【課題】スループットが向上されたリソグラフィ装置を提供する。
【解決手段】リソグラフィ装置が、放射ビームを調節するように構成された照明システムと、放射ビームにその断面内でパターンを与えてパターン付き放射ビームを形成できるパターニングデバイスを支持するように構成された支持体と、基板を保持するようにそれぞれ構成された少なくとも３つの基板テーブルと、パターン付き放射ビームを基板のターゲット部分の上に投影するように構成された投影システムとを含み、基板テーブルは、実質的にパターン付き放射ビームに直角の平面内に延びる共通可動領域内で移動可能であり、可動領域は少なくとも３つの作業場所を含み、そのうちの少なくとも１つの作業場所が、前記パターン付き放射ビームへの前記基板の露光用に配置され、少なくとも１つの作業場所が非露光目的で配置される。 （もっと読む）

【課題】基板の厚みには個体差があるので、接触位置を特定することが難しい。
【解決手段】第１基板を保持する第１ステージと、第１ステージに対向して配され、第２基板を保持する第２ステージと、第２ステージに保持された第２基板の表面を観察する第１顕微鏡と、第１ステージに保持された第１基板の表面を観察する第２顕微鏡と、第１ステージおよび第２ステージの少なくとも一方を他方に対して移動する移動機構と、第１顕微鏡の焦点面と第２基板の表面とを合致させた位置、および、第２顕微鏡の焦点面と第１基板の表面とを合致させた位置、に基づいて、第１ステージに保持された第１基板の表面と第２ステージに保持された第２基板の表面との間隔を算出する算出部とを備える基板貼り合わせ装置が提供される。 （もっと読む）

【課題】基板を位置合わせして重ね合わせる。
【解決手段】基板重ね合わせ装置であって、第一基板および第二基板の少なくとも一方に作用力を作用させる作用力制御部と、作用力により第一基板および第二基板の少なくとも一方に生じた変形を維持しつつ、第一基板および第二基板を相互に位置合わせして重ね合わせる重ね合わせ部とを備える。上記基板重ね合わせ装置において、作用力制御部は、第一基板の一部の領域に作用力を作用させてもよい。また、上記基板重ね合わせ装置において、第一基板と第二基板を重ね合わせたときに、第一基板に設けられた複数の位置合わせ指標と、第二基板に設けられた複数の位置合わせ指標が、それぞれの指標の基準位置に対する位置ずれ量が最小となる重ね合わせの目標位置を算出する算出部を備え、作用力制御部は、算出部による算出結果に基づいて一部の領域を決定してもよい。 （もっと読む）

【課題】ウエハステージを高精度駆動する。
【解決手段】平面モータ３０により駆動されるウエハステージＷＳＴ１，ＷＳＴ２の位置をエンコーダシステムを用いて計測し、エンコーダシステムからのウエハステージＷＳＴ１，ＷＳＴ２のそれぞれについての位置計測情報と、ウエハステージＷＳＴ２の位置に依存するウエハステージＷＳＴ１についての位置計測情報に対する補正情報とに基づいて、ウエハステージＷＳＴ１を駆動する。これにより、ウエハステージＷＳＴ２の移動に伴う周辺磁場の変動に主として起因するウエハステージＷＳＴ１の位置計測誤差を補正することができる。 （もっと読む）

【課題】ウエハステージを精度良く駆動する。
【解決手段】平面モータ３０により駆動されるウエハステージＷＳＴ１，ＷＳＴ２の位置をエンコーダシステムを用いて計測し、エンコーダシステムからのウエハステージＷＳＴ１，ＷＳＴ２のそれぞれについての位置計測情報と、両ステージＷＳＴ１，ＷＳＴ２の位置に応じたエンコーダシステムの位置計測誤差の補正情報とに基づいて、ウエハステージＷＳＴ１を駆動する。これにより、主として両ウエハステージＷＳＴ１，ＷＳＴ２の移動に伴う周辺磁場の変動に起因する誤差を補正することができる。 （もっと読む）

