【課題】処理液の使用量を低減することができるとともに処理液の温度変動を抑制することができ、かつ、単純化された装置構成を有する基板処理装置を提供する。
【解決手段】基板処理装置１０は、一つの基板Ｗを保持し保持した一つの基板を処理する処理ユニット６０と、複数の基板Ｗを同時に収容可能な処理槽であって、基板を浸漬して処理するための処理液を循環供給されながら貯留する処理槽と、前記処理槽の基板収容可能数未満の数の基板を同時に搬送可能な搬送装置と、を備える。搬送装置は、少なくとも前記処理液が貯留された前記処理槽へ基板を搬送する。前記処理ユニットと前記処理槽との少なくともいずれか一つを用いて基板が処理される。 （もっと読む）

【課題】基板の大口径化や超大口径化に伴う基板搬送時の基板中央部の自重による撓みを抑制ないし防止する。
【解決手段】大口径の基板ｗの上方又は下方に移動される支持部１７と、該支持部１７に設けられ基板ｗの周縁部を掴んで支持する掴み機構２８とを有する基板搬送装置において、上記支持部１７に、基板の上面中央部又は下面中央部を撓まないように空気層を介して非接触で吸引保持する非接触吸引保持部３０を１つ又は複数設け、該非接触吸引保持部３０は、上記基板の上面又は下面に向って突設された柱体又は錐体からなる負圧形成突部３１と、該負圧形成突部３１に対して側方から気体を噴出することにより負圧形成突部３１の近傍に負圧を形成するための気体噴出ノズル３２とを備えている。 （もっと読む）

【課題】基板の大口径化や超大口径化に伴う基板搬送時の基板中央部の自重による撓みを抑制ないし防止する。
【解決手段】大口径の基板ｗの上方又は下方に移動される支持部１７と、該支持部１７に設けられ基板ｗの周縁部を掴んで支持する掴み機構２８とを有する基板搬送装置において、上記支持部１７に、基板の上面中央部又は下面中央部を撓まないように空気層を介して非接触で吸引保持する非接触吸引保持部３０を１つ又は複数設け、該非接触吸引保持部３０は、上記基板の上面又は下面に対向する平面円形の本体３１と、該本体に形成され中央に向って深くなるように傾斜した傾斜面３２ａを有する凹部３２と、該凹部３２の中央に設けられ上記傾斜面に沿って流れるように気体を放射状に噴出することにより負圧を発生させるための複数の気体噴出ノズル３３と、上記凹部３２の周縁部に適宜間隔で形成された気体逃げ溝３４とを備えている。 （もっと読む）

【課題】絶縁体からなる基板の位置ずれをある程度許容しつつ，異常放電の発生を未然に防止する。
【解決手段】載置台３００とこの載置台３００の基板保持面に保持された基板Ｇとの間にガスを供給するためのガス流路３５２と，ガス流路からのガスを基板保持面上に案内する複数のガス孔３５４と，基板の周縁よりも外側に所定の位置ずれ許容量ｂだけ離間して周縁に沿って配設され，載置台の基板保持面よりも高くなるように突出した位置ずれ検出用突起３３２と，ガス流路の圧力を測定するマノメータ３６３と，載置台上に基板を保持したときに，圧力測定手段からの検出圧力に基づいてガス孔からのガスの漏れ量を検出し，その検出結果に基づいて所定の位置ずれ許容量以上の基板の位置ずれの有無を検出する制御部４００とを設けた。 （もっと読む）

【課題】簡易、低コストの構成で浮上搬送式の基板処理を行うようにした基板処理装置を提供する。
【解決手段】搬送方向（Ｘ方向）からみてステージ８０の左右両サイドにそれぞれ複数個のローラまたはサイドローラ１１０が搬送方向に一定ピッチで一列に配置されている。ステージ８０上で基板Ｇは、真下（ステージ上面）の噴出口１００から受ける気体の圧力で空中に浮きながらその左右両側端部がステージ両サイドのサイドローラ１１０の上に乗る。サイドローラ１１０の回転運動により、ステージ８０上で浮上する基板Ｇはサイドローラ１１０の上を転々と伝わりながら搬送方向（Ｘ方向）に平流しで移動する。 （もっと読む）

