【課題】キャリアとベアリングとの耐摩耗性を向上させることによって、生産性の更なる向上を可能としたインライン式成膜装置を提供する。
【解決手段】キャリア４に保持された基板Ｗを複数のチャンバの間で順次搬送させながら成膜処理を行うインライン式成膜装置であって、キャリア４を非接触状態で駆動する駆動機構２０と、駆動機構２０により駆動されるキャリア４をガイドするガイド機構２１とを備え、ガイド機構２１は、キャリア４に設けられたガイドレール２９に係合された状態で、駆動機構２０により駆動されるキャリア４を鉛直方向にガイドする主ベアリング２８と、キャリア４を挟み込んだ状態で、駆動機構２０により駆動されるキャリア４を水平方向にガイドする副ベアリング３０とを有して、これらベアリング２８，３０とキャリア４との何れかの接触面に、コルモノイ系合金による耐摩耗処理が施されている。 （もっと読む）

【目的】振動の発生を抑制したステージ駆動装置を提供することを目的とする。
【構成】本発明の一態様のステージ駆動装置１０６は、上面と裏面に移動距離以上の範囲で平行な平面部を有し、基板を配置するＸＹステージ１０５に接続され、長手方向に移動することで当該方向にステージを移動させるレール状部材２０と、レール状部材２０における上面側の平面部に円形の外周面で接触し、接触した状態で回転することでレール状部材を長手方向に移動させる駆動側回転軸１０と、駆動側回転軸１０を支持する軸受３０と、駆動側回転軸１０の下部に配置され、駆動側回転軸１０の外周面のうちレール状部材２０と接触する部分よりも軸受３０側に位置する部分に円形の外周面で接触し、駆動側回転軸１０の回転により回転させられる軸受４０と、を備えたことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】基板の変形を抑えて基板の受け渡しができること。
【解決手段】基板を保持し、支持部によって支持される基板保持部材であって、前記基板が載置される載置面を有する基板載置部と、前記基板載置部と一体的に設けられ、前記載置面を含む面内に位置する所定軸を中心として前記基板載置部が回転可能なように前記支持部によって支持される被支持部とを備える。 （もっと読む）

【課題】真空容器への適用が可能で、設計自由度及び設置の自由度が高く、メンテナンス性の良い２軸ステージ装置を提供する。
【解決手段】本発明に係る２軸ステージ装置は、Ｙ軸方向に移動可能なＹテーブル４と、Ｙテーブル４上に載置された中間テーブル１５と、中間テーブル１５上に載置され、該中間テーブル１５上に設けられたＸ方向ガイド１１によってＹ軸方向と直交するＸ軸方向に移動可能なＸテーブル９を有している。Ｙ送りねじ５はＹモータ２の回転をＹ軸方向への直線運動に変換し、Ｙテーブル４をＹ軸方向に移動させる。一方、ボールスプライン軸１４はＸモータ７によりＹ軸方向を回転中心として回転する。スプラインナット１４１には歯車１３が固定されており、この歯車１３とＸテーブル９に固定されたラック１２によってボールスプライン軸１４の回転がＸ軸方向への直線運動に変換され、Ｘテーブル９をＸ軸方向に移動させることができる。 （もっと読む）

【課題】フリーボールベアリングからチャンバ内への粉塵の飛散を防止することができ、しかも受け球を押さえ込んで主球の回転抵抗を増大させるための受け球押さえリングの移動抵抗を、グリスを使用しないノングリス方式にて低く抑えることができる技術の提供。
【解決手段】本体２０の球受け部２３の半球状凹面２１と主球４２との間に挿入して受け球４２を押さえ込むことで主球４２の回転抵抗を増大させるリング状の押さえ片５５を有する受け球押さえリング５０を内蔵するフリーボールベアリング１１０を台板８９ａに固定し、受け球押さえリング５０に固定されたロッド６２を移動して受け球押さえリング５０を待機位置から受け球押さえ位置に移動する押さえ用駆動装置７０が台板８９ａの裏面側に設けられているベアリングユニット、フリーボールベアリング１１０、支持テーブル、搬送設備、ターンテーブルを提供する。 （もっと読む）

