【課題】重量を軽く、保持テーブルの外周部上面と被加工物を保持する保持部の上面とに段差が生じない保持テーブルを備えた切削装置のチャックテーブルを提供する。
【解決手段】被加工物を保持するチャックテーブル４であって、吸引手段に連通する嵌合凹部４１１ａを備えた基台４１と保持テーブル４２とからなり、保持テーブル４２は、保持領域４２１ａと保持領域４２１ａを囲繞し、保持領域４２１ａより低い環状の段差部４２１ｂを備え、下面中央部に嵌合凹部４１１ａの直径より小さい吸引凹部４２１ｃを備えた多孔性セラミックス板４２１と、多孔性セラミックス板４２１の段差部４２１ｂと側面４２１ｄと下面に被覆された金属被覆部４２２と、吸引凹部４２１ｃより大きい直径を有し中央部に連通穴４２３ａを備え多孔性セラミックス板４２１の下面に被覆された金属被覆部４２２に電気的に接続された連結部材４２３とを具備している。 （もっと読む）

【課題】 移動荷重を受けるワークの高精度な位置補正を行う。
【解決手段】 ベース１の上方に、移動荷重が作用するワークを保持するトップテーブル４ａを配置し、ベース１とトップテーブル４ａとの間にて、荷重移動方向Ｌに千鳥配置となるトップテーブル４ａの中央と四角部に対応する個所に、Ｘ、Ｙ、θの３自由度を備えた支持ユニット１３と、支持ユニット１３と同様の構成に加えて一軸方向のボールねじ直動機構９を有する駆動ユニット１４Ａ，１４Ｂ，１４Ｃ，１４Ｄを介装する。一方と他方の対角位置の駆動ユニット１４Ａ，１４Ｂと１４Ｃ，１４Ｄは、ボールねじ直動機構９を直交配置させる。ワークを介してトップテーブル４ａに荷重移動方向Ｌに移動しながら作用する移動荷重を、各駆動ユニット１４Ａ，１４Ｃ、支持ユニット１３、各駆動ユニット１４Ｂ，１４Ｄで連続的に受けることで、トップテーブル４ａの変形を抑制させる。 （もっと読む）

【課題】移動体の駆動手段を制御する電流制御装置が制御の遅れ特性を有していても高精度な位置制御を行うこと。
【解決手段】電流値に応じた推力を発生させて制御対象３０１を駆動するリニアモータと、リニアモータへ入力する電流値をフィードバック制御するリニアモータドライバ３０３と、制御対象３０１の伝達関数とリニアモータドライバ３０３の遅れ特性を含んだ伝達関数とを用いて、制御対象３０１をフィードフォワード制御するための第１の操作量Ｓ１を生成するフィードフォワード制御部１０２と、制御対象３０１に生じる外乱を、制御対象３０１の伝達関数とリニアモータドライバ３０３の遅れ特性を含んだ伝達関数とを用いて推定する外乱オブザーバ１０４と、を備え、第１の操作量Ｓ１を推定外乱ｄ’に基づき補正して得られる第２の操作量Ｓ４に従って、リニアモータドライバ３０３が電流値のフィードバック制御を行う。 （もっと読む）

方法は、感光材料の層を上に有する基板を用意する工程と、連続する第１、第２、及び第３の部分を有するマスクを用意する工程であって、順次、ｉ）第１の部分を第１の速度の光線で走査し、その後露光領域で感光材料に衝突させ、ｉｉ）第２の部分内に走査する工程を固定し、ｉｉｉ）第３の部分にわたって走査を再開する、工程と、を含む。該プロセスにわたって、該基板が露光領域を通って移動する。該プロセスを実行するための装置は、光線源と、マスクマウントと、マスクステージと、コンベヤーアセンブリと、光線を矩形光線に操作するための少なくとも１つの光学素子と、を含む。 （もっと読む）