【課題】チャックの開口を塞ぐ蓋の高低により発生する露光むらを効果的に抑制する。
【解決手段】チャックに、少なくとも１つの開口と、開口を塞ぐ蓋１４と、チャックに対する蓋１４の取り付け高さを調整する高さ調整機構とを設ける。チャックの開口の周囲に非真空区画を形成し、非真空区画からチャックの裏面へ通じる空気通路を設け、非真空区画の周囲に真空区画を形成する。高さ調整機構により、チャックに対する蓋１４の取り付け高さを調整して、蓋１４の上面の高さをチャックの上面の高さより低くし、真空区画により基板を真空吸着して、基板をチャックに固定し、空気通路により非真空区画を大気開放して、基板が非真空区画に吸着されるのを防止する。 （もっと読む）

【課題】液体の漏れ出しを抑制する。
【解決手段】露光装置は、投影光学系と液体とを介して基板を露光する。露光装置は、投影光学系が配置される第１領域と、第１領域と異なる第２領域とを含む所定領域内で、基板を載置して移動可能な第１ステージと、所定領域内で移動可能な第２ステージと、第１、第２ステージをそれぞれ第１、第２領域の一方から他方に移動するとともに、所定領域内で第１、第２ステージを独立に移動するリニアモータシステムと、投影光学系の直下に液体を供給して液浸領域を形成する液浸システムと、投影光学系と第１ステージとの間に液浸領域が維持される第１状態と、投影光学系と第２ステージとの間に液浸領域が維持される第２状態との一方が他方に遷移するように、投影光学系の直下に液浸領域を維持しつつ、リニアモータシステムによって、投影光学系の下方で第１、第２ステージを移動する制御システムと、を備える。 （もっと読む）

【課題】露光の高能率化を図ると共に、装置コストの低減を図る。
【解決手段】被露光部材としての基板Ｗを保持する基板保持部１を搭載する２つの移動テーブル３、３を移動手段で露光位置と、露光位置を挟んで対向する２つの基板Ｗを搬入、搬出する位置との間に移動可能に配置し、一方の移動基板Ｗの前記基板保持部１が前記露光位置に配置されたときに、該露光位置に配置されてない移動テーブル３の前記基板保持部１に対して前記基板Ｗを搬入、搬出することを交互に繰り返すようにした。 （もっと読む）

【課題】基板の撓みを抑制して、露光精度を向上する露光方法及び基板の製造方法並びに露光装置を提供する。
【解決手段】環状の吸着領域８０ｂと、環状の吸着領域８０ｂよりも面積の小さい長方形状の吸着領域８０ｃ，８０ｄ，８０ｅとを吸着面２２に備えた基板ステージ２０において、基板ステージ２０の吸着面２２に基板Ｗを吸着する際、環状及び長方形状の吸着領域８０ｂ，・・・，８０ｅ内の圧力が略一定となるように、長方形状の吸着領域８０ｃ，８０ｄ，８０ｅ内のエアを吸引する吸引力を環状の吸着領域８０ｂ内のエアを吸引する吸引力よりも小さくする。 （もっと読む）

【課題】マスクホルダを空気圧で支持しながら、マスクホルダをＺ方向へ移動及びチルトして、マスクと基板とのギャップ制御を行う際、ギャップ合わせ後にマスクホルダが下降するのを防止して、マスクと基板とのギャップ制御を短時間で行う。
【解決手段】空気圧回路から空気圧支持装置２３へ圧縮空気を供給し、マスクホルダ２０を空気圧支持装置２３により空気圧で支える。空気圧支持装置２３を空気圧回路から遮断して、空気圧支持装置２３内の空気を密封しながら、複数のＺ−チルト機構３０によりマスクホルダ２０をＺ方向へ移動及びチルトして、マスク２と基板１とのギャップ合わせを行う。ギャップ合わせ後に、空気圧支持装置２３から空気が流出せず、マスクホルダ２０が下降しない。 （もっと読む）