【課題】基板保持装置において、位置決め時の基板の破損を防ぐとともに、基板を正確に位置決めする。
【解決手段】基板Ｓを基準位置に位置決めして収納する基板トレイ２と、基板トレイ２が載置されるホルダと３、基板トレイ２をホルダ３の基準位置に位置決めするトレイ位置決め機構４と、を備える構成とする。好ましくは、基板トレイ２は、基板Ｓに電気的に接続されるトレイ側給電端子２ａを有し、ホルダ３は、トレイ側給電端子２ａに接続される装置側給電端子５を有し、トレイ位置決め機構４は、基板トレイ２の位置決め、及び、トレイ側給電端子２ａと装置側給電端子５との接続を行う構成とする。 （もっと読む）

【課題】テーブル板の表面の傾斜移動が抑制された昇降テーブルを提供すること。
【解決手段】基台（１１）、基台上に設置された昇降装置（１２）、下端部が昇降装置に可動接続具（４１）を介して固定され、上端部にてテーブル板（１３）を支持している軸体（１４）、前記基台上の昇降装置の周囲に立設された支柱（１５）に支持されている、前記軸体を上下に移動可能に収容する外筒（１６）を持つ直動軸受（１７）を含み、前記の可動接続具が、昇降装置に固定された支持板と、支持板上に複数の球体を介して滑動可能に支持された可動板とを有するスライドユニット、および前記可動板に固定されている、上方に開口する球状の空洞部を持つハウジングと、前記空洞部に収容された球体と、この球体の頂部に備えられている、前記のハウジングの開口を通って軸体の下端部に固定された支持軸とを有する球面軸受からなる昇降テーブル。 （もっと読む）

【課題】
基板の搬送方向の直進性に優れた基板搬送装置を提供する。
【解決手段】
基板搬送装置１は、補助回動ギア３２と回動プーリ３１とを連結するリンク部材３３を備え、リンク部材３３はリンク部材３３の連結長（貫通孔３３Ａの中心Ｐ−貫通孔３３Ｂの中心Ｑの間の長さ）を調整するためのリンク長さ調整部３４とを備えている。このため、各部材の機械加工精度に依存して組立誤差が生じても、リンク部材３３の長さ（連結長）を調整部３４により調整して、補助回動ギア３２の中心Ｏと回動プーリ３１の中心Ｒとの間の長さと、連結長とを同じに調整できる。従って、リンク部材３３により、回動プーリ３１と補助回動ギア３２との回動量つまり回動プーリ３１と回動ギア３０の回動量を一致させて、基板の搬送方向の直進性を向上させることができる。 （もっと読む）

【課題】テーブル部の高さ位置を低くする。
【解決手段】ステージ装置１では、第１ガイドレール１４を上るように支持スライダ１３をボールねじ２１で移動させると、Ｚ軸テーブル部１２が支持スライダ１３で支持されていることから、かかる移動に伴ってＺ軸テーブル部１２が上昇する。このとき、支持スライダ１３が第２ガイドレール１８を下るようにＺ軸テーブル部１２に対して移動するため、Ｚ軸テーブル部１２にあっては、支持スライダ１３によるくさび作用で押し上げられるように上昇する。つまり、支持スライダ１３を移動させることで、第１及び第２ガイドレール１４，１８が互いに協働しＺ軸テーブル部１２が重畳的に鉛直方向に移動する。よって、例えばガイドレール１４，１８の傾斜角度θ１，θ２を小さくして扁平構造としても、Ｚ軸テーブル部１２の鉛直方向の移動量を充分に確保することができる。 （もっと読む）