【課題】移動体の傾斜によって生じる計測システムの計測誤差の影響を受けることがない、高精度な移動体の駆動を実現する。
【解決手段】 制御装置により、計測システム７０によって計測される微動ステージＷＦＳの計測方向に関する位置情報と、該位置情報に含まれる微動ステージＷＦＳの傾斜に起因する計測誤差の補正情報とに基づいて、微動ステージＷＦＳが駆動される。従って、微動ステージＷＦＳの傾斜によって生じる計測システムの計測方向に関する位置情報に含まれる計測誤差の影響を受けることがない、高精度な微動ステージＷＦＳの駆動が可能になる。 （もっと読む）

【課題】載置ずれや変形を生じさせることなく基板をの受け渡すことができる基板保持装置、ステージ装置、露光装置、及びデバイス製造方法を提供するしを行うこと。
【解決手段】基板を保持する基板保持装置９は、基板が載置される複数の基板載置部３１と、複数の基板載置部３１を区画する凹部３０と、凹部３０と載置部３１の背部空間とを連通させる複数の連通孔４０と、を備える。 （もっと読む）

【課題】制御モデルの同定を最適化し、以ってフィードフォワード制御による高精度な位置制御を行う。
【解決手段】制御対象物の制御特性を表すモデルを用いた完全追従制御により前記制御対象物をフィードフォワード制御するフィードフォワード制御手段を備えた制御装置において、前記モデルは、前記制御対象物の周波数応答曲線における第１の変曲点が周波数１０Ｈｚより低い領域に存在し、且つ、第２の変曲点が前記第１の変曲点の周波数より高く周波数１０Ｈｚより低い領域に存在している場合に、前記第１及び第２の変曲点を含む周波数範囲において前記周波数応答曲線との誤差が最小となるようにモデルパラメータが設定されている。 （もっと読む）

【課題】高精度なフォーカス制御を実現する。
【解決手段】第１基板が載置されたステージを所定方向に走査し、該所定方向に沿って設けられた第１及び第２投影光学ユニットを介して第１基板のパターンを第２基板に露光する。ステージに第３基板を載置してステージを所定方向に走査する第１ステップと、第３基板上に所定方向に沿って配置された複数のマークを第１投影光学ユニットを介して検出し、複数のマークに対応する第１投影光学ユニットの第１フォーカス位置情報を計測する第２ステップと、複数のマークを第２投影光学ユニットを介して検出し、複数のマークに対応する第２投影光学ユニットの第２フォーカス位置情報を計測する第３ステップと、第１及び第２フォーカス位置情報に基づいて、前記パターンに対応する第１及び第２投影光学ユニットの各フォーカス位置と第２基板との相対位置を調整する第４ステップと、を含む。 （もっと読む）

【課題】基板貼り合わせ装置のスループットを向上させる。
【解決手段】素子を形成された基板を貼り合わせる基板貼り合わせ装置であって、前記基板に対して処理を実行する３以上の処理部と、前記３以上の処理部の夫々に対して前記基板を搬送する搬送部とを備え、前記３以上の処理部のいずれかは、前記基板を互いに位置合わせして重ね合わせる位置合わせ装置であり、前記３以上の処理部の夫々は前記搬送部の回動中心に対する円周上に配される。 （もっと読む）

【課題】ウェハの直径が大きくなる傾向にある近年、ウェハのウェハホルダに対する着脱、ウェハホルダの各装置に対する着脱を正確、高速かつ安定的に行うことが困難になってきている。
【解決手段】基板を保持する基板ホルダと、基板ホルダを載置するステージとを含む半導体処理装置であって、基板ホルダは、基板を保持するための静電吸着部と、基板を保持する保持面に設けられた貫通孔とを備え、ステージは、一端の開口が基板ホルダを載置する載置面において貫通孔と接続される第１吸引導管と、一端の開口が載置面において貫通孔とは接続されずに基板ホルダに対向する第２吸引導管とを備える。 （もっと読む）

