【課題】ウエハステージの駆動方向によって発生する微小振動を適切に処理し、１つのウエハ内の露光精度を均一に保つ露光装置及び露光方法を提供する。
【解決手段】原版を保持する原版ステージと、基板を保持、及び移動可能とする基板ステージと、原版のパターンを基板に投影する投影光学系と、基板ステージの位置を計測する位置計測手段と、該位置計測手段の計測値に基づいて、基板ステージの駆動を制御する制御手段と、を有し、ステップ・アンド・リピート方式によって原版のパターンを基板に露光する露光装置であって、制御手段は、基板ステージが、基板を位置決めするために露光位置に向けて駆動する際、予め測定した、基板ステージの駆動方向による、目標位置、倍率、若しくは回転のうち、少なくとも１つのずれ量に基づいて、基板ステージの駆動位置の補正を実施する（Ｓ１０３〜Ｓ１０７）。 （もっと読む）

【課題】載置棚に転用可能なフローティングテーブルの提供。
【解決手段】基台１１０と、基台１１０に対し水平方向に移動自在な載置台１２０と、基台１１０に垂直方向に移動可能に取り付けられ、載置台１２０と係合することにより載置台１２０の移動を規制する規制部材１３０と、規制部材１３０と載置台１２０との係合状態を維持する維持機構１４０とを備える。 （もっと読む）

【課題】エンコーダシステムを用いたステージを位置決めする場合、スケール間に存在する幾何学的誤差に起因する計測誤差を低減する。
【解決手段】可動体に配置された複数のセンサと、構造体に取り付けられた複数のスケールとを有し、前記可動体の変位を検出することによって前記可動体の位置を計測する計測装置であって、前記複数のスケールは、第１方向における前記可動体の変位を検出するための２つの第１スケールと、前記第１方向とは異なる第２方向における前記可動体の変位を検出するための２つの第２スケールとを含み、２つのセンサによる検出値とが等しくなるように前記可動体を前記第１位置から前記第２位置に移動させたときに前記２つの第１スケールに対向している２つのセンサによってそれぞれ検出される変位の間の差に基づいて、前記２つの第１スケールの間に存在する幾何学的誤差に起因する計測誤差を低減する制御部とを備える。 （もっと読む）

【課題】振動の影響を受けることなく位置合わせする。
【解決手段】定盤から支持されて、第一基板を保持する第一ステージと、定盤から支持されて、第一ステージに保持された第一基板に対向させて第二基板を保持する第二ステージと、第二ステージまたは第二ステージに保持された第二基板を観察する第一顕微鏡と、第一ステージまたは第一ステージに保持された第一基板を観察する第二顕微鏡と、定盤から第一ステージへの振動伝播を抑制する第一除振部とを備え、第一顕微鏡および第二顕微鏡による観察から検出した相対位置に基づいて第一ステージ及び第二ステージの少なくとも一方を移動させることにより、第二ステージに保持された第二基板と、第一ステージに保持された第一基板とを互いに位置合わせする位置合わせする。 （もっと読む）

【課題】 基板を位置合わせして重ね合わせる場合に、面と面を接触させるときに互いの面の傾きが大きいと、その後実行される倣い動作において繰り返される試行動作の回数が増えてしまい、装置としてのスループットの低下を招いていた。
【解決手段】 基板重ね合わせ装置は、第１基板を保持する第１ステージと、第１基板に対向して配置される第２基板を保持する第２ステージと、第１ステージに保持された第１基板の接合面である第１接合面と、第２ステージに保持された第２基板の接合面である第２接合面の相対的な傾きを取得する取得部と、第１ステージおよび第２ステージの少なくとも一方を、取得部が取得した傾きに基づいて、第１接合面と第２接合面が互いに平行となるように駆動する駆動部とを備える。 （もっと読む）

【課題】スケール用のパターンが形成されたパターン形成面の法線方向の位置情報を高精度に計測する。
【解決手段】スケール体２８ｅは、Ｙスケール３９Ｙ₂が形成されたパターン板４ｅと、パターン板４ｅに設けられ、Ｙスケール３９Ｙ₂を覆うカバーガラス５と、カバーガラス５の表面に形成され、互いに異なる波長域の第１の光及び第２の光に対して波長選択性を有する波長選択膜７と、を備え、波長選択膜７を介してカバーガラス５を透過する第１の光の透過率は、カバーガラス５のみを透過する第１の光の透過率より低く、波長選択膜７を介してカバーガラス５を透過する第２の光の透過率は、波長選択膜７で反射する第２の光の反射率より高い。 （もっと読む）