【課題】 処理プレートの表面へのパーティクルの侵入を防止すること。
【解決手段】 摺動支持部材２０は、上部ブロック２１と、シール部材２２と、下部ブロック２３とから構成されている。シール部材２２は、リフトピン１０における支持部１２の外周面と当接している。上部ブロック２１には、リフトピン１０の周囲を覆うチャンバーを形成するチャンバー部２４が付設されている。下部ブロック２３には、リフトピン１０における支持部１２と当接・摺動する摺動部２５が付設されている。摺動支持部材２０におけるチャンバー部２４を含む上部ブロック２１と熱処理プレート３０との間には、熱処理プレート３０の裏面側の領域と貫通孔１４とを連通するバイパス流路１５が形成される。このバイパス流路１５の熱処理プレート３０の裏面側の端部には、フィルター３２が付設されている。 （もっと読む）

【課題】 マスクを被処理対象物に対して位置合わせ後、基台にマスクを設置固定する際に、高精度にマスクと被処理対象物の相対的な位置のずれを無くすること。
【解決手段】保持装置は、基板が載置される基台と、マスクを支持する為に、基板が載置される保持面の外側の周辺部に少なくとも３個配置され、マスクが基板の上に載置されるときには保持面から突き出ているマスク支持部材と、マスク支持部材により支持されているマスクの位置を調整する調整機構と、調整機構により位置が調整されたマスクを基台に固定する固定機構と、を有する。 （もっと読む）

【課題】搬送機構を長時間停止させておいた場合でも、初回駆動時にエラーを起こし難い搬送機構の制御方法を提供すること。
【解決手段】ロードポートと、ロードポートに接続された搬入出室と、搬入出室に接続されたロードロック室と、ロードロック室に接続された搬送室と、搬送室に接続された複数の処理室と、搬送室に設けられ、被処理基板を搬送する搬送機構と、を備えた基板処理装置の搬送機構の制御方法であって、被処理基板がロードポートに到着した後、かつ、被処理基板が搬送室に移送される前に、搬送機構を微少駆動させる。 （もっと読む）

直接ロードシステムが、容器を垂直の向きでコンベヤの近くの下方位置とロードポートドアに近接した上方位置との間で動かすロードポートを有する。ロードポートは、支持体を垂直の形態で動かす単一のアームを有し、単一のアームを動かすことにより支持体をコンベヤのビーム相互間の格納場所でコンベヤまで下降させることかできるようになっている。コンベヤは、ビームに設けられていて、単一アームを通過させることができる単一のスロットを有する。単一アームは、格納場所から上昇してコンベヤから離れ、ロードポートドアに至る。単一アーム及びコンベヤスロットとのインターフェイスは、他のツール、例えばストッカ又は容器（例えばウェーハ等）を製造設備の種々の場所／ツールまで搬送するために用いられるコンベヤに直接アクセスすることを必要とするツールによって利用できる。
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【目的】本発明は、超音波モータを用いてステージを駆動する試料移動機構に関し、超音波モータを構成する駆動チップとモータガイド面の全体を覆って閉領域にすると共に当該閉領域とステージとの間にシールを設け、超音波モータでステージを移動させたときに発生するパーティクルが当該閉領域に滞留して試料に達しないようにすることを目的とする。
【構成】試料を搭載するステージに連結した、超音波モータを構成するモータガイドと、モータガイドに圧接して所定超音波電圧を印加してモータガイドを駆動する、超音波モータを構成する、支持棒に固定された駆動チップと、モータガイドおよび駆動チップを覆うと共に、駆動チップがモータガイドを駆動して移動したときに摺動する支持棒との間をシールするシール部を設けて閉領域を形成したモータ室とを備える。 （もっと読む）

ロボットのピボットアーム組立体を製造する方法は、剛体で加工可能な材料から円形の円盤を形成すること、及び円盤の中心を貫通して円形の穴を形成することを含む。穴を画定する内側表面に外側軸受トラックが一体的に形成されると共に、その穴あき円盤が、外側軸受トラックに係合する固定部を備えた加工装置内に位置決めされる。そして、一体の外輪、アーム、歯付き歯車セグメントが円盤に加工され、ピボットアーム組立体の外側部分が形成される。内側軸受トラックを備えた内倫が一体の外輪の内側に位置決めされ、転がり軸受要素が第１及び第２の軸受トラックに挿入される。 （もっと読む）

