【課題】基板の反り量が大きい場合等であっても適切な露光を行うことができ、好ましくは基板内のチップ等の損傷を回避することもできる露光装置及び露光方法を提供する。
【解決手段】露光装置には、ステージ３上に載置された基板１２に光を照射する光源１と、光源１側から基板１２をステージ３に押圧する押圧部材２と、基板１２の押圧部材２により押圧されている領域の平坦度を測定するセンサ４と、センサ４により測定された平坦度に応じて押圧部材２が基板１２を押圧する力を制御する制御部５と、が設けられている。 （もっと読む）

【課題】リソグラフィ装置において基板テーブルからウェーハをリリースするためのさらに信頼性の高い基板テーブルを提供する。
【解決手段】リソグラフィ装置が、放射ビームを調整する照明システムと、パターニングデバイスを支持するサポートとを備える。パターニングデバイスは、放射ビームの断面にパターンを与えてパターン付き放射ビームを形成することが可能である。また、この装置は、基板を保持する基板テーブルと、基板のターゲット部分上にパターン付き放射ビームを投影する投影システムとを備える。基板テーブルは、ウェーハの下部表面の対応する部分を支持する複数の突起部を有するチャックを備える。突起部の少なくとも１つの頂部表面が、基板と突起部の頂部表面との間に縮小された接触面を画定する複数のエレメントを備える。 （もっと読む）

【課題】専用のプリアライメント装置を設けることなく、短時間で且つ精度良く基板を基板ステージに搭載して、タクトタイムを短縮することができる露光ユニットを提供する。
【解決手段】露光ユニット１は、露光装置ＰＥと、ロボット８７と、制御部８８と、処理ユニット８４に供給された基板Ｗの位置情報を検出するセンサ１００ａ，１００ｂ，１００ｃと、を備える。制御部８８は、センサ１００ａ，１００ｂ，１００ｃの検出結果と所定の基準位置とのズレ量を算出し、当該ズレ量に基づいてロボット８７のアーム部９０を処理ユニット８４から基板ステージ２０に移動しながら、基板Ｗを基準位置にプリアライメントする。 （もっと読む）

【課題】基板搬送途中に発生する基板の位置ずれを補正する。
【解決手段】基板の外形を観察することにより基板の位置を把握する外形観察部と、基板に設けられた指標を観察することにより、基板の位置を外形観察部よりも詳細に把握する指標観察部と、外形観察部から指標観察部へ基板を搬送する搬送部と、外形観察部から指標観察部への搬送経路上に配され、搬送中の基板の位置ずれを補正する位置補正部とを備える基板搬送装置が提供される。 （もっと読む）

【課題】周辺露光処理後の基板の検査を適切に行いつつ、当該検査を含む基板処理のスループットを向上させる。
【解決手段】ウェハ処理装置４２は、ウェハＷを保持する保持部１２０と、保持部１２０を回転させると共に、受渡位置Ｐ１と周辺露光位置Ｐ２との間で保持部１２０を移動させる駆動部１２１と、周辺露光位置Ｐ２においてウェハＷの周縁部を露光する露光部１４０と、露光部１４０の上方に設けられ、ウェハＷを撮像する撮像部１５０と、保持部１２０に保持されたウェハＷと撮像部１５０との間で形成される光路の方向を変更させる方向変換部１５３とを有している。方向変換部１５３は、第１の反射鏡１５４、第２の反射鏡１５５及び第３の反射鏡１５６を有し、第２の反射鏡１５５及び第３の反射鏡１５６によってウェハＷと撮像部１５０との間で形成される光路が折り返される。 （もっと読む）

【課題】基板重ね合わせ装置のスループットを向上させる。
【解決手段】基板重ね合わせ装置は、第１基板を保持する第１テーブルと、第１基板に対向する向きに第２基板を保持する第２テーブルと、第１テーブルと第２テーブルの少なくとも一方を移動する移動部と、移動部を制御する制御部とを備え、制御部は、対向する向きである対向方向および対向方向に直交する面方向に第１基板および第２基板がずれた初期位置と、第１基板および第２基板が互いに重なり合う位置との間で、対向方向に対して交差する交差パスを含む搬送パスを生成する。 （もっと読む）

【課題】リソグラフィ装置の処理能力を大きく損なうことなく、重ね合わせ精度を向上させる方法及び装置を提供する。
【解決手段】露光条件を最適化するために基板の露光時に基板上の位置合わせ標識を検査する。基板１０が露光及び位置合わせユニット１５の真下で走査を受けるとき、基板のそれぞれの部分が最初に検出器ユニット１６の下方を通過し、次いで露光ユニット１７の下方を通過する。したがって、基板１０のそれぞれの部分に関して検査器ユニット１６によって測定された、直線位置、配向、及び膨張に関する情報が露光ユニット１７に伝達可能であり、基板が露光ユニット１７の真下を通過しながら基板が露光されるとき、基板の当該部分に関する露光条件を最適化することができる。 （もっと読む）

