【課題】ウエーハの表面に貼着された保護テープをウエーハを破損させることなく剥離することができる保護テープ剥離装置を提供する。
【解決手段】。ウエーハの表面に貼着された保護テープを剥離する保護テープ剥離装置であって、ウエーハを保持するチャックテーブルと、チャックテーブルに裏面側が保持されたウエーハの表面に貼着されている保護テープの一端部を保持するテープ保持手段と、チャックテーブルと該テープ保持手段とを相対的に移動せしめる移動手段と、テープ保持手段に配設され保護テープを剥離する際の荷重を検出する荷重検出手段と、荷重検出手段からの荷重信号に基いて荷重信号が一定になるように移動手段の移動速度を制御する制御手段とを具備している。 （もっと読む）

【課題】ケーブル類からのガスの発生の問題をなくし、また、真空室の真空状態を確保しつつ真空室外から真空室内の可動部の位置を検出することができる真空処理装置を提供する。
【解決手段】センサヘッド３２により支持台４等の位置情報を検出し、送信機９５により位置情報を光信号Ｌ１、Ｌ２及びＬ３に変換し透光部１１３ｂを介して真空室１外の受信機８１に出射し、受信機８１で光信号Ｌ１、Ｌ２及びＬ３を受信しドライバ／電源ユニット８で位置情報に変換することができる。つまり、真空室１外から支持台４等の位置情報を検出するために、真空室１の隔壁１１に貫通孔を形成して位置情報を送信するためのケーブルをこの貫通孔を介して真空室１外へ導出したり、真空室１内に敷設したりする必要がない。従って、ケーブル類からのガスの発生の問題をなくし、真空室１の真空状態を確保しつつ真空室１外から真空室１内の支持台４等の位置を検出できる。 （もっと読む）

【課題】２つの部屋を連通する際に一方の部屋の雰囲気を他方の部屋へ流入させることなく両部屋の差圧をゼロにすることが可能な圧力調整装置を提供する。
【解決手段】開閉可能になされた開閉ドアＧ１〜Ｇ８を介して連通された、圧力差が生ずることのある第１の部屋と第２の部屋の圧力調整装置において、第１の部屋と第２の部屋とを連通する連通路６６と、連通路の途中に介設された第１及び第２の開閉弁６８，７０と、連通路の第１及び第２の開閉弁との間に接続されて、連通路に所定の圧力の清浄ガスを供給するガス供給通路７２と、ガス供給通路の途中に介設されたガス開閉弁７４と、開閉ドアを開く直前に、第１及び第２の開閉弁を閉じた状態で連通路内に清浄ガスを貯め込み、次に、貯め込んだ清浄ガスを第１及び第２の部屋へ供給するために第１及び第２の開閉弁を開くように制御する弁制御部７６とを備えるように構成する。 （もっと読む）

【課題】基板及びリソグラフィ装置の性能に関する物理的特性を迅速に検出する。
【解決手段】概ね第一方向に延在する少なくとも１本の線によって形成された延在パターンの特性を検出する。延在パターンは、基板又は基板テーブル上に形成され、好ましくは線の幅の少なくとも５０倍の長さにわたって延在する。検出方法は、基板テーブルを第一方向に移動させ、その第一方向ｘに沿って延在パターンの特性を測定することを含む。特性は、第一方向に対して直角の第二方向ｙにおける延在パターンの物理的特性の結果である。次のステップでは、延在パターンの測定位置から基板テーブル位置の較正を導出することができる。 （もっと読む）

【課題】 半導体ウエーハを所定の向きに位置付けた後、次工程へ搬出可能な研削装置等の加工装置を提供することである。
【解決手段】 外周に結晶方位を示すマークを備えた半導体ウエーハの裏面を研削又は研磨する半導体ウエーハの加工装置であって、回転可能な保持テーブルを有し、半導体ウエーハのマークを検出して半導体ウエーハを所定の向きに位置付ける位置合わせ手段と、研削又は研磨された半導体ウエーハを洗浄及びスピン乾燥するスピンナテーブルを有するスピンナ洗浄装置を備えている。洗浄装置は、ウエーハの洗浄及びスピン乾燥後にスピンナテーブルへの搬入時と同一位置にスピンナテーブルを停止させた後、搬出手段でウエーハを次工程へ搬出する。 （もっと読む）

