【課題】従来より低コストで大型化できるステージ装置を提供する。
【解決手段】
台座と、台座に設けられた第一〜第三の駆動部と、第一〜第三の駆動部に設けられた可動部材とを有し、第一、第二の補助駆動部の主ガイドは互いに平行にされて対面され、第三の補助駆動部の主ガイドは第一、第二の補助駆動部の主ガイドに対して所定角度を成す向きに向けられ、台座には、第一〜第三の補助駆動部の主スライダに、第一〜第三の補助駆動部の主ガイドと平行な向きの動力を伝達する第一〜第三の動力部が設けられたステージ装置であって、可動部材は複数の補助可動部材を有し、台座は複数の補助台座を有し、第一の補助駆動部は一の補助可動部材と一の補助台座との間に設けられ、第二、第三の補助駆動部のいずれか一方又は両方は他の補助可動部材と他の補助台座との間に設けられている。 （もっと読む）

【課題】露光装置において、マスクを基板に近接させる時に、両者に空気圧が発生し、マスクが変形して、これが平坦（露光可能な状態）に戻るまでに時間を要するために、マスク近接速度向上の妨げとなり、高スループット化の妨げとなる可能性がある。
【解決手段】マスクをガラス基板に近接させる時の速度プロファイルを、加速時の加速度を減速時の加速度より大きくするように制御することにより前記空気圧力上昇を小さくでき、マスクの変形量を小さくできる。その結果、マスク近接速度を向上できるので、スループットを向上できる。 （もっと読む）

【課題】基板間のボイドの発生を抑制しつつ、基板同士の接合を適切に効率よく行う。
【解決手段】接合装置は、下面に上ウェハＷ_Ｕを吸着保持する上部チャック２３０と、上部チャック２３０の下方に設けられ、上面に下ウェハＷ_Ｌを載置して吸着保持する下部チャック２３１と、を有している。上部チャック２３０には、上ウェハＷ_Ｕの中心部を押圧する押動部材２５０が設けられている。上部チャック２３０は、中心部から外周部に向けて複数の領域２３０ａ、２３０ｂ、２３０ｃに区画され、当該領域２３０ａ、２３０ｂ、２３０ｃ毎に上ウェハＷ_Ｕの真空引きを設定可能になっている。下部チャック２３１の外周部には、ウェハＷ_Ｕ、Ｗ_Ｌ、重合ウェハＷ_Ｔに対するストッパ部材２６２が設けられている。 （もっと読む）

【課題】保持部に対する基板の位置合わせを正確に行う。
【解決手段】基板保持部によって基板を保持させる際に基板保持部に対して予め決められた位置関係となるように基板を位置合わせ可能に構成され、各々の基端部３２同士が回動可能に連結されると共に各基端部３２と基板保持部との位置関係が固定された状態で基板保持部に取り付けられる一対のアーム３１ａ，３１ｂ、および各々の先端部４２同士が回動可能に連結されると共に各々の基端部４５が各アーム３１ａ，３１ｂの各中間部位３５に対して回動可能にそれぞれ連結されて各アーム３１ａ，３１ｂを連結する一対の連結部４１ａ，４１ｂを有するリンク機構２１ａ，２１ｂと、各連結部４１ａ，４１ｂの各先端部４２と各アーム３１ａ，３１ｂの各基端部３２との離間距離を変化させて各アーム３１ａ，３１ｂの各先端部３７間の距離を伸縮させる駆動機構２３とを備えている。 （もっと読む）

【課題】基板間のボイドの発生を抑制しつつ、基板同士の接合を適切に効率よく行う。
【解決手段】接合装置は、下面に上ウェハＷ_Ｕを吸着保持する上部チャック２３０と、上部チャック２３０の下方に設けられ、上面に下ウェハＷ_Ｌを載置して吸着保持する下部チャック２３１と、を有している。上部チャック２３０には、上ウェハＷ_Ｕの中心部を押圧する押動部材２５０が設けられている。押動部材２５０の押動ピン２５１において上ウェハＷ_Ｕ側の先端部には、上ウェハＷ_Ｕを吸着保持して当該上ウェハＷ_Ｕの水平方向の位置を固定し、鉛直方向に移動自在なガイド部材２５３が設けられている。下部チャック２３１の外周部には、ウェハＷ_Ｕ、Ｗ_Ｌ、重合ウェハＷ_Ｔに対するストッパ部材２６２が設けられている。 （もっと読む）