【課題】比較的軽量で、加速度を受けても変形が少ない搬送部材を提供する。
【解決手段】対象物を搬送するための搬送用部材であって、前記対象物が載置される一方主面１２Ａを備える、セラミックスを主成分とする板状部１２と、該板状部１２の他方主面に接合された、前記板状部１２と略同一のヤング率を有する肋材部１４と、前記板状部１２の前記他方主面１２Ｂと前記肋材部１４とを接合する接合層とを有しており、該接合層の厚さをＴ、前記接合層のヤング率をＹ１、前記板状部１２および前記肋材部１４のヤング率をＹ２としたとき、Ｙ１≦Ｙ２であり、下記式（１）で表すαが、０＜α≦１．１６を満たすことを特徴とする搬送用部材を提供する。
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【課題】流出した液体による被害の拡大を防止し、露光処理及び計測処理を良好に行うことができる露光装置を提供する。
【解決手段】露光装置（ＥＸ）は、移動可能なテーブル（ＰＴ）と、テーブル（ＰＴ）の移動を案内する上面（４１Ａ）を有するベース部材（４１）と、ベース部材（４１）の上面（４１Ａ）に液体（ＬＱ）が有るか否かを検出する検出装置（６０）とを備えている。 （もっと読む）

【課題】改良されたリソグラフィ装置、特にオーバーレイおよび結像の性能を改善したリソグラフィ装置を提供することが望ましい。
【解決手段】リソグラフィ装置は、放射ビームを調節する照明システムと、放射ビームの断面にパターンを付与してパターン付与された放射ビームを形成可能なパターニングデバイス、を支持するよう構成されたサポートと、基板を保持するよう構成された基板テーブルと、基板テーブルを基準構造に対して位置決めするためのステージシステムと、パターン付与された放射ビームを基板のターゲット部分に投影する投影システムと、センサ部と光学部とを有する光学測定システムと、を備える。光学部は、パターン付与された放射ビームと光学的に相互作用し、その相互作用の結果を出力としてセンサ部に送信する。光学部は基板テーブルに設けられ、センサ部はステージシステムまたは基準構造に設けられる。 （もっと読む）

【課題】可動テーブルの重量を増加させることなく、ステージ停止時における十分な制動力を発生するブレーキ機構を有するステージ装置を構成する。
【解決手段】ステージ機構１は、Ｘベース１２０の上に固定されるＸ方向の案内機構としてのＸガイド１２１と、これに拘束されてＸ方向に移動可能なＸテーブル１２２と、これに可動部を固定されたＸアクチュエータ１２３と、Ｘベース１２０の上に固定されたＸテーブル１２２の制動機構であるＸブレーキ１２４などから構成される。制御装置２は、ステージ停止時にＸブレーキ１２４をＸテーブル１２２の下面に押し付けて制動力を発生させ、ステージ停止後にはＸアクチュエータをサーボ制御をオフにする位置決め制御を行う。 （もっと読む）

【課題】加工不良や剥離不良をより抑制可能な態様で保護テープを半導体ウエハに貼り付けることが可能な技術を提供する。
【解決手段】円周状に伸びる外周縁を有する半導体ウエハ５０に、円周状に伸びる外周縁を有する保護テープ６０を貼り付けて半導体装置を製造する製造方法であって、半導体ウエハ５０の端部５０ｂの位置を検出する端部検出工程と、検出した位置を用いて位置合わせして、半導体ウエハ５０の表面に保護テープ６０を貼り付ける貼付工程を有する。 （もっと読む）

【課題】所定の処理を円滑に実行できるプレート部材を提供する。
【解決手段】プレート部材は、基板を保持する基板保持部を有し、露光液体を介して露光光で基板を露光する露光装置において、基板保持部に保持されて使用される。プレート部材は、基材と、表面の少なくとも一部を形成し、液体に対して撥液性の第１膜と、基材と第１膜との間の少なくとも一部に配置され、基材と異なる色相を発現する第２膜と、を備える。 （もっと読む）

【課題】流出した液体に起因する不都合の発生を防止できる露光装置を提供する。
【解決手段】流出した液体に起因する不都合の発生を防止できる露光装置を提供する。露光装置は、周壁部（３３）と周壁部（３３）の内側に配置された支持部（３４）とを有し、周壁部（３３）に囲まれた空間（３１）を負圧にすることによって基板（Ｐ）を支持部（３４）で支持する基板ホルダ（ＰＨ）と、周壁部（３３）の内側に設けられた回収口（６１）と回収口（６１）に接続する真空系（６３）とを有する回収機構と備え、周壁部（３３）の上面（３３Ａ）と基板（Ｐ）の裏面（Ｐｂ）とが第１距離だけ離れた状態で、基板（Ｐ）の外周から浸入した液体（ＬＱ）を吸引回収する。 （もっと読む）