【課題】複雑なアライメント機構を用いずに搬送位置精度を高精度に維持し、ガラス板を清浄に維持しながら、水平コロコンベアでは得られない高速搬送、及び瞬時の停止を実現するガラス板搬送装置を提供する。
【解決手段】ガラス板９の下面側よりエアーを吹き付け、ガラス板９を浮上させる多孔質パッド１１を配置した保持部位１０と、その外側位置には搬送方向にガイド３１及びレール３２を配置した駆動部位３０と、駆動部位３０の一部表面上には駆動連結アーム２３とアーム２２及びハンド２１を一体構造とした移動部位２０とからなり、ガラス板９を保持部位１０により浮上させて保持し、搬送軸センター３近傍に整列したガラス板９ｃをハンド２１が補助的に板端面から挟み込むように把持し、ガラス板９ｃを駆動部位３０により搬送方向に高速に移動、停止する駆動機能を装備した。 （もっと読む）

【課題】基板処理メニスカスによって残される入口マークおよび／または出口マークを低減させるためのキャリア
【解決手段】上側および下側のプロキシミティヘッドによって形成されるメニスカスによって処理されている基板を支えるためのキャリアについて説明される。キャリアは、基板を受ける大きさの開口と、該開口内において基板を支えるための複数の支持ピンとを有するフレームを含む。開口は、基板と開口との間にギャップが存在するように基板よりわずかに大きくしてある。基板上の入口マークおよび／または出口マークの大きさと頻度とを低減させるための手段が提供され、該手段は、メニスカスからの液体をギャップから立ち退かせることを補助および促進する。入口マークおよび出口マークの大きさと頻度とを低減させるための方法も、提供される。 （もっと読む）

【課題】保持テーブル上に水層を介してウエーハを保持するための給水量を減らして表面張力が強い状態であってもウエーハを水層上から剥離して搬送できるようにする。
【解決手段】水層１６２を介して保持テーブル１６３に保持されたウエーハＷに対する搬送手段１７の吸着パッド１７１の吸着位置を、パッド中心φ２がウエーハＷの中心φ１に一致しないようにずれた位置に設定して、吸着パッド１７１で吸着した状態で搬送アーム１７２を鉛直方向に上昇させて搬送させることで、ウエーハ中心位置で吸着する場合に比べて格段に水層１６２からのウエーハＷの吸着剥離が容易となるようにした。 （もっと読む）

【課題】試料が大きくなったことから試料台からのエアー吹き出しでは、十分試料が浮上しないため、試料と試料台の摺動抵抗が大きくなり、アクチュエータが十分機能せず、必要な位置決め精度を確保できない。該位置決め装置において、試料が大きくなっても、試料位置決め精度が確保できる様にすること。
【解決手段】試料位置決め方法及び装置の昇降ピンの先端をボール形状にすることにより、摺動抵抗を小さくする。大型試料にも対応し、試料位置決め精度の向上を図ることができ、また、位置制御ユニットを斜めに配置し、クランプピンを昇降させ対物レンズとの接触による干渉を回避することができる。 （もっと読む）

【課題】 基板の位置を確実に、高精度で調整することができ、しかも基板の移動と基板の位置の調整とに要する時間を短縮することができる基板搬送装置および基板搬送方法を提供する。
【解決手段】 移動ステージ５によって、アライメントマーク３が形成された基板２を、搬入位置から処理位置へ向かって移動させるとともに、各粗調用撮像部６によって、基板２のアライメントマーク３を含む第１領域を、第１倍率で撮像する。演算処理部９は、第１領域の撮像画像に基づいて第１補正量を計測して、基板２の移動中に、基板２の位置を第１補正量に応じて調整する。基板２が処理位置に到達した後、各微調用撮像部７によって、基板２のアライメントマーク３を含み、かつ第１領域よりも狭い第２領域を、第１倍率よりも高い第２倍率で撮像する。演算処理部９は、第２領域の撮像画像に基づいて第２補正量を計測して、基板２の位置を第２補正量に応じて調整する。 （もっと読む）

