【課題】基板の不所望な範囲にまで薬液処理が及ぶことを抑制または防止することができる基板処理方法および基板処理液装置を提供する。
【解決手段】回転されている基板Ｗ下面の回転中心付近に薬液を供給し、基板Ｗの周端面から上面に向けて第１回り込み量Ａ１で回り込ませる。その後、回転されている基板Ｗ下面の回転中心付近に純水を供給し、その純水の一部を、薬液と同じ回り込み量で回り込ませて、薬液が回り込んだ範囲に残っている薬液の大部分を除去するとともに、僅かに薬液が残留したとしても、その薬液を十分に希釈された状態とする。さらに、その後、回転されている基板Ｗ下面の回転中心付近に純水を供給し、その純水の一部を、薬液の回り込み量よりも大きな第２回り込み量Ａ２で回り込ませて、基板Ｗ上の残留薬液を洗い流す。 （もっと読む）

【課題】基板の処理後に処理液がノズルから滴り落ちるのを防止して、基板の処理を均一に行う。
【解決手段】基板１の処理を行う場合、制御弁２３ａ及び制御弁２４ａが閉じた状態で、モータ１７により基板１を回転しながら、制御弁２２ａを開く。ノズル２０ａは、処理液供給源Ａから供給された処理液を、基板１の表面へ供給する。基板１の処理が終了すると、まず、制御弁２２ａを閉じて、制御弁２３ａを開く。そして、制御弁２４ａを開き、ノズル２０ａ内の圧力を大気開放する。ノズル２０ａ内の圧力を大気開放すると、ノズル２０ａ内と大気との差圧がなくなるので、ノズル２０ａ内の処理液が自重により落下してノズル２０ａから迅速に排出される。従って、ノズル２０ａの内部に処理液が残らず、基板１の処理後に処理液がノズル２０ａから滴り落ちるのが防止され、処理のむらが発生しない。 （もっと読む）

【課題】基板の処理効率を顕著に向上することが可能な基板処理装置および基板処理方法を提供する。
【解決手段】基板Ｗの表面中央に向けて処理液を吐出する処理液ノズル５０に接続された処理液供給管６３は、ミキシングバルブ（多連弁）８０に接続されている。ミキシングバルブ８０には、複数種の薬液または純水の流量を制御する複数の流量コントロールバルブ８１，８２，８３，８４，８５が接続されている。一方、基板Ｗの裏面中央に向けて処理液を吐出する裏面ノズル２７を先端に有する処理液供給管２６は、ミキシングバルブ９０に接続されている。ミキシングバルブ９０には、複数種の薬液または純水の流量を制御する複数の流量コントロールバルブ９１，９２，９３，９４，９５が接続されている。 （もっと読む）

【課題】基板を浸漬させて処理する薬液の劣化を正確に把握する。
【解決手段】基板を薬液に浸漬して基板の表面に形成された溶解層を除去する基板処理装置に、処理槽において除去された溶解層物質の総量を示す指標値情報１２０を演算する演算部１６と、記憶装置１２に記憶された溶解層物質の閾値情報１２１と演算部により求めた指標値情報１２０とを比較して処理槽における薬液の劣化を判定する判定部１７とを設ける。そして、ドライバ１８は判定部１７の判定結果情報１２２に応じて、液供給機構４、バルブ群５およびポンプ６を制御して処理槽の薬液を交換する。 （もっと読む）

【課題】基板上に形成された膜を基板の端面においても精度よく溶解することができ、しかも処理液のはね返りによる溶解の不均一が生じ難く、さらに処理液の使用量を低減することができる液処理装置および液処理方法を提供すること。
【解決手段】膜が形成されたウエハＷを回転しつつ膜上にその膜を溶解する処理液を供給して膜を平坦化する液処理装置は、ウエハＷを水平にかつ回転可能に保持するウエハ保持部１と、ウエハ保持部１を回転させる回転機構２と、ウエハＷの表面に処理液を供給する液供給機構４とを具備し、液供給機構４は、同一の処理液を吐出する第１の液吐出ノズル２１および第２の液吐出ノズル２２を有し、第１の液吐出ノズル２１は第２の液吐出ノズル２２よりも小径で相対的に吐出流量が小さく、かつウエハＷの回転方向に処理液が吐出されるように傾斜しており、さらにウエハＷの中心と周縁との間を移動可能である。 （もっと読む）

【課題】処理液投入量を高精度に制御でき、処理液への気泡混入および処理液の飛散を抑制できる処理液投入装置を提供する。
【解決手段】薬液投入装置１２は、薬液貯留槽２８から調合槽１１へと薬液を供給する薬液投入配管２１を備えている。薬液供給配管２１は、可撓性配管で構成されており、その先端部付近に浮き部材２４が固定されている。浮き部材２４は、調合槽１１内における処理液１５の液面の上下動に追従し、薬液投入配管２１の吐出口２１ａを当該液面に位置させる。 （もっと読む）

