エアブリッジ（１０）を形成するリソグラフィック方法は、一連の下端レジスト層（２）、シールド層（３）、及び上端レジスト層（４）を設けるステップと、ブリッジスパンの領域で上端レジスト層（４）を除去した後にシールド層（３）を除去するステップと、ブリッジのピラーの領域で下端レジスト層（２）を除去するステップと、一連の層の上に金属層（８）を形成するステップと、シールド層部分（３）及び金属コーティング部分（９）と共にレジスト層（２、４）を除去して、エアブリッジを形成するステップとを備える。 （もっと読む）

【課題】
【解決手段】集積回路の配線構造を形成する方法が、誘電材料の層（１３）内に複数のフィーチャ（１６）を形成するステップと、フィーチャの側壁（１６ｓ）にスペーサ（２０）を形成するステップとを含む。次に、スペーサによって側壁から分離された導体（２５）をフィーチャ内に形成する。その後、スペーサを除去して側壁のところに空隙（４０）を形成し、それによって導体が空隙によって側壁から分離されるようにする。導体の上下の誘電体層（４２、１２）は、導体間の誘電体の誘電率よりも低い誘電率を有する低ｋ誘電体とすることができる。各導体（２５）の断面は、低ｋ誘電体層（１２）と接触する底部と、他の低ｋ誘電体（４２）と接触する上部と、空隙（４０）とのみ接触する側面とを有する。空隙は、層内静電容量を低減する機能を果たす。 （もっと読む）

【課題】 低静電容量配線のための調節可能な自己整合型エアーギャップ誘電体を形成すること。
【解決手段】 調節可能で自己整合型の低静電容量集積回路のエアーギャップ構造は、相互接続層上で第二相互接続部に隣接する第一相互接続部と、該第一相互接続部及び該第二相互接続部の隣接する側部に沿って形成されたスペーサと、該第一相互接続部と該第二相互接続部との間に形成されたエアーギャップとを含む。エアーギャップは、第一相互接続部及び第二相互接続部の少なくとも一方の上面より上方で、かつ、該第一相互接続部及び該第二相互接続部の少なくとも一方の下面より下方に延び、スペーサ間の距離が該エアーギャップの幅を定める。エアーギャップは、第一相互接続部及び第二相互接続部の隣接する側部に自己整合する。 （もっと読む）

金属ライン（８（ｉ））の間および誘電体内にエアギャップを形成する方法である。方法は、デュアルダマシン（dual damascene）構造を得ること、拡散バリア層（１０）を、平坦化された面に直接加えること、およびリソグラフィステップを行なうことからなり、これにより、金属ラインを、拡散バリア層の下に遮蔽する。任意として、金属ライン（８（ｉ））間の大きな誘電体領域（６）のいくつかの部分も、遮蔽される。露出した拡散バリア層部分および下にある誘電体がエッチングされる。典型的には１５０〜４５０℃の温度に加熱することにより、揮発性成分に分解することができる材料の層が加えられ、エッチングまたはＣＭＰにより平坦化される。分解性生成物に対して透過性である誘電体層（２０）が堆積され、その後、基板は加熱される。次いで、使い捨て層が分解し、透過性の誘電体層を通じて消滅し、その後に、金属ライン（８（ｉ））および大きな誘電体領域の間に、エアギャップ（２２）を残す。
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【課題】 強度低下や寸法増大を抑えながら、バイアホールの接地インダクタンスを低減できる半導体装置とその製造方法およびＭＭＩＣを提供する。
【解決手段】 このマイクロ波帯用増幅器ＧａＡｓＭＭＩＣは、その接地電極８が、３個のバイアホール１１からなるバイアホール群１２を有し、この３個のバイアホール１１は、その内側に充填されたメッキ金属１０ａが近接されて形成され、その相互作用によって高周波的な電磁界結合が発生して、接地インダクタンスが低減された。 （もっと読む）

【課題】半導体回路の隣接導体線間容量性クロストークを減少させる。
【解決手段】フィラー材料を蒸発させて形成された空隙を有する金属被覆体の製造方法で、フィラー材料３０は透過性の誘電層４０により覆われる。フィラー材料はＰＰＧ、ＰＢ、ＰＥＧ、非結晶フッ化炭素及びＰＣＬからなる群から選択され、スピン・オン法又はＣＶＤ法により形成される。フィラー材料を、間隔をあけた導電線２０及び半導体構造体１０上に形成し、エッチバック処理し、導電線の上面を露出させる。次に、フィラー材料上に透過性の誘電層４０を形成する。透過性の誘電層は分解したガス相フィラー材料が拡散するのを許容する性質がある。フィラー材料を蒸発させ、気相フィラー材料に変化させる。気相のフィラー材料は透過性の誘電層を通じて拡散して、間隔をあけた導電線の間に空隙を形成する。透過性の誘電層上に絶縁層が形成される。 （もっと読む）

【課題】 比抵抗の低い半導体基板の上であっても、その上に形成した高周波用伝送線路の伝送損失を抑制できるようにする。
【解決手段】 信号線１０３およびグランド線１０４と半導体基板１０１との間に介在する絶縁膜１０２と、信号線１０３の両側の半導体基板１０１に形成された溝１０５とを備え、信号線１０３およびグランド線１０５は、半導体基板１０１に接している辺より半導体基板１０１に垂直な隣辺の方が長い長方形状の断面を有する。 （もっと読む）

【課題】 抵抗の低い半導体基板の上であっても、その上に形成した伝送線路の伝送損失を抑制できるようにする。
【解決手段】 半導体基板１０１上に信号線１０２とグランド線１０３とからなる伝送線路が形成され、その信号線１０２の両脇の半導体基板１０１に溝１０４を備え、また、信号線１０２およびグランド線１０３は、半導体基板１０１主面に平行な底面に対し、隣接する側面の方が面積が広くなるように形成されている。 （もっと読む）