【課題】ローラーシャフトのたるみを防止できる平板ディスプレイ用ガラスのローラーシャフトのたるみ防止装置を提供する。
【解決手段】ローラーシャフト１１０の左右両側に形成された固定ハウジング１００の内部に第１エアテンション部１６０と第２エアテンション部１６１を形成し、圧縮空気を供給することにより、圧縮空気の張力で、第１スライディング・ピストン１７０と第２スライディング・ピストン１７１をスライディングスペース１８０、１８１にスライディングさせる。 （もっと読む）

【課題】板状の試料を試料台の所定の位置に吸着させるために、試料の外周面を押さえて試料を所定の位置に保持したまま、試料を平坦化や吸着しても、試料を擦らずに発塵しない位置決め装置を提供する。
【解決手段】位置決め装置は、所定の位置に試料７を保持するために、試料７の外周部を試料台９の表面と平行な多方向から試料台９へ押したまま、試料台９の表面の法線方向と平行に外周部と共に移動する移動機構１３を備えたオリフラ出しアーム８１、中心出しアーム８２を有する。 （もっと読む）

【課題】 正確な直線移動行程を実現しつつ、構造の簡略化を図ることができる直線移動機構、およびこれを用いた搬送ロボット、さらには真空環境下での使用に適した当該搬送ロボットを提供する。
【解決手段】 本発明に係る直線移動機構Ｂ１は、ガイド部材１と、このガイド部材１上に設定された水平直線状の移動行程ＧＬに沿って移動可能な２つの移動部材と、駆動プーリ３１ｂ、およびこの駆動プーリ３１ｂに掛け回されて移動行程ＧＬの平行線に沿う所定の往復動区間３Ａａ，３Ｂｂを往復動する出力ベルト３３を含んで構成された駆動機構３Ａ，３Ｂと、駆動プーリ３１ｂを駆動するためのモータＭ３，Ｍ４とを備え、移動部材は、連結部材２４ａ，２４ｂによって駆動機構３Ａ，３Ｂの出力ベルト３３にそれぞれ連結されており、駆動機構３Ａ，３ＢおよびモータＭ３，Ｍ４は、それぞれガイド部材１に支持されている。 （もっと読む）

【課題】ロールブラシ等、両端で支持される軸状回転体を、当該回転体が長軸化した場合にも水平に保ち得るようにすること。
【解決手段】ロールブラシ１０Ａは次のように構成される。外周にブラシ毛１３をもつ中空のブラシシャフト１２と、回転可能に支持され、かつブラシシャフト１２に遊挿されて同シャフト１２をその軸方向に貫通するとともに、このシャフト１２の中間部分で同シャフト１２に対してスプライン結合されるブラシ主軸１４と、このブラシ主軸１４に装着され、ブラシシャフト１２がその軸方向に水平に延びるように同シャフト１２をその内周側から支持するベアリング１５と、を備える。そして、ブラシ主軸１４がモータ１８に接続されることにより、ブラシシャフト１２およびブラシ主軸１４が一体に回転駆動される。 （もっと読む）

【課題】半導体製造装置や液晶製造装置における真空容器内で使用されるロボットにおいて、容器内の圧力上昇を低減でき、また、発塵による搬送対象物のワークや周囲環境への汚染をさせることなく、小型、軽量化が図れ、かつ製品の信頼性を向上させることが可能な真空ロボットを提供する。
【解決手段】アーム部を駆動するモータ部５において、ロータ部１４とステータ部８の電磁ギャップの隙間に、ステータ部８をハウジング９に内包して密封するように固定される薄板円筒状のキャン１６を設けて形成された空間１５が、減圧された状態で封止されて維持されるように構成した。 （もっと読む）

【課題】周縁部と内側部とに段差を有する極薄の半導体ウエハを安全にかつ確実に支持する。
【解決手段】周縁部１７Ａが肉厚に形成され内側部１７Ｂが肉薄に形成された半導体ウエハ１７をチャック１１上に載置して支持し、当該半導体ウエハ１７にプローブ針７を接触させて検査を行うプローバである。チャック１１は、半導体ウエハ１７の周縁部１７Ａに当接して当該周縁部１７Ａを支持する周縁支持部１２と、当該周縁支持部１２に対して段差を設けて半導体ウエハ１７の内側部１７Ｂに当接してこの内側部１７Ｂを支持する内側支持部１３と、前記周縁支持部１２と内側支持部１３とを相対的にずらして任意の高さの段差を作る移動機構１４とを備えて構成した。 （もっと読む）

【課題】プロキシミティ露光において、マスクと基板間の間隙を正確に設定および調整する露光装置、および方法を提供する。
【解決手段】基板ステージ部２００は、下部にチャックシリンダー部を備える。チャックシリンダー部の間隙調節上部ハウジング３１０は、その上端外周面がスパーギア３１３に形成され、その下端外周面にネジ部３１２が形成され、その下端内部に凹部を有し、その凹部中心には、間隙調節シャフト３３０が貫通して移動するように、貫通孔３１１が形成されている。前記間隙調節上部ハウジング３１０のスパーギア３１３をダイヤルゲージ（図示せず）によって回転させることで、間隙を正確に設定することができる。 （もっと読む）