【課題】等速移動中のステージに保持された基板の高さを正確に計測することが可能な露光装置を提供する。
【解決手段】基板４を走査する第１方向および前記投影光学系の光軸に沿う第２方向に前記ステージを位置決めする位置決め機構２５と、前記第１方向に沿って間隔を置いて位置する複数の計測点で前記基板の高さを計測する計測器１６と、制御器２６とを備え、前記計測器により第１計測点で前記基板の高さを計測し、前記第１計測点で計測された高さに基づいて前記位置決め機構により前記ステージ５を前記第２方向に位置決めしながら前記基板を露光する。 （もっと読む）

【課題】アライメントマークの位置を計測する時間の短さの点で有利な位置計測装置の提供。
【解決手段】位置計測装置の制御部は、撮像系のテレセントリシティに関する情報を予め記憶し、基板に形成された複数のアライメントマークのうち少なくとも１つに関して、ステージの位置制御により撮像系に対するフォーカス調整を行って撮像系に撮像を行わせ、撮像によるアライメントマークの信号に基づいてＸ−Ｙ平面に平行な面における位置を求め、フォーカス調整のなされた少なくとも１つのアライメントマークに関して、基板表面の第１の位置を検出系に検出させ、他のアライメントマークに関して、フォーカス調整を行わずに、撮像系に撮像を行わせ、かつ基板表面の第２の位置を検出系に検出させ、撮像によるアライメントマークの信号と第１の位置と第２の位置とテレセントリシティに関する情報とに基づいて、Ｘ−Ｙ平面に平行な面における位置を求める。 （もっと読む）

【課題】外縁位置や方位マークの検出を確実に精度良く行うことができるようにすること。
【解決手段】ウエハＷのオリフラＯＦやＶノッチＮ、外縁位置を検出し、その位置データを出力するカメラ１８と、ウエハＷの外縁全域からはみ出す大きさに設けられるとともに、当該ウエハＷを支持可能な支持面２０を有する支持手段１５と、支持面２０内で支持手段１５を回転させる回転手段１６と、カメラ１８の検出領域ＡＲに向かって発光する発光手段１９とを備えて位置検出装置１１が構成されている。支持手段１５は、発光手段１９の光を透過可能な素材によって支持面２０を形成する。発光手段１９は、支持面２０を平面視したときに当該支持面２０からはみ出さない位置に設けられている。 （もっと読む）

【課題】ストッパにより移動が制限された移動体をストッパから離間させる。
【解決手段】 ステージ復帰装置７０は、ステージ装置２０をストッパ５０から離間させる方向に駆動するエアジャッキ７２を有している。エアジャッキ７２に供給されるエアの制御は、メカニカルバルブ７３のスプール７８ｂの操作により行われる。スプール７８ｂは、Ｘ粗動ステージ２３Ｘが有するカムフォロア９０ａ、９０ｂに機械的に係合可能なカム８９ａ、８９ｂを有するレバー８６を含むバルブ操作機構７４により操作される。これにより、例えばＸ粗動ステージ２３Ｘの位置を検出するための電気的なセンサ類、メカニカルバルブ７３を操作するための電動アクチュエータ、上記センサ類、電動アクチュエータなどを制御するための制御系などを必要としない。従って、構成が簡単で低コストである。 （もっと読む）

【課題】基板支持装置上に載置された基板の位置を修正する。
【解決手段】 基板Ｐは、基板トレイ９０上に載置された状態で基板搬入装置８０により搬送される。基板搬入装置８０は、搬送時における基板Ｐの移動経路上に基板ＰのＸ軸方向、Ｙ軸方向、及びθｚ方向に関する位置情報を計測する基板位置検出装置を有し、その計測結果に基づいて押圧装置８８ａ、８９ａ、８８ｂ、８９ｂを用いて基板トレイ９０上で基板Ｐの位置調整（アライメント）を行う。この際、基板トレイ９０は、基板Ｐの下面に対して加圧気体を噴出し、該基板Ｐを浮上支持する。 （もっと読む）

【課題】基板位置合せ過程の時間を短縮する。
【解決手段】一の基板を保持する第１のテーブルと、他の基板を保持する第２のテーブルと、第１のテーブルに保持された一の基板の表面に設けられた指標を観察する第１の顕微鏡と、第２のテーブルに保持された他の基板の表面に設けられた指標を観察する第２の顕微鏡と、一の基板における複数の指標のうちの最初の指標から最後の指標を観察するまでの観察時間と、他の基板における複数の指標のうちの最初の指標から最後の指標までの観察時間とが少なくとも一部重なるように制御し、第１の顕微鏡による一の基板の指標の観察結果および第２の顕微鏡による他の基板の指標の観察結果に基づいて、一の基板と他の基板とを位置合わせする制御部とを備える基板位置合せ装置が提供される。 （もっと読む）