【課題】クロスエリア搬送制御システム及びその制御方法を提供する。
【解決手段】第一搬送整合システム１と、第二搬送整合システム２とは、異なるエリアにあり、第一搬送整合システム１と、第二搬送整合システム２とは、互いに電気的に接続され、且つ、第一搬送整合システム１は、さらに、クロスエリア制御システム４に電気的に接続され、クロスエリアストッカー３は、クロスエリア制御システム４と、第二搬送整合システム２に電気的に接続される。上述のシステム機構は、クロスエリア制御システム４が、独立して設置されるため、あるエリアの製造執行システムが故障停止した時でも、クロスエリアシステムは、正常に処理運転を行い、ウェーハが、クロスエリア伝送するときに影響を受け、停止することがない。 （もっと読む）

【課題】
基板の厚さの変動によるオーバレイ精度の変動を低減すること。
【解決手段】
基準マークは、光軸の方向と第１方向とに直交する第２方向において且つ光軸の方向において異なる位置に配置された複数の基準マークを含み、制御手段は、第１干渉計の計測値に従って回転角を一定に保ちながらステージを光軸の方向および第２方向に移動させて、複数の基準マークそれぞれの位置を第１計測手段に計測させ、第２干渉計の計測値に従って回転角を一定に保つようにしながらステージを光軸の方向および第２方向に移動させて、複数の基準マークそれぞれの位置を第２計測手段に計測させ、第１計測手段により計測された複数の基準マークそれぞれの位置と第２計測手段により計測された複数の基準マークそれぞれの位置とに基づいて、光軸の方向におけるステージの位置に従って面内におけるステージの位置を補正する量を算出する。 （もっと読む）

【課題】FIMSシステムにおいて基板のポッドからの飛び出しを精度よく検出可能な構成を提供する。
【解決手段】FIMSシステムにおける基板飛び出し検出用センサとして光反射型センサを用いる。当該センサにおいて、センサ光の集光時の焦点よりずれてセンサ光の照射領域がセンサ光伝達用の光ファイバの口径まで広がった状態でセンサ光を当該光ファイバに導入させ、検出領域に当該センサ光を射出させる際に、基板から反射された検出光の到達範囲を拡大させる。 （もっと読む）

【課題】基板のローディング／アンローディングの効率を向上させる基板処理装置及びその基板処理装置で基板を移送する方法を提供すること。
【解決手段】基板処理装置は、各移送アームの速度を調節する制御部７１０を具備し、同時駆動される各移送アームが各目標地点に同時に到達するように制御する。基板移送方法については、基板処理装置は、受納部材に対して基板を引出及び積載する移送部材２００と、移送部材２００を制御する制御部７１０とを含む。移送部材２００は、基板が各々積載される多数の移送アームと、各移送アームを水平方向に移動させるアーム駆動部とを具備する。制御部７１０は、移送部材２００の移動速度と位置を制御し、各移送アームの移動中の予想速度プロファイルを比較して、各移送アームの移動速度を制御する。 （もっと読む）

【課題】各種の処理が施される半導体ウェハ等の処理対象物の温度を，汚染を回避しつつ高精度で測定することができること。
【解決手段】ウェハステージ２上の処理ウェハ１と，参照ウェハ支持部２ｘ上の参照ウェハ１ｘ（処理ウェハ１と同じ材質）とのそれぞれに対し，両者の温度が同等の安定状態で超音波を出力し，反射超音波の検出信号の特徴量（共振周波数，超音波伝播時間，位相等）を検出し，それらの特徴量から処理ウェハ１の厚みの調整値を算出し，処理中の処理ウェハ１における反射超音波の検出信号の特徴量と，前記厚みの調整値とに基づいて，処理ウェハ１の温度を算出する。また，前記定常状態での参照ウェハ１ｘの検出温度と前記特徴量とに基づいて，処理ウェハ１における温度と超音波伝播速度との関係を調整する。 （もっと読む）