【課題】ステージの姿勢が安定するステージ移動機構を提供することを課題とする。
【解決手段】Ｙ方向ガイド部５５、Ｘ方向ガイド部６１、ベースガイド部、Ｘ方向センタガイド部は、固定側に設けられ、ガイドする方向に延出する第１の平面を有する第１のガイドと、移動側に設けられ、第１のガイドの第１の平面と平行な第２の平面を有する第２のガイドと、第１のガイドの第１の平面、第２のガイドの第２の平面の間に設けられ、第１の平面、第２の平面に当接可能な複数のローラと、複数のローラを回転可能に保持し、常にローラが第１の平面、第２の平面とに当接するように、ローラを位置せしめるリテーナとからなるローラガイド機構である。 （もっと読む）

【課題】パーティクルの発生が少ない試料位置決め装置を提供する。
【解決手段】駆動源１からの駆動により水平方向に往復運動する駆動部１０と、鉛直方向に昇降し、試料台６２上より試料を持ち上げるための昇降部３０と前記駆動部１０および前記昇降部３０と連動して水平方向に往復運動する伝達部２０と、試料を径方向に移動させて所定位置で抑止する抑止体４３、および前記駆動部１０と連動して水平方向に往復運動するととともに前記抑止体４３の運動を誘導する誘導体４４を有する位置決め部４０とからなる。 （もっと読む）

【課題】装置全体を大型化することなく、回転する基板支持台１３に対して電力を供給することができる真空処理装置を提供する。
【解決手段】本発明に係る真空処理装置１１は、真空チャンバ１２の内部に配置された基板支持台１３を回転させる回転軸１４と、基板支持台１３に対して所要電力を供給するための集電装置１７とを備え、集電装置１７は、回転軸１４の内部に配置されていることを特徴とする。集電装置１７を回転軸１４の内部に配置することにより、回転軸１４の軸長を短くでき、装置全体の小型化を図ることが可能となる。回転軸１４は中空軸で構成することができる。回転軸１４の軸心部には、集電装置１７から導入された電力を基板支持台１３に供給する電気配線や、基板支持台１３に対して冷却水等の冷却媒体を循環供給するための給排管を収容した軸部材２２が設けられている。 （もっと読む）

【課題】より高精度な検査面の位置を保つ基板検査装置を提供する。
【解決手段】基板１０１を検査する基板検査装置において、水平方向に移動するＸＹステージ１２１と、ＸＹステージ１２１上に配置され、上下方向に移動するＺステージ１０３と、Ｚステージ１０３を３箇所で上下方向に移動させる圧電素子を有する３つのアクチュエータ機構１０７ａ、１０７ｂ、１０７ｃ、およびＺステージ１０３を支持する弾性ヒンジ１０８を備えた。また、Ｚステージ１０３上には基板１０１の中心を仮想中心軸として回転方向に移動するθステージ１０６が配置され、直線方向に移動するロッド３０８と、ロッド３０８に接続され弾性変形しながらθステージ１０６を回転させる弾性部材１１３とを備える。 （もっと読む）

【課題】変動負荷が作用するロッドを、ダスト発生による清浄度の低下、軸受摩耗の進行を抑制しながら支持するようにした耐モーメント対策静圧気体軸受機構を提供する。
【解決手段】ロッド２をその軸線方向の２個所において支持する第１及び第２の静圧気体軸受３１，３２を備える。上記第１の静圧気体軸受３１は固定支持され、第２の静圧気体軸受３２は、可動支持機構３４を介して支持される。上記可動支持機構は、上記ロッド２に作用する負荷に応じて、二つの静圧気体軸受に支持されるロッドの表面の一部がそれらの静圧気体軸受と接触するのを抑止する方向に、第１の静圧気体軸受３１に対して第２の静圧気体軸受３２の軸心を相対的に変位させるアクチュエータ３５を備える。 （もっと読む）

【課題】基板保持具と処理室の芯合せが簡単に行えると共に後発的に生じた芯ずれに対しても、分解、再組立てを行うことなく簡単に調整が行える基板処理装置を提供する。
【解決手段】基板を収納し、開口部を有する処理管１３と、前記開口部を介して連通された予備室１４と、処理中基板を保持する基板保持具１７と、前記予備室内に配置され前記基板保持具を載置する載置部１９と、前記予備室外に設けられた昇降手段１８と、該昇降手段と前記載置部とを連結する昇降シャフト３６と、前記昇降手段と前記昇降シャフトの傾きを調整する傾き調整手段とを具備した。 （もっと読む）