【課題】基板の位置合わせ（ウエハアライメント）を短時間で行うことができる技術を提供する。
【解決手段】ステージ５０に保持された基板４０に形成されたマークからの光を検出する複数の領域が第１の方向に配列されたセンサ７０４と、ステージを駆動する第１の駆動部６０と、センサに入射するマークＡＭからの光が第１の方向に沿って移動しながら、複数の領域に順に入射するように、ステージを基板の高さ方向に直交する第２の方向に駆動しつつ、ステージを基板の高さ方向にも駆動するように、第１の駆動部を制御する制御部８０と、センサからの信号を処理する処理部９０と、を有し、処理部は、信号によって与えられる第１の方向に沿った光強度の分布において、ピークを示す基板の高さ方向の位置を決定することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】基板の一面を複数の露光領域に分けて露光するプロキシミティ露光装置を小型化する。
【解決手段】基板１を支持するチャック１０と、マスク２を保持するマスクホルダ２０と、チャック１０を移動するステージと、マスクホルダ２０を移動するマスクホルダ移動装置とを設け、ステージによりチャック１０をＸ方向（又はＹ方向）へ移動して、基板１の露光領域のＸ方向（又はＹ方向）への変更を行い、マスクホルダ移動装置によりマスクホルダ２０をＹ方向（又はＸ方向）へ移動して、基板１の露光領域のＹ方向（又はＸ方向）への変更を行う。露光領域をＹ方向（又はＸ方向）へ変更する際は、マスク２より大きな基板１をＹ方向（又はＸ方向）へ移動する必要が無く、マスク２がマスク２より大きな基板１の上方でＹ方向（又はＸ方向）へ移動される。従って、露光装置のＹ方向（又はＸ方向）の寸法を小さくすることができる。 （もっと読む）

【課題】可動フレームが上下方向に変動し難いとともに、可動フレームが変形し難い非接触軸受構造を有するステージ装置を提供する。
【解決手段】ステージ装置２は、平らな上面を有するベースプレート５０と、ベースプレート５０の上で浮上する可動フレーム４０を備えている。可動フレーム４０の下面には、ベースプレート５０との間に斥力を発生する斥力部４２と、ベースプレート５０との間に吸引力を発生する吸引部４６とが隣接して設けられている。吸引部４６は、その吸引力が斥力部４２から離れるにつれて小さくなっている。斥力と吸引力が作用するので可動フレーム４０が上下方向に変動し難い。また、吸引力の中心と斥力の中心の間の距離が小さいので、互いに反対方向に作用する斥力と吸引力に起因する可動フレームの面外方向変形が抑制される。 （もっと読む）

【課題】基板を所定の二次元平面に沿って高速、且つ高精度で案内する。
【解決手段】基板Ｐは、枠状に形成された軽量な基板保持枠６０により吸着保持され、基板保持枠６０は、リニアモータを含む駆動ユニット７０により水平面に沿って駆動される。基板保持枠６０の下方には、基板Ｐの下面にエアを噴出して、その基板Ｐが概ね水平となるように非接触浮上支持する複数のエア浮上ユニット５０が配置されている。複数のエア浮上ユニット５０は、基板保持枠６０の移動範囲をカバーしているので、駆動ユニット７０は、高速且つ高精度で基板保持枠６０（基板Ｐ）を水平面に沿って案内できる。 （もっと読む）

【課題】基板の対する処理を高精度で行う。
【解決手段】 基板Ｐの下方には、基板Ｐの下面にエアを噴出する複数のエア浮上ユニット５０が配置され、基板Ｐは、概ね水平となるように非接触支持される。また、基板Ｐは、定点ステージ４０により被露光部位が下方から非接触保持され、その被露光部位の面位置がピンポイントで調整される。従って、基板Ｐに高精度で露光を行うことができ、かつ基板ステージ装置ＰＳＴの構成を簡単にすることができる。 （もっと読む）

【課題】真空吸着機構からの基板の落下を防止する。
【解決手段】基板を保持する保持領域を有する本体と、本体における保持領域の外周に配され、保持領域を下向きにして本体が支持された状態で本体の落下を防止する落下防止部材が係合する係合部とを備える基板ホルダが提供される。また、基板を保持する保持領域および保持領域の外周に配された係合部を有する基板ホルダをその保持領域が下方を向いた状態で保持する上ステージと、上ステージに保持された基板ホルダの係合部に係合して基板ホルダの落下を防止する落下防止位置と、基板ホルダの外方へ退避する退避位置との間で移動可能な落下防止部材とを備えるステージ装置が提供される。 （もっと読む）

【課題】サブステージにまたはその近傍に力を発生させるための熱が発生しない改善されたリソグラフィ装置の位置決めシステムを提供する。
【解決手段】サブステージ９は、メインステージ５に対して第１位置１１と第２位置１３の間で一方向に移動可能である。この方法は、メインステージ５の位置決めによって起動される受動力システムを使用して第１ステージを位置決めすることを含む。受動力システムは二つの磁石システム１９、２１を備える。各磁石システム１９，２１は、第２ステージに対して第１ステージに上記方向の力を非接触で与えるように構成される。力は、受動力システムによって第１ステージに与えられる上記移動方向の合力となる。合力の大きさおよび／または方向は、第２ステージに対する第１ステージの位置によって決まる。第１ステージは、合力がゼロとなるゼロ力位置２３を第１位置１１と第２位置１３との間に有する。 （もっと読む）

