帯状の剥離テープＴｓを巻き掛け供給し、貼付けブロック５６により半導体ウエハＷに貼付けられた保護テープＰＴの表面における剥離開始側の外周端部にのみ剥離テープＴｓを押圧して貼付ける。その後、当該貼付け箇所よりもウエハ中心側から他端まで貼付けローラ５４を押圧転動させて剥離テープＴｓを保護テープＰＴの表面に貼付けるとともに、当該貼付けローラ５４とウエハＷの相対的な水平移動に伴って、保護テープＰＴを剥離テープＴｓと一体にしてウエハ表面から剥離して回収する。 （もっと読む）

【課題】基板保持具に保持されている基板の移載状態とその詳細情報とを同じ画面上に同時に表示させる。
【解決手段】複数の基板を載置した基板保持具を炉内に搬入して所定の処理を行う基板処理装置であって、各基板の移載状況と、各基板の割れ検知結果情報と、割れ検知結果情報で異常とされた基板の復旧状況と、を操作画面上に表示させる。 （もっと読む）

【課題】格子プレートの位置測定システムに干渉する汚染物の困難さに対処することを目的とする。
【解決手段】一実施形態では、汚染物は、格子又はセンサに接触することが防止される。ある実施形態では、表面弾性波を用いて格子又はセンサの表面から汚染物が除去される。 （もっと読む）

【課題】リソグラフィ装置の物体テーブルを位置決めするためのデバイスを利用したデバイス製造方法。
【解決手段】物体テーブル３０を位置決めするためのデバイスは、物体テーブル３０を第１の方向に支持するためのフレームと、第１の力を第１の方向に実質的に直角の第２の方向から物体テーブル３０に付与し、第２の力を第１の方向及び第２の方向に実質的に直角の第３の方向から物体テーブル３０に付与するように構築され、且つ、配置されたモータ・ユニット３５、３６とを備えている。モータ・ユニット３５、３６は、第２の部品４０、４１と協働して第１及び第２の力を生成するように構築され、且つ、配置された第１の部品３８、３９を備えており、第１の力及び第２の力の両方が実質的に物体テーブル３０の重心を通る方向に物体テーブル３０の上に配置される。 （もっと読む）

【課題】オブジェクトを２以上の自由度で制動させるための方法を提供する。
【解決手段】２以上の２以上の測定位置の各々で位置量を測定することと、測定された位置量から動的モード毎に測定信号を抽出することと、１つの動的モードの測定信号を、対応する個々の動的モードと結合したコントローラユニットに供給することであって、コントローラユニットが対応する個々の測定信号に基づいて動的モード毎に出力信号を提供することと、２以上のアクチュエータの各々に制御信号を提供することであって、アクチュエータ毎の制御信号が１つまたは２以上のコントローラユニットの出力信号に基づくこととを含む方法。 （もっと読む）

【課題】事前の煩雑な準備を必要とせずに、搬送面から浮上させて搬送方向に搬送される薄板の搬送状態を、インラインにより検出する。
【解決手段】浮上搬送装置により搬送される薄板Ｗの搬送面Ｓを、搬送方向の全体に亘って複数のカメラ３により撮影する。薄板Ｗの載置位置に載置されたターゲットＴの搬送面Ｓに対する相対位置を、カメラ３で撮影した薄板Ｗの写った画像の画像データから検出し、検出した相対位置から、ターゲットＴの載置位置における薄板Ｗの搬送面Ｓに対する接触状態を検出する。 （もっと読む）

【課題】温調手段上に基板が正常に吸着されなかった場合に、特別な検出装置を設置することなく、吸着異常の原因を判定し、露光装置のダウンタイムを低減する。
【解決手段】基板を吸着保持し、基板の温調を行う温調手段と、該温調手段からの基板の落下を防止する落下防止部材と、基板の受け渡しを行うための吸着機構及び上下駆動機構を備えた突き上げピンと、吸着機構及び駆動機構を制御する制御系とを備え、基板の保持及び温調を行う基板保持方法において、基板を温調手段に吸着保持させる際に、吸着異常が発生した場合、吸着異常の原因が、基板が落下防止部材に乗り上げたことに起因するものかを判定する判定工程Ｓ１２を有する。 （もっと読む）