【課題】半導体基板を処理するチャンバの内外部気圧を測定するモジュール、装置及び方法を提供する。
【解決手段】本発明によると、側面に第１流入部と第２流入部が具備された連結部材と、前記連結部材の一端に連結された第１気圧測定センサと、前記連結部材の他端に連結された第２気圧測定センサとを含むが、前記連結部材には、前記第１流入部と前記第１気圧測定センサを連結する第１通路と、前記第２流入部と前記第２気圧測定センサを連結する第２通路が形成され、前記第１通路と前記第２通路は、分離されるように提供された気圧測定モジュール、気圧測定装置及び方法が提供される。このような本発明によると、大気圧センサの誤作動の問題を解決して、誤作動の防止のために使われた不必要な装備と誤作動に対応することにかかる時間及び人力の浪費を減らすことができる。 （もっと読む）

高温減圧環境での処理を行うように備えられた静電チャックが記載されている。当該静電チャックは、静電固定電極と任意の加熱素子を有するチャック体、及び、該チャック体の内側表面と近接する伝熱面を有するヒートシンク体を含む。前記内側表面と前記伝熱面とが近接しているため、前記ヒートシンク体は、前記チャック体から熱を除去するように備えられている。当該静電チャックは、前記チャック体と前記ヒートシンク体を支持するように備えられたテーブル集合体、及び、前記チャック体と前記テーブル集合体との間に設けられた拡張接合部をさらに有する。前記拡張接合部は、熱膨張率の異なる前記チャック体と前記テーブル集合体を収容しながら、前記チャック体と前記テーブル集合体とを密閉した状態で接合するように備えられている。
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【課題】安定した高速スループットでノッチ位置を検出できると共に、従来のノッチ検出手段を有効利用して容易に実現できるウェーハ把持方式のウェーハアライメント装置を提供する。
【解決手段】ウェーハの位置合わせする装置において、ウェーハ外周縁に接触する各把持アーム１０、２０の接触部には、ウェーハ外周縁のノッチが前記把持アームの接触部の位置にある場合にはこのノッチを検出するノッチ検出手段が設けられ、ノッチ検出手段のうち前記ノッチを検出したノッチ検出手段を有する把持アームがある場合には、少なくともこのノッチ検出したノッチ検出手段を有する把持アームのウェーハの把持状態を解除する解除機構と、この把持序状態を解除された把持アームを除く１以上の把持アームのウェーハに対する把持状態を維持する維持機構とを有する。 （もっと読む）

【課題】ウェーハからの反射光による影響を除去することで、ウェーハのエッジを高精度に検出することができるウェーハアライメント装置及びそれを用いたウェーハ搬送装置を提供する。
【解決手段】ウェーハをチャッキングして回転する回転機構系と、ウェーハのエッジに光を照射する投光部とその光を受光する受光部とを有する光学式センサで構成され、ウェーハのエッジを監視・検出する検出系と、検出系で得られた受光量に応じてウェーハの向きと偏心を補正する信号を出力する制御系とを備えたウェーハアライメント装置において、投光部と前記受光部との間に、前記光の拡散を抑制するためのスリットを設けた。 （もっと読む）

【課題】ウェハのノッチを検出し、角度合わせを行うアライメント装置において、装置の小型化とアライメント時間の短縮を目的とする。
【解決手段】ノッチ或いはオリフラ１５に対して予め定められた位置に刻印されたＩＤ１１が表面或いは裏面に刻印された半導体ウェハ３を載置するウェハ載置部７と、ウェハ載置部７を回転させる旋回機構と、ウェハ載置部７の回転位置を検出する回転位置検出手段と、ＩＤ１１を読み取るＩＤリーダー１０と、を備え、ＩＤリーダー１０がＩＤ１１を読み取ったときのウェハ載置部７の回転位置を回転位置検出手段から取得し、予め記憶しているＩＤ１１とノッチ或いはオリフラ１５との位置関係によってノッチ或いはオリフラ１５を所望の位置へ回転させるようにした。 （もっと読む）