【課題】製造コストの低減、装置の小型化及び省スペース化を図り、作業効率を向上させた。
【解決手段】プローバは、ウエハを設定位置で支持して当該ウエハの処理位置まで搬送して当該処理位置に設置されるトレイと、当該トレイに対して前記ウエハを前記設定位置に位置合わせする、１又は複数のアライメントユニットと、当該アライメントユニットよりも多く配置され前記処理位置で前記ウエハにコンタクトして検査処理を行うコンタクトユニットと、前記ウエハを支持した前記トレイを前記アライメントユニットと前記コンタクトユニットとの間で搬送するトレイ搬送部とを備えた。前記トレイは、前記チャックピンのＸＹＺθ方向への移動を許容する３以上のピン穴と、前記ウエハの位置決め用のアライメントマークと、前記トレイ自体を位置合わせするアライメント部とを備えた。 （もっと読む）

【課題】気化熱による温度変化を抑制できるステージ装置を提供する。
【解決手段】液体ＬＱを用いた液浸露光が実施される基板ステージ２であって、接触した液体ＬＱを回収して液体ＬＱを保持する多孔体から形成された多孔体流路５０を備え、多孔体流路５０は、鉛直成分を含む方向に延在する延在部Ｌを有するという構成を採用する。 （もっと読む）

【課題】互いのウェハを位置合わせして重ね合わせるときに、ステージの回転量が所定量を超えてしまうと、ステージの正確な位置を把握することが困難となる。ステージの回転量が所定量を超えないように制御するには、そもそも最初にステージに置かれるウェハの位置を厳密に管理する必要がある。
【解決手段】位置検出装置は、第１基板に設けられた少なくとも２個の第１基板指標を一度の撮像動作により撮像する第１撮像ユニットと、第１撮像ユニットにより撮像された画像に基づいて第１基板指標の位置を計測することにより、第１基板の姿勢を測定する測定部とを備える。 （もっと読む）

【課題】収縮したシート材に対しても、高精度な露光を可能にする。
【解決手段】長尺のシートＳの長尺方向の少なくとも２箇所を拘束し、長尺方向に関して所定領域ＳＡ_ｉに長尺方向に関するテンションを付与するとともに、シート材の長尺方向と交差する幅方向の両側でシート材をホルダＳＨ_２で吸着して拘束し、幅方向に関して所定領域ＳＡ_ｉに幅方向に関するテンションを付与する。そして、所定領域に長尺方向、幅方向に関するテンションが付与された状態で、シート材Ｓの所定領域に対応する裏面部分を平坦状の基準面に倣わせて平坦化する。そして、平坦化された状態のシート材の所定領域にエネルギビームを照射してパターンを形成する。 （もっと読む）

【課題】簡単な機構でマスクと基板ステージとの位置関係情報を高精度に計測する。
【解決手段】マスクアライメント系１２Ａであって、マスクＭＡに形成されたマスクマーク１５Ａ，１５Ｂのうちのマスクマーク１５Ａを照明する照明系と、プレートステージＰＳＴに設けられ、基準マーク２７Ａ，２７Ｂが形成された基準マーク部材２６と、基準マーク２７Ａの形成面と基準マーク２７Ｂの形成面とを光学的に共役にするリレー光学系２９Ａと、マスクマーク１５Ａ，１５Ｂ及び基準マーク２７Ａ，２７Ｂの像を共通の撮像面で検出する撮像ユニット１４Ａとを備える。 （もっと読む）

【課題】板状被加工物に変形が生成されている場合には、変形を自動的に強制して吸引保持させることができる加工装置を提供する。
【解決手段】搬送機構１２は搬送プレート３２と、搬送プレート３２の下面に配設され、板状被加工物２を吸引保持する吸引保持板３４、及び吸引保持板３４を囲繞し且つ吸引保持板３４の下面を越えて突出する弾性囲繞部材３６と含む。吸引保持された板状被加工物２が支持機構１０の吸引支持板２６上に位置されると、搬送機構１２の弾性囲繞部材３６の下端が支持テーブル２４の上面に接触されて、密閉空間Ｒが形成され、板状被加工物２の裏面と吸引保持板３４の表面との間に間隙が生成されている場合には、吸引されることによって密閉空間Ｒに負圧が生成され、これによって大気圧により搬送プレート３２が下降し弾性囲繞部材３６が収縮され、板状被加工物２が吸引支持板２６上に押圧され、板状被加工物２の変形が矯正される。 （もっと読む）

【課題】保護テープの剥離方向がいずれの方向であっても、適正な圧力でワークの表面の保護テープに剥離テープを貼着すること。
【解決手段】本発明のある実施の形態において、保護テープ剥離装置は、表面に保護テープ２３が貼着されたワーク２を保持する保持手段１上にワーク２が保持されていない状態で、保護テープ２３の剥離方向に応じた基準面の位置と圧着部材３５との接触による通電を検知することによって剥離方向に応じた基準面の高さ位置を検出する高さ位置検出機構を備える。また、剥離方向に応じた基準面の高さ位置と、予め定められる剥離テープ３１、ワーク２、ダイシングテープ２２および保護テープ２３の厚みとをもとに、下端面によって保護テープ２３の非粘着面を押圧する際の圧着部材送り機構の駆動量を制御する制御手段を備える。 （もっと読む）