【課題】プロキシミティ露光装置の振動によるマスクの損傷を防止する。
【解決手段】基板１をチャック１０により支持し、マスク２をマスクホルダ２０により保持する。所定値以上の振動の発生を検知したとき、マスクホルダ２０とチャック１０との間隔を広げて、マスクホルダ２０に保持されたマスク２がチャック１０又はチャック１０に支持された基板１に接触するのを防止する。あるいは、所定値以上の振動の発生を検知したとき、マスクホルダ２０とチャック１０又はチャック１０に支持された基板１との間に緩衝部材を入れて、マスクホルダ２０に保持されたマスク２がチャック１０又はチャック１０に支持された基板１に接触するのを防止する。 （もっと読む）

【課題】高加速化を実現しつつ、小型化、軽量化をも体現したステージ装置を提供する。
【解決手段】第１可動部３２と第２可動部３３とを含み、定盤３０に対して移動するステージと、第１可動部３２に対して第２可動部３３を位置決めする第１アクチュエータ３７と、第１可動部３２に対して第２可動部３３の加減速をする第２アクチュエータとを備えたステージ装置であって、第２アクチュエータは、第２可動部３３に第１軸に平行な方向へ力を与える電磁石と、前記第１軸に平行しない第２軸に平行な方向へ力を与える電磁石とを含む複数の電磁石４０ａ〜４０ｄで構成され、該複数の電磁石４０ａ〜４０ｄは、該各電磁石の発生する力の力線４２が、第２可動部３３の重心４１からオフセットし、かつ、力線４２がそれぞれ複数個所で交差するように配置される。 （もっと読む）

【課題】 半導体ウエハが収容された状態で意図せず乾燥してしまうことを防止することが可能なウエハ搬送方法およびウエハ搬送装置を提供すること。
【解決手段】 コンベア１によって搬送されるウエハＷｆを収容カゴ３に収容する、ウエハ搬送方法であって、コンベア１によって鉛直方向と異なる方向に搬送されるウエハＷｆを、方向転換器２によってその面内方向が鉛直方向に沿い、かつ鉛直方向下方に進行するようにウエハＷｆの進行方向を転換した後に、ウエハＷｆを、液体Ｌｑ中に配置されかつ鉛直上方に開口する収容カゴ３に収容する。 （もっと読む）

【課題】可動部の姿勢を高い精度で制御することができる駆動装置を提供する。
【解決手段】駆動装置は、第１方向に移動する第１可動部と、前記第１可動部をその一端側および他端側において浮上させて支持する気体ベアリングをそれぞれ含む２つの浮上機構と、前記第１可動部によって支持およびガイドされながら前記第１方向に直交する第２方向に移動する第２可動部と、前記２つの浮上機構を制御する制御部とを有し、前記２つの浮上機構は、それぞれ前記第１可動部の浮上量を磁力によって変化させる電磁石を含み、前記制御部は、前記２つの浮上機構のそれぞれの前記電磁石の励磁を前記第２可動部の前記第２方向における位置に応じて制御する。 （もっと読む）

【課題】レーザー照射により捺印を形成する工程における半導体ウェハの搬送を容易にする固定治具およびそれを用いた半導体装置の製造方法を提供する。
【解決手段】本発明の固定治具１は、平面視でＣ字形状を呈するクランパ３と、クランパ３に配置された半導体ウェハの周囲に接触するクランプリング２とから主に構成されている。更に、クランパ３の内側端部を厚み方向に窪ませて段差部６が設けられており、半導体ウェハはこの段差部６に収納された状態で、クランプリング２により固定される。この様に固定治具１により半導体ウェハを固定することにより、捺印工程における半導体ウェハのハンドリングが容易になる利点がある。 （もっと読む）