【課題】ステージ上に載置する際の電子部材の位置精度を高くすることができる搬送装置を提供する。
【解決手段】複数の角部を有する板状の電子部材を載置するステージ１０と、ステージ１０に設けられ、前記複数の角部それぞれに対応する位置に配置された複数の吸着穴１１とを具備する。電子部材が長方形の半導体チップ１である場合、吸着穴１１は半導体チップ１１の４つの角部それぞれに対応する位置に配置される。また、電子部材が、長方形の板を、４つの角部が残るように部分的に切り欠いた形状を有している場合、吸着穴１１は、前記４つの角部それぞれに対応する位置に配置される。 （もっと読む）

【課題】半導体製造工程や液晶パネル製造工程において、円形基板の位置決めを、簡易な構造で迅速かつ高精度で行えるようにする。
【解決手段】回転可能な基板載置面上に仮置きされた円形基板Ｗを、基板載置面に形成された微細孔１５からの噴出空気で浮上させる一方、円形基板Ｗの下面とブロック２２上面との間に、噴出孔２４から風向Ａ方向をなす空気流を噴出させて、この空気流により、上記仮置きされた円形基板ＷをＸ軸方向に沿ってガイド部３０側に移動させ、ガイド部３０に当接させてスピンドル回転軸と円形基板Ｗの芯出し位置調整を行う基板移動部２０とを備える。さらにスピンドル１１の回転により円形基板Ｗを回転させることで、その外周縁に形成されたノッチＮをセンサ３５で位置検出し、回転方向の位置決めも行う。 （もっと読む）

本発明は基板をウェハ・チャックに保持する方法に向けられる。この方法は基板の一部分をウェハ・チャックに向けて加速させ、ウェハ・チャックへ向かう基板の移動の速度を生成させ、基板がウェハ・チャックに到達する前に速度を下げることを特徴とする。この方式で、ウェハ・チャックとこの部分の衝突の力が大幅に削減され、これは基板の構造的完全性が傷つけられる可能性、さらには基板上の層および／またはウェハ・チャックが傷つけられる可能性を下げる。
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【課題】気体圧を用いて基板を浮上支持する基板支持装置において、基板の浮上量のばらつきを抑制することである。
【解決手段】基板支持装置のステージは、入口精密浮上領域２８−前方粗浮上領域２４−中央精密浮上領域２２−後方粗浮上領域２６−出口精密浮上領域３０の順に配置される。各精密浮上領域２２，２８，３０には、複数の多孔質円板３４が配列され、精密に制御された基板浮上用の加圧気体が供給される。各粗浮上領域の長さをＡ、各精密浮上領域の長さをＢ、基板の長さをＬとして、Ａ＋Ｂは略Ｌに等しい長さとし、各精密浮上領域が有する各多孔質円板３４の全数をＮとし、基板が各精密浮上領域から浮上力を受ける各多孔質円板３４の合計数をｎとして、基板がステージの上を移動する全期間において、ｎ／Ｎを一定となるように、各長さを定める。 （もっと読む）

【課題】 吸着支持テーブルによる円形平面基板の裏面に対する接触面積を少なくし、かつ円形平面基板の平面性を確保できる円形平面基板の吸着支持装置を提供する。

【解決手段】 表面に精密塗工が施される円形平面基板Ｍを吸着支持テーブル１上に支持する吸着支持装置において、吸着支持テーブル１の上面全域に、中空部が吸着孔として設定された複数の筒形ピン４を均等に分散配置したことを特徴とする円形平面基板の吸着支持装置、また上記の中空部が吸着孔として設定された複数の筒形ピン４とともに、中実ピンを均等に分散配置してなる上記構成の円形平面基板の吸着支持装置。 （もっと読む）