【課題】この発明は不良チップをピックアップせず、良品チップだけを確実にピックアップできるピックアップ装置を提供することにある。
【解決手段】半導体ウエハを照明する光源４４と、半導体ウエハの各チップを撮像する撮像カメラ４３と、撮像カメラによってチップを撮像するとき、光源によって半導体ウエハを照明する照明光の光量を、ミラーチップからの反射光の影響を受ける部分ではその影響の度合に応じて影響を受けない部分よりも減少させる設定部４２及び演算処理部４７と、光量が制御された照明光によって半導体ウエハを照射して撮像カメラで撮像し、撮像カメラの撮像信号を閾値と比較してチップが良品チップ或いは不良チップであるかを判定する制御装置４１の判定部４８具備する。 （もっと読む）

【課題】安定してＹ軸移動体を移動させることができるステージ装置を提供すること。
【解決手段】ステージ装置１Ａは、Ｘ軸移動体６と、Ｘ軸固定子５１、及びＸ軸可動子５２を有するＸ軸シャフトモータ５と、Ｙ軸移動体４と、Ｙ軸固定子、及びＹ軸可動子を有するＹ軸シャフトモータ３とを備え、Ｘ軸固定子５１の一端部５１ａが第１Ｙ軸移動体４ａに固定され、Ｘ軸固定子５１の他端部５１ｂが第２Ｙ軸移動体４ｂにＸ軸固定子５１のＸ軸方向の伸長を許容するように連結されている。これにより、Ｘ軸移動体６の駆動に伴いＸ軸固定子５１が熱膨張した場合に、Ｘ軸固定子５１の伸長が他端部５１ｂ側で解放される。 （もっと読む）

【課題】オブジェクトテーブルとハンドラとの間の振動の影響を最小化することが望まれている。
【解決手段】本発明はリソグラフィ装置に関する。このリソグラフィ装置は、オブジェクトＷを受けるためのオブジェクトテーブルＷＴと、オブジェクトテーブルを動かすためのアクチュエータと、オブジェクトＷをオブジェクトテーブルＷＴへ移送するまたはオブジェクトＷをオブジェクトテーブルＷＴから移送するためのハンドラＨＷと、を備える。装置はアクチュエータおよび／またはハンドラと接続されたコントローラを備える。コントローラは、オブジェクトテーブルおよびハンドラが、オブジェクトテーブルへのまたはオブジェクトテーブルからのオブジェクトの移送方向における移送の間、その移送方向に直交する方向において互いに実質的に追従することが提供されるよう、アクチュエータおよびハンドラを駆動するようプログラムされおよび／または構成される。 （もっと読む）

【課題】基板を素早くテーブルに載置するできる基板載置装置を提供する。
【解決手段】基板を載置する載置面を有するテーブルと、前記テーブルに形成された貫通穴と、前記貫通穴を通るピンと、前記貫通穴と前記ピンとの隙間を介して、前記テーブルの前記載置面側から前記載置面と反対の面となる反対面側に向けて空気を吸引する空気吸引部と、を備えた。 （もっと読む）

【課題】 基板の変形によってアライメントマークが検出できない場合に、アライメントマークを探索して加工動作を続行できるようにした基板加工方法を提供する。
【解決手段】 アライメントマークを撮像するために設定した撮像基準位置においてカメラにより撮像されたアライメントマーク画像から基板の位置情報を取得する際に、撮像基準位置での撮像ではアライメントマーク画像が検出されないときに、カメラ若しくはテーブルを移動することで、撮像位置を撮像基準位置の周辺に順次移動させるようにしてアライメントマーク画像を探索し、アライメントマーク画像が検出されたときの撮像位置と撮像基準位置との位置ずれ量を算出して加工用ツールによる加工位置を補正する。 （もっと読む）