【課題】非接触式変位検出センサの誤動作をなくして、小物品を、損傷させることなく、円滑、確実にピックアップできる装置を提供する。
【課題の解決手段】ピックアップ装置１は、駆動源により昇降可能な駆動体２と、この駆動体２に設けられた非接触式変位検出センサ３と、下端に小物品係脱部材６を備え、かつ、非接触式変位検出センサ３によってこのセンサとの相対的変位量を検出する検出対象部材４を備えた昇降体５と、この昇降体５に固定され、駆動体２に伸縮部材１２を介して連繋された作動体９と、小物品係脱部材６の位置を検出する位置検出センサと、位置検出センサが、小物品係脱部材６が小物品載置面から所定範囲の高さに位置していることを検出している間のみ非接触式変位検出センサ３をオン状態とし、非接触式変位検出センサ３が、検出対象部材４が所定の変位量を超えたことを検出すると駆動体２の昇降動を停止するよう制御する制御部と、からなる。 （もっと読む）

【課題】透明な基板の縁に面取り部が形成されていない場合や、透明な基板が薄い場合であっても、その基板の位置を検出することができる基板位置検出装置及び基板位置検出方法を提供する。
【解決手段】基板位置検出装置１００は、基板Ｗ１を載置する回転テーブル２０と、回転テーブル２０を基板面の垂直方向Ｄ１を回転軸として回転させる駆動部３０と、回転テーブル２０が載置する基板Ｗ１の垂直方向Ｄ１以外の方向から基板Ｗ１の縁部に対して光を照射する照射部８０と、照射部８０が照射する光の受光強度を測定し駆動部３０の回転軸と直交する方向に複数配列され、照射部８０が照射する光の受光強度を測定する受光センサ６０_１、・・・、６０_ｎと、駆動部３０が回転テーブル２０を回転させた場合における各受光センサが測定する受光強度の変化に基づいて回転テーブル２０における基板Ｗ１の位置を検出する制御装置１０とを備える。 （もっと読む）

【課題】カセット内の複数の基板の収納状態を迅速且つ確実に検出すること。
【解決手段】前面に搬出入口が形成されたカセットに収納された複数の基板の収納状態を検出するための装置において、カセット内の複数の基板を前方から照らす光源を有する照明手段と、カセット内に収納された複数の基板を前方から撮像するための撮像手段と、撮像手段により取得された複数の基板の画像を処理する画像処理手段と、を備える。画像処理手段は、光源によって基板の前端面に形成された照明反射像を画像処理し、照明反射像の特徴量を解析することにより複数の基板の収納状態を検出する。 （もっと読む）

【課題】
レチクルとウェハ（ウェハステージ）との位置合わせ計測に用いる手順を状況に応じて変更させるようにした露光装置及びデバイス製造方法を提供する。
【解決手段】
原板（レチクル）ステージに保持された原板を基板（ウェハ）ステージに保持された基板に位置合わせして原板のパターンを基板に投影し基板を露光する露光装置であって、原板に付されたマークと基板ステージに付されたマークとの位置関係を計測する計測部と、原板に付されたマークと基板ステージに付されたマークとを計測部の視野内に入れて計測部に計測を実行させる制御部とを具備し、制御部は、第１の手順（第１の手順は、第２の手順よりも計測部による原板に付されたマークの計測回数が少ない）及び第２の手順を少なくとも含む複数の手順のいずれかにしたがって計測部に計測を実行させ、当該実行した計測により得られた結果に応じて位置合わせを行なうように構成される。 （もっと読む）

【課題】ステージと防振台とが相対変位しないようにステージを制御する。
【解決手段】ステージと、前記ステージが取り付けられた基準台に対して該ステージを並進駆動する第１駆動手段と、前記並進駆動の方向とは異なる回転軸の周りに前記ステージを回転駆動する第２駆動手段と、前記ステージの目標位置に基づいて前記第１及び第２駆動手段の駆動力を制御する第１制御手段と、を有するステージ装置において、前記ステージを前記目標位置へ駆動するための目標軌道に基づいて、前記ステージが加速駆動されることで前記基準台がその反作用を受けて変位する際の該ステージの位置における加速度を求め、該求めた加速度が更に前記ステージに加わるように前記第１及び第２駆動手段の駆動力を制御する第２制御手段を備える。 （もっと読む）