【課題】半導体ウエハの外周に欠陥が発生していても、欠けや割れを大きく進行させることなく保護テープを的確に剥離する。
【解決手段】半導体ウエハの外周部をＣＣＤカメラで撮影し、その画像データを画像解析し、ウエハ外周の欠けや割れなどの欠陥を検出してその位置を記憶する。記憶した位置情報から隣り合う欠陥同士の間隔を算出する。この算出結果と予め決まっている剥離テープの幅を比較し、剥離テープよりも大きい間隔部分を演算処理により求める。演算の結果、剥離テープよりも広い幅の間隔が見つかれば、この間隔部分を剥離テープの貼り付け位置として決定し、ウエハの位置合わせ行う。その後に剥離テープをウエハ上の保護テープに貼り付けながら剥離することにより、ウエハ表面から保護テープを一体にして剥離する。 （もっと読む）

【課題】 基板の位置ずれに起因する不具合の発生を低減させうる基板の操作装置及び露光装置を提供する。
【解決手段】 本発明の基板を操作する操作装置は、基板を保持する保持部と、前記保持部を駆動する駆動部と、前記保持部により保持される基板の位置ずれの量を検出する検出器と、前記検出器により検出された位置ずれの量に応じた補正信号を発生する補正部と、を備え、前記基板の位置ずれは、前記補正信号に従って補正される。 （もっと読む）

【課題】保護テープが貼付された半導体ウエハにおいて、ノッチの位置を確実に検出することができる技術を提供する。
【解決方法】半導体ウエハ１０は、裏面１０ｂに保護テープ２０が貼付されており、保護テープ２０の外周縁２２に遮光性の突出部２４が形成されている。突出部２４は半導体ウエハ１０に形成されたノッチ１４に対応した位置に貼付されている。突出部２４は、半導体ウエハ１０の外周縁から突出している。ノッチ検出装置３０は、突出部２４の位置を検出する装置であり、発光器３２と、アライナ３４と、受光器３６と、アンプ３８を備えている。発光器３２は、アライナ３４に載置された半導体ウエハ１０の外周縁の外側に光３３を照射し、受光器３６が光３３を受光する。アンプ３８は、受光器３６が受光した光量から突出部２４の位置を検出する。突出部２４の位置を検出することにより、ノッチ１４の位置を検出することができる。 （もっと読む）

【課題】事前の煩雑な準備を必要とせずに、搬送面から浮上させて搬送方向に搬送される薄板の搬送状態を、インラインにより検出すること。
【解決手段】浮上搬送装置１０により搬送される薄板Ｗに貼付したマーカ９を、搬送面Ｓの上方に配置した２台のカメラ３Ｌ，３Ｒでそれぞれ撮影したエリアＡの画像データから抽出し、その３次元位置座標値から薄板Ｗの３次元位置座標値（座標値群）を検出して、３次元位置座標値（座標値群）が既知である搬送面Ｓに対する接触の有無や接触箇所を、画像処理によって検出する構成とした。 （もっと読む）

【課題】 可動オブジェクトの実際の位置量を表すセンサによって供給される信号に応じて可動オブジェクトの位置量を制御するための制御システムを提供する。
【解決手段】 制御システムは、可動オブジェクトに力を加えることができるアクチュエータに駆動信号を供給するように構成され、この制御システムは、基準信号を供給するための設定値発生器と、基準信号とセンサによって供給された信号との間の差である誤差信号を供給するための減算器と、誤差信号に応じてアクチュエータに駆動信号を供給するための制御ユニットとを含み、この制御ユニットは、低周波外乱の抑制を改善するための非リニア制御器を備え、その非リニア制御器によってもたらされる高周波挙動の劣化を少なくとも部分的に補償するための補償器をさらに含む。 （もっと読む）