【課題】熱膨張に起因するアライメントへの悪影響を抑制することが可能な接合技術を提供する。
【解決手段】この接合技術においては、第１の被接合物と第２の被接合物との両被接合物が加熱された状態で、第１の被接合物と第２の被接合物とを水平方向において相対的に移動して第１の被接合物と第２の被接合物とが位置合わせされる（ステップＳ１０，Ｓ１１，Ｓ１２）。その後、第１の被接合物と第２の被接合物との接触状態において、両被接合物が接合される（ステップＳ１３，Ｓ１９）。 （もっと読む）

【課題】基板テーブルの移動を駆動するより効率的な方法を提供する。
【解決手段】キャリアと、直交軸Ｘ及びＹを基準にして画定された平面でキャリアを投影システムに対して移動させる駆動システムとを備え、駆動システムは、Ｙ軸に平行に移動するように構築され、配置されたシャトルと、シャトルをキャリアに接続するシャトルコネクタであって、シャトルに対してＸ軸に平行な方向にキャリアを移動させることができるようなシャトルコネクタと、Ｙ軸に平行なシャトルの移動を駆動するシャトルドライバとを備え、シャトルはＸ軸に平行な方向のキャリアの片側だけに位置し、シャトルの１つだけがキャリアに接続され、シャトルドライバ及びシャトルコネクタは、駆動システムによってキャリアに加えられる力のＹ成分の少なくとも１０％を供給するように構成される。 （もっと読む）

【課題】振動が基板に投影されるパターンに及ぼす影響を低下させる。
【解決手段】リソグラフィ装置は、放射ビームを生成する放射源と、パターニングデバイスを支持する支持構造と、基板を支持する基板テーブルと、パターン付与された放射ビームを基板の目標部分に投影する投影系とを備える。リソグラフィ装置はさらに、目標部分の露光の間にパターニングデバイスと基板との間の相対的振動を測定するよう構成された振動測定装置を備える。制御装置は、測定された相対的振動が基板上に投影されるパターンに及ぼす影響を補償するよう前記放射ビームのパワーを調整する。 （もっと読む）

【課題】低コスト、かつ、高貼り合せ精度である基板貼り合せ方法を提供する。
【解決手段】アライメント時に、吸引により、上基板（５）を弓形に引き込ませることにより、下基板が透明粘着シート（７）に触れずに、ＣＣＤカメラにより正確に下基板アライメントマークを撮像できる位置に上昇させ、また、上下基板貼り合せ時に、加圧により、上基板（５）を弓形に押し出させることにより、上下基板間の気泡を中央から端部側へ逃がし、貼り合せ後の残存気泡を無くす。 （もっと読む）

【課題】搬送アームへの塗布膜の付着を抑制しつつ、基板を適切に処理する。
【解決手段】塗布現像処理システム１は、ウェハＷの中心位置を調節する位置調節装置４２と、ウェハＷ上にポリイミド溶液を塗布する塗布処理装置と、ウェハＷを搬送するウェハ搬送装置８０と、を有している。ウェハ搬送装置８０は、ウェハＷの径より大きい曲率半径でウェハＷの周縁部に沿って湾曲するアーム部と、アーム部から内側に突出し、ウェハＷの裏面を保持する保持部と、を備える。位置調節装置４２は、ウェハＷの裏面の中心部を保持するチャックと、チャックに保持されたウェハＷの中心位置を検出する位置検出部と、チャックを移動させる移動機構と、位置検出部による検出結果に基づいて、チャックに保持されたウェハＷの中心位置がアーム部の中心位置に合致するように移動機構を制御する制御部と、を備える。 （もっと読む）