【課題】 基板に対するパターン形成を迅速且つ正確に行うことができるパターン形成装置を提供する。
【解決手段】 基板ｗに対してパターン形成を行うパターン形成装置１であって、支持板２と、支持板２を回動する駆動手段８と、支持板２の回動により検出位置Ｄに搬送された基板ｗの位置を検出する基板位置検出手段２０と、支持板２の回動により加工位置Ｐに搬送された基板ｗに対してパターン形成を行う加工手段３０とを備え、支持板２の各装着部４，４は、基板位置検出手段２０の検出に基づいて基板ｗの位置を修正する位置修正手段５を備えており、駆動手段８は、支持板２を正逆両方向に１８０°回動して各装着部４，４が検出位置Ｄと加工位置Ｐとの間で移動するように制御される。 （もっと読む）

【課題】比較的簡単な計算で、マスクとワークのギャップを平均化することができ、露光精度を向上することができる近接露光装置及び近接露光方法を提供する。
【解決手段】ギャップセンサ１７によってマスクＭ及びワークＷとの間のギャップを４箇所の測定点Ａ、Ｂ、Ｃ、Ｄで測定し、４箇所の測定点Ａ、Ｂ、Ｃ、Ｄによって画成される四角形ＡＢＣＤの各辺の中点Ｋ，Ｌ，Ｍ，Ｎの４箇所の座標のうち、３箇所の中点Ｋ、Ｌ、Ｍの座標における各ギャップが一様になるようにＺ−チルト調整機構４３を駆動する。 （もっと読む）

【課題】複数の光ファイバを接続した光ファイバケーブルを介してエンコーダヘッドから検出器へ出力ビームを接続損失なく送る。
【解決手段】エンコーダから出力ビームを検出器へ送る一系統の受光用ファイバとして、エンコーダ側に位置する光ファイバＦ１のコアＣＲ１の端面（射出端面）と該射出端面より大きな検出器側に位置する光ファイバＦ２のコアＣＲ２の端面（受光端面）とを対向して継がれた光ファイバケーブルを用いる。これにより、光ファイバの継ぎ部において光の漏れが生じることがなく、エンコーダの高い計測精度を確保することが可能となる。 （もっと読む）

【課題】アライメント動作に要する時間を短縮して、スループットを向上することができる露光装置及び露光方法を提供する。
【解決手段】制御部７０Ａには、両アライメントマークＭａ，Ｗａのずれ量がマスク位置調整機構１６の駆動によって露光転写時の所望のアライメント精度範囲以内となる、アライメント動作実施許容範囲が設定されており、両アライメントマークＭａ，Ｗａのずれ量がアライメント動作実施許容範囲以内であるとき、マスク位置調整機構１６によるアライメント動作を実行して該アライメント動作を完了する。 （もっと読む）

【課題】フィルム状部材を目標とする経路に沿って正確に搬送するとともに、その表面に交差する方向に容易に移動する。
【解決手段】フィルム状のＴＦＴ基板ＴＰを搬送する搬送方法において、ＴＦＴ基板ＴＰをこの表面に沿った移動方向Ｂ１に移動する工程と、ＴＦＴ基板ＴＰの表面に沿って移動方向Ｂ１に交差する方向に長手方向が配置され、移動方向Ｂ１に沿って配列される複数のロッド３０でＴＦＴ基板ＴＰの複数の表面部位を支持する工程と、ＴＦＴ基板ＴＰを支持している複数のロッド３０を同期させて移動方向Ｂ１に移動する工程と、複数のロッド３０をＴＦＴ基板ＴＰの表面に交差するＺ方向に移動する工程と、を含む。 （もっと読む）