【課題】ステージ装置の位置制御をより精密に行うことが可能な露光装置及び露光方法を提供すること。
【解決手段】マスクを用いて基板に露光処理を行う露光装置であって、前記マスクを移動可能に保持するステージ装置と、前記ステージ装置に光を照射し、前記光の反射光を用いて前記ステージ装置の位置に関する情報を検出する光干渉装置と、前記光の光路周辺の空間の光屈折率を検出し、検出結果を用いて前記情報の補正を行う補正装置とを備える。 （もっと読む）

【課題】移送装置を提供する。
【解決手段】垂直軸線を形成するプロファイルと、プロファイルに隣接して設けられて被移送物を支持し、プロファイルの垂直軸線に沿ってプロファイルに対して相対的にアップ／ダウン移動するカーアセンブリーと、プロファイルとカーアセンブリーとのうち少なくとも何れか一つに設けられてカーアセンブリーのアップ／ダウン移動時、プロファイルに対するカーアセンブリーの移動経路を非接触式で案内する非接触式アップ／ダウン案内ユニットと、を含むことを特徴とする移送装置。本発明によれば、被移送物に対する高速移送が可能でありながらも、移送速度を安定的に維持及び制御し、かつ被移送物の移送過程中にパーティクルの発生を防止できるということはもとより、従来よりさらにノイズを減らせて、耐久性を向上させうる。 （もっと読む）

【課題】接着シートＳに貼付された被着体Ｗを複数の小片ＷＴに切断し、接着シートＳを引き伸ばしてこれら小片ＷＴ間に間隙を形成するエキスパンド装置であって、手間のかかる機械部品のセット作業を不要とした、小型で簡単構造のものを提供する。
【解決手段】接着シートＳが間に挟まれるように被着体Ｗを載置するステージ１を備える。ステージ１の表面には、被着体Ｗの外縁からはみ出た接着シートＳ領域が載置される位置に凹溝１１が形成され、吸引手段２によって凹溝１１内に接着シートＳを吸引して凹溝１１よりも内方に位置する接着シートＳを引き伸ばす。 （もっと読む）

【課題】 基板載置台への基板の異常載置状態を早期に発見できる方法を提供する。
【解決手段】 基板処理装置においてヒーターを有する基板載置台に基板を載置して加熱しながら処理を行う際に、１枚の基板を処理する間の全体もしくは一部分の時間において、ヒーターへの供給電力、供給電流もしくは供給電圧または基板載置台の計測温度について、最大値および最小値もしくは積算値を算出し、検出された最大値および最小値もしくは積算値をもとに基板の異常載置状態を検知する。 （もっと読む）

【課題】固定された相対位置でパターニングデバイスと結合される基準ユニットを測定デバイスが含むリソグラフィ装置が提供される。
【解決手段】リソグラフィ装置は、放射ビームにパターンを与えてパターン付き放射ビームを形成するパターニングデバイスを支持する支持体と、支持体を第一方向に移動する位置決めデバイスと、支持体に対するパターニングデバイスの相対位置を測定して測定信号を生成する測定デバイスとを含み、該測定デバイスは、固定された相対位置でパターニングデバイスに結合される基準ユニットと、支持体に対する基準ユニットの位置を測定する位置センサとを含み、位置決めデバイスは、測定信号に基づいて支持体の位置を補正する。 （もっと読む）

【課題】フォーカス検出に要する時間の短縮に有利な露光装置を提供する。
【解決手段】物体面に配置されたレチクルのパターンを像面に配置された基板に投影する投影光学系を備える露光装置であって、前記基板を保持するステージに配置された位相シフト型のマークと、前記物体面又は前記物体面と光学的に共役な位置に配置され、前記投影光学系を介して前記マークの像を撮像する撮像素子と、前記撮像素子で撮像された前記マークの像のうち一対のエッジ部によって形成されるエッジ像の間隔に基づいて、前記マークの前記投影光学系の光軸方向の位置を算出する算出部と、を有することを特徴とする露光装置を提供する。 （もっと読む）