【課題】所定の負圧状態を維持しつつ支持対象物を円滑に駆動可能に支持する。
【解決手段】シリンダ６１とピストン７１とを有するピストン装置ＰＴによって、大気よりも低い第１の圧力に設定された第１空間５に配された支持対象物ＰＬを支持する。ピストンと支持対象物に接続され、シリンダに設けられた第１空間に開口した空隙６４を介してシリンダに対して軸方向に移動自在に設けられたロッド７２と、第１の圧力よりも高く、且つ大気よりも低い第２の圧力に設定され、シリンダを収容する第２空間１５と、空隙とロッドとの間に形成され、気体吹出し部８２を有する気体軸受７５と、気体吹出し部が設けられた位置よりも第１空間に近い位置で空隙から気体を吸引する吸引装置８３と、一端が空隙から気体を吸引する位置よりも第１空間に近い位置で空隙に開口し、他端が第２空間に開口する吸気路８６とを有する。 （もっと読む）

【課題】バッファ軸が上下動もしくは回転しても真空度が低下せず、ワーク吸着時のエア吸引を行う配管チューブの抵抗荷重が、吸着時のバッファ力に作用する影響を排除し、且つ当該バッファ力を所望の値に設定することが可能なワーク吸着搬送装置の吸着機構を提供する。
【解決手段】本発明に係る搬送装置の吸着機構は、ハウジングに設けられた上下二つの滑りガイドによって垂直方向に摺動可能に支持されたシャフト部と、シャフト部の下端に、先端に吸着パッドが設けられるヘッド部とを備え、ハウジングと二つの滑りガイドとシャフト部とによって密閉される空間部が形成され、吸着パッドの先端からシャフト部を貫通して空間部に至る第１の配管が設けられ、第１の配管は、シャフト部の摺動位置にかかわらず、常時、空間部に連通するように構成され、ハウジングに空間部内の空気圧を変化させる第２の配管が設けられる。 （もっと読む）

【課題】搬送部の被案内面に外周面を接触させて回転することにより前記搬送部を案内する搬送ローラにおいて、搬送部の被案内面が搬送ローラに衝突した時の耐久性を改善する。
【解決手段】搬送ローラ１を以下の方法で作製する。図２のミルポット内に窒化珪素製のボール５を複数個入れるとともに、円柱体４４に搬送ローラ１を外嵌して遊星ボールミルを作動させ、ボール５に、ミルポット内に発生する公転に伴う遠心力と自転に伴う遠心力を付与することで、ボール５を搬送ローラ１の外周面に衝突させて外周面の表層部に残留応力を導入するボールミル工程を行った後に、仕上げ研磨加工を行う。 （もっと読む）

【課題】ウエハステージ等を駆動する際に生じる駆動反力を低減し、投影光学系等へ伝達する振動の影響を小さくして、高精度な露光を行う。
【解決手段】レチクル１のパターンを投影光学系２を介してウエハ３上に投影する露光装置において、ウエハステージ５が載置されるウエハベース７とは分離されるとともに、レチクルステージ４及びレチクルベース９を支持する構造体６から延びる３本の柔構造のロッド１９Ａ〜１９Ｃにより投影光学系２を支持する。また、ウエハベース７が載置される床面上に防振パッド４９を介して構造体６を支持する。 （もっと読む）

【課題】載置装置の軽量化及び高剛性化を実現すると共に載置装置の重量の対称性を高めることにより、高速移動性及び検査の信頼性を向上させることができる載置装置を提供する。
【解決手段】本発明の載置装置１０は、半導体ウエハを載置する載置台と、この載置台を支持し且つ上記載置台より小径に形成された筒状の昇降体１１と、この昇降体１１の外周面に周方向に互いに１２０°隔てて設けられ三本の昇降ガイドレール１２Ａと、各昇降ガイドレール１２Ａそれぞれと係合する係合体１２Ｂが固定された垂直壁１３Ａを有する支持体１３と、を備えている。 （もっと読む）