【課題】精密基板の洗浄を行う洗浄装置において、汚染因子再付着防止、自然酸化形成の防止、ウォータマーク防止が可能な洗浄装置を提供する。
【解決手段】被洗浄基板２を容器３内に配置し、容器３内の雰囲気を測定する雰囲気計測器４と雰囲気を制御するガス供給手段５およびガス排気手段６、７を配置した洗浄装置１において、被洗浄面に対向した部位からガスを均一に供給するガス供給手段５、筒状固定軸１６、流体軸受け１７および回転支持部材１８からなる回転保持機構にガスを供給するガス供給手段２１、排水機構にガスを排気するガス排気手段７、洗浄液噴射時の雰囲気を制御するガスを供給するガス供給手段３１のいずれか一つ以上の手段を具備する。洗浄装置１内の雰囲気を測定する雰囲気計測器４は、任意のタイミングで計測可能であり、引火性成分、可燃性成分、または支燃性成分のいずれか１つ以上の成分を検出可能なものとする。 （もっと読む）

【課題】ロードロック室等の基板を収容する容器内において、基板周りのスペースを極力小さくして基板の位置合わせを行うことができる基板位置合わせ装置を提供すること。
【解決手段】基板位置合わせ装置は、基板Ｓの搬送方向に直交する一対の端面Ｓ１を押圧する一対の第１のポジショナー７と、基板Ｓの搬送方向に沿った一対の端面Ｓ２を押圧する一対の第２のポジショナー８とを具備し、第１および第２のポジショナー７、８はそれぞれ、シリンダ機構７１、８１、およびシリンダ機構７１、８１のピストン７４、８４の進出により端面Ｓ１、Ｓ２を押圧する押圧子７０、８０を有し、第１のポジショナー７は、ピストン７４の進出により、押圧子７０を、基板Ｓの搬送経路外に退避させる退避位置と基板Ｓを押圧可能な押圧可能位置との間で移動させ、かつ、押圧可能位置で押圧方向に移動させる駆動力変換機構部７２をさらに有する。 （もっと読む）

【課題】 一対の発磁ユニットを容易にステージの凹部に取り付けられるステージ製造方法を提供する。
【解決手段】 凹部内に一対の発磁ユニット３１ａ、３１ｂが所定の隙間をあけて対向して固定される。一対の発磁ユニット３１ａ、３１ｂの間にスペーサ９０を介装するステップと、スペーサ９０が介装された一対の発磁ユニット３１ａ、３１ｂを凹部内に挿入するステップと、一対の発磁ユニット３１ａ、３１ｂをそれぞれステージに固定するステップと、スペーサ９０を一対の発磁ユニット３１ａ、３１ｂ間から離脱させるステップと、を有する。 （もっと読む）

【課題】複数の半導体ワークピースを処理する場合、半導体ワークピースの処理の均一性を確保するように、隔離された半導体ワークピースの処理環境を備え、しかも柔軟に半導体ワークピースを処理することができる半導体ワークピースの処理装置を提供する。
【解決手段】複数の処理ステーション１、１が設置されている半導体ワークピースの処理チャンバーを少なくとも一つ含み、各半導体ワークピースの処理ステーション１毎に一つの半導体ワークピースに対して処理を行う半導体ワークピースの処理装置である。各半導体ワークピースの処理ステーション１はそれぞれ回転することができる。半導体ワークピースの処理装置は、半導体ワークピースの処理ステーション１が動作する場合、半導体ワークピースの処理チャンバー内部をシールするためのシール部材と、シール部材の正常動作を確保するための冷却装置とを有する。 （もっと読む）

【課題】液晶ガラスや薄型大型基板などの板状ワークを所望とする状態で保持し、受け取りや引き渡しを好適に実施する板状ワークの移載装置を提供する。
【解決手段】移載装置において、フォークにおける各櫛歯部１４の上面には複数の多孔質ユニット３０が設けられている。多孔質ユニット３０は、ワークに対向するエア噴出面５１ａを有し微細孔を通じて気体を噴出させる多孔質体５１を備えている。また特に、多孔質ユニット３０は、櫛歯部１４に固定された支持体３１と、その支持体３１に揺動可能に支持された揺動本体４１とを備えており、揺動本体４１に多孔質体５１が組み付けられている。多孔質ユニット３０によりワークが浮上状態で保持される場合、当該多孔質ユニット３０はワークの傾きに応じて揺動する。 （もっと読む）

【課題】 大型の基板に対応可能な基板ホルダを提供する。
【解決手段】 基板を保持する基板ホルダＰＨは、基板Ｐを支持する載置面を有するプレート保持部材２と、このプレート保持部材２に延設され、プレート保持部材２の載置面と略一体的に形成される補助載置面を有する補助部材４とを備えている。 （もっと読む）

【課題】 ウェハＷ等の基材を温度調節したり吸着したりするための流体路を、回転ステージ１０の中心からずれた位置に配置した構造を実現し、中心軸Ｌｃ上には他の構成部材の配置スペースを確保する。
【解決手段】
固定筒６０に回転筒５０を回転可能に挿通する。回転筒５０の下端部に回転駆動手段を連結し、上端部にステージ本体１１を連結する。ステージ本体１１には流路ターミナルとして環状冷却室１１ａや吸着溝１１ｂを設ける。固定筒６０の外周面には、流体ポート６１ａを形成し、内周面にはこのポートに連なる環状路６１ｃを形成する。回転筒５０には軸方向路５１ａを形成し、この軸方向路の下端部を前記環状路に連ね、他端部を前記流体ターミナルに連ねる。 （もっと読む）