【課題】基板に形成された下地パターンの上に新たなパターンを露光する際、下地パターンの歪みが基板内で場所によって異なっても、新たなパターンを基板全体に渡って下地パターンに合わせて露光する。
【解決手段】下地パターンが形成され、下地パターンの上にフォトレジストが塗布された基板１の表面を複数の区画に分割し、分割した区画毎に下地パターンの歪みを検出し、検出結果に基づき、分割した区画毎の下地パターンの歪みに応じて、描画データを補正する。基板１をチャック１０に搭載し、チャック１０と、光ビームを変調する空間的光変調器、描画データに基づいて空間的光変調器を駆動する駆動回路、及び空間的光変調器により変調された光ビームを照射する照射光学系を有する光ビーム照射装置２０とを、相対的に移動し、光ビーム照射装置２０からの光ビームにより基板１を走査して、基板１にパターンを描画する。 （もっと読む）

【課題】本発明の目的は、荷電粒子線を照射して観察及び分析する試料を、大気に曝す時間を最小限に抑えて、荷電粒子装置へ挿入可能な試料搬送装置を提供することにある。特に、装置周辺の作業領域が制限されている荷電粒子装置や、試料台をサイドエントリ型試料ホルダに設置するための空間が狭小であっても、作業を可能とする装置を提供することを目的とする。
【解決手段】荷電粒子線を照射して観察及び分析する試料を搬送するための試料搬送装置であって、試料が設置される試料ホルダを内部に収容可能な伸縮部材と、前記試料ホルダを前記伸縮部材の内部で固定する固定部材と、前記伸縮部材内部と接続し試料ホルダが通過する開口部の開閉を行う封止部材を備えたことを特徴とする試料搬送装置を提供する。 （もっと読む）

【課題】位置計測系の周期誤差が発生しても、精度良く周期パターンの位置を検出する。
【解決手段】可動ステージの位置を位置計測系を用いて計測し、その計測情報を用いて可動ステージを駆動するとともに、可動ステージ外の周期パターンから成る計測用マークを可動ステージに一部が配置された検出器を用いて検出する。ここで、位置計測系の計測周期（図１０（Ｂ）及び１０（Ｃ）に示される例では０．２５μｍ）の自然数倍と異なるピッチ（図１０（Ｃ）の例では２．０３１２５μｍ（なお、図１０（Ｂ）の例では２μｍ））の周期パターンを計測用マークとして用いることにより、計測周期に等しい位置計測系の周期誤差が発生しても、検出精度を損なうことなく、計測用マークの位置情報を計測することが可能となる。 （もっと読む）

【課題】２方向移動テーブルのＹ方向ストロークを拡大する。
【解決手段】同一平面内で互いに直交するＸ方向とＹ方向に移動する２方向移動テーブルであって、Ｙ方向モータのＹ方向可動子４５は、一端がＹ方向テーブルに固定されてＹ方向に延び、Ｙ方向テーブルと共にＸＹ方向に移動する可動アーム４３と、可動アーム４３内に取り付けられ、その一部が可動アーム４３の幅方向に突出する駆動コイル４４と、を有し、駆動コイル４４は、複数のコアレスコイル４４１，４４２，４４３の中央部分がＹ方向に沿って可動アーム４３内に並べて配置され、各コアレスコイル４４１，４４２，４４３相互の渡り部分が可動アーム４３から突出した部分に配置されている重ね巻きコイルである。 （もっと読む）

【課題】基板の平面度調整を行うために、基板を保持する保持手段の裏面を支持する支持手段と前記裏面とに隙間が生じないようにするステージ装置を提供することを課題とする。
【解決手段】保持手段の裏面と支持手段との間に空気を供給し、前記保持手段を前記支持手段から浮上させる軸受手段と、前記軸受手段から供給される気体の流量を検出する検出手段と、前記支持手段の駆動を制御する制御手段とを有し、前記制御手段は、前記軸受手段により前記保持手段を浮上させたときに、前記検出手段によって検出される流量が、所定の流量の範囲内になるように前記支持手段の駆動を制御する。 （もっと読む）