【課題】 基板を保持するステージを支持する定盤の温度均一性を高める。
【解決手段】 基板の複数のショット領域を順に露光する露光装置であって、基板を保持するステージと、前記ステージを支持する定盤と、前記ステージを前記定盤に対して平行な平面内で駆動する平面モータと、前記定盤を冷却する冷却ユニットと、を備え、前記定盤は、最初のショット領域の露光が開始されてから最後のショット領域の露光が終了されるまでの露光処理期間においてその中に前記ステージの一部が常に存在する領域の外縁を規定する第１境界線と、前記露光処理期間において前記ステージが駆動される領域の外縁を規定する第２境界線と、の間に設定される第３境界線によってその外縁を規定される第１領域と、前記第３境界線によってその内縁を規定され、前記第１領域よりも前記露光処理期間内における温度上昇が小さい第２領域とを含み、前記冷却ユニットは、前記第１領域内で冷媒を流す第１冷却路と前記第２領域内で冷媒を流す第２冷却路とを含む。 （もっと読む）

【課題】定盤の振動を抑制すると共に、ステージ装置を小型化する。
【解決手段】機構５０では、フレーム２１でシャフト部１２ｘが架台２に連結固定されると共に、ガイド２２でシャフト部１２ｘが定盤４に対してＸ軸方向に相対移動可能とされ、定盤４とＸ軸シャフト部１２ｘとの間でＸ軸反力が逃がされる。よって、Ｘ軸反力がシャフト部１２ｘに加わると、このＸ軸反力は定盤４に伝達されることなく架台２に伝達される。また、Ｙ軸及びＺ軸方向におけるシャフト部１２ｘと定盤４との相対移動がガイド２２で規制されることから、これらの位置関係が保持される。さらに、シャフト部１２ｘが逃げ機構２４を介して架台２に連結固定されることから、例えば架台２に加わる外力でシャフト部１２ｘがズレることが抑制される。よって、シャフト部１２ｘとコイル部１３ｘとの間隔を大きくすることなくこれらの接触を抑制できる。 （もっと読む）

【課題】ウェハの直径が大きくなる傾向にある近年、重ねあわされる互いのウェハ全面においてサブミクロンの精度で高速に位置合わせを行うことが困難になってきている。特に、一方のウェハに対して他方のウェハを、位置合わせ指令に従って正確にかつ高速に移動させることができる位置合わせ装置が望まれている。
【解決手段】複数のウェハを重ね合わせる位置合わせ装置は、一の基板を保持する第１ステージと、第１ステージに対向して配され、他の基板を保持する第２ステージと、駆動力を第２ステージに対して作用させることにより、並進３自由度及び回転３自由度のうちの少なくとも５自由度で第２ステージを駆動するアクチュエータと、アクチュエータを制御して第２ステージに保持された他の基板を第１ステージに保持された一の基板に重ね合わせる制御部とを備える。 （もっと読む）

【課題】基板上のマークの位置をより短い時間で検出し、基板へのパターンの転写のために要する時間を削減する。
【解決手段】原版のパターンを基板の複数のショット領域に順に転写する。各ショット領域は、チップ領域１０２ａとそれを取り囲むスクライブライン領域Ｓ１とを含む。露光装置は、走査方向に駆動されている基板における隣接する第１スクライブライン領域Ｓ１、第２スクライブライン領域Ｓ２を同時に観察し、前記第１スクライブライン領域、前記第２スクライブライン領域にそれぞれ配置されている第１マーク１０４ａ、第２マーク１０４ｂからの光を検出する検出器と、前記検出器から出力される検出信号を処理して前記第１マーク、前記第２マークの位置を決定する処理部とを備える。前記基板は、前記第１マークおよび前記第２マークの位置に基づいて位置決めされ、露光される。 （もっと読む）

【課題】製品の歩留まりを向上させる露光方法を提供する。
【解決手段】本発明の露光方法は、レチクルのデバイスパターンをウエハに露光する露光方法であって、前記レチクルを第１の角度で配置して該レチクルの第１の平面度を測定する工程と、前記レチクルを第２の角度で配置して該レチクルの第２の平面度を測定する工程と、前記第１の平面度及び前記第２の平面度の測定結果に基づいて露光時における該レチクルの設定角度を決定する工程とを有する。 （もっと読む）