【課題】高加速度下で機能することができるパターニングデバイスのスリップ防止解決法を提供する。
【解決手段】リソグラフィ装置のパターニングデバイスステージの移動中のパターニングデバイス２７０の滑りを実質的に除去するための構成が提供される。このような構成の一つは、保持システムとサポート輸送装置２３０とを含む。保持システムは、支持デバイス２５０と、保持デバイス２８０と、磁歪アクチュエータ２６０とを含む。保持デバイス２８０はパターニングデバイス２７０を支持デバイス２５０に解放可能に結合する。磁歪アクチュエータ２６０は、パターニングデバイス２７０に解放可能に結合され、パターニングデバイス２７０に加速力を付与する。サポート輸送装置２３０は支持デバイス２５０に結合され、磁歪アクチュエータ２６０による力の付与と同時に支持デバイス２５０移動し、パターニングデバイス２７０滑りを防止する。 （もっと読む）

【課題】長ストローク化、小型化及び振動を抑制することが可能な半導体製造装置用のＸＹステージを提供する。
【解決手段】Ｘ軸リニアモータとＹ軸リニアモータとを有し、Ｘ軸リニアモータ及びＹ軸リニアモータは、移動部としての３相のコイルからなるコイル部及び固定部としてのヨーク部を有し、ヨーク部は、長手方向の中心線に対してその上部及び下部に開口部が設けられており、上部の開口部の上面及び下部の開口部の下面には複数の永久磁石の表面がＮ極、Ｓ極となるように交互に配列され、ヨーク上部の開口部の永久磁石と垂直方向におけるヨーク部下部の開口部の永久磁石は、同じ極となるように配列され、中心付近のヨークに３相のコイルが挿入された構成を成し、ヨーク部をコイル部と同一軸方向に移動可能なヨーク部ガイドを介してベース上に固定し、コイル部の移動時の反力を吸収するように構成し、移動テーブルの下部にＸ軸リニアモータを配する。 （もっと読む）

【課題】 温度調節機能を持った基板位置合わせ装置の処理速度を向上する。
【解決手段】 基板の外周上の切り欠き位置に基いて第１の位置合わせを行う工程と、前記基板の切り欠きを含む外周形状に基いて第２の位置合わせを行う工程と、前記基板を目標管理温度に調整する温調工程とを含む位置合わせ方法を行う。前記方法において、Ｎ枚目の基板の前記第１位置合わせ工程の期間内にて、Ｎ−１枚目の基板の前記第２位置合わせ工程と、Ｎ−１枚目の基板の前記温調工程と、を有する。 （もっと読む）

【課題】改良型の制御システムを提供する。
【解決手段】オブジェクト上に作用するように配置された複数のアクチュエータを有するアクチュエータシステムを制御するコントローラが提供される。該コントローラは、ゲインバランシングマトリクスを用いてオブジェクトの重心に提供されることが望まれる一組の力を表す第１の制御信号を前記複数のアクチュエータによって提供される同等の力の組を表す第２の制御信号に変換する。システムは、第１の周波数帯域で第１のゲインバランシングマトリクスが使用され、第２の周波数帯域で第２のゲインバランシングマトリクスが使用されるようにさらに構成される。 （もっと読む）

【課題】 本体構造体の弾性変形を計測するレーザ干渉計を追加することなく、本体構造体の弾性変形により発生するステージ間の相対位置誤差を補正する露光装置を提供すること。
【解決手段】 露光装置1は、マスク2を保持するマスクステージ4と、基板3を保持するプレートステージ5と、マスクステージ4とプレートステージ5の位置を計測するレーザ干渉計と、レーザ干渉計の計測結果に基づいてマスクステージ4とプレートステージ5の位置を制御する制御演算器16および駆動装置と、マスク2に描画されたパターンを基板3に投影する投影光学系6とを有する。本体構造体7上のレーザ干渉計支持台と投影光学系6の傾き量を傾斜角計１７(ａ),１７(ｂ),１７(ｃ)により計測して、該計測結果からマスクステージ4とプレートステージ5の相対位置誤差を補正する。 （もっと読む）