【課題】ノズルからの薬液吐出により薬液処理を行った後に同ノズルからのリンス液吐出によりリンス処理を行う際に、薬液やリンス液の逆流が生じるのを未然に防止するとともに、処理に要する時間を短縮する。
【解決手段】洗浄動作が完了すると、時刻ｔ２に薬液用開閉バルブが閉じられて薬液の供給が停止されるとともに、経過時間のカウントが開始される。そして、待機時間Ｔ２が経過すると、時刻ｔ３にリンス液用開閉バルブが開かれて、ノズルへのリンス液の供給が開始され、これによってリンス処理工程が実行されるとともに、経過時間のカウントが開始される。そして、待機時間Ｔ３が経過すると、時刻ｔ４に薬液用サックバックバルブがオフにされ、これによって、薬液用サックバックバルブによる薬液の吸い込み、すなわちサックバック工程が開始される。 （もっと読む）

【課題】薬液の供給に伴う処理液の濃度の低下を防止すること。
【解決手段】本発明では、処理槽（薬液処理槽25）に純水供給源(35)を供給管(36)を介して接続するとともに、加圧ガス供給源(83)を接続した薬液タンク(51,52,53,54)を前記供給管(36)に接続して、前記加圧ガス供給源(83)から供給される加圧ガスの加圧圧力によって前記薬液タンク(51,52,53,54)に貯留した薬液を前記供給管(36)に供給し、前記純水供給源(35)から供給される純水で前記薬液を所定濃度に希釈して前記処理槽（薬液処理槽25）に供給する液処理装置（基板処理装置１）において、前記加圧ガス供給源(83)と前記薬液タンク(51,52,53,54)との間に圧力調整機構(84,85)を介設し、この圧力調整機構(84,85)を用いて前記薬液の供給開始後に前記加圧ガスの加圧圧力を増加するように構成した。 （もっと読む）

【課題】半導体基板の大量処理を高速で可能にする半導体基板の枚葉処理装置及び処理方法を提供する。
【解決手段】枚葉処理装置は、基板である150ｍｍ角シリコンウェーハ１を浸漬浮遊させる処理液30と基板を移動搬送させる処理液の流れを創出させる多孔噴出孔23とからなり、液中に浮遊した基板7が、化学処理と並行して移動搬送方向矢印8へ移動するように、多孔噴出孔23から噴出流31が創流される。多孔噴出孔は液溜り部32に直結しており、液溜り部32は供給配管33により処理液が供給され。液溜り部位の容量と噴出孔の寸法や配列は、噴出孔からの流量の均一性を確保する配置とされている。 （もっと読む）

【課題】循環する高温の処理液へ補充液を効率よく混入して処理液の濃度及び温度分布を均一に保持することができる構造が簡単な基板処理方法及び基板処理システムを提供すること。
【解決手段】処理液及びウェーハＷを収容し上部開口縁に溢流堰３ｂが形成された内槽３と内槽の溢流堰から溢れる処理液を収容する外槽４とを有する処理槽２と、内槽と外槽とを接続して処理液の循環を行なう処理液循環路Ｌ_１と、処理槽から蒸発した処理液と実質的に同一量の補充液を補充する補充液供給手段と、を備えた基板処理システム１であって、補充液供給手段は、複数個の供給ノズル１４と、供給ノズルへ前記補充液を供給する補充液供給源に接続された補給路Ｌ_２を有し、複数個の供給ノズルは、そのノズル穴１４'が溢流堰近傍の内槽に貯留される処理液内の液面に対して浅い位置に溢流堰に向けられて設けられている。 （もっと読む）

【課題】処理液により基板を処理する基板処理装置において、処理液の処理性能を維持し、基板処理装置の稼働率を向上させるとともに、処理液の消費量や排液量を低減できる技術を提供する。
【解決手段】基板処理装置１は、処理液の循環経路の途中に、処理液を冷却する冷却機構２５と、処理液中の不純物を除去するフィルタ２６，２７とを備える。これにより、処理液中に溶解している不純物を析出させ、析出した不純物を除去する。このため、処理液の処理性能が維持され、処理液を再利用できる。また、処理液を新液に交換する頻度が低減されるため、基板処理装置の稼働率が向上するとともに、処理液の消費量や排液量が低減される。 （もっと読む）

【課題】エッチング液の交換を自動化し易くし、装置の停止時間の短縮を図ることを目的とした処理装置を提供する。
【解決手段】本発明の処理装置は、半導体ウエハ１を熱燐酸によってエッチング処理する溢流部３ａ付のエッチング槽３と、前記溢流部３ａに溢流した燐酸をエッチング槽３外に導いて濾過、加熱及び純水を添加してエッチング槽３内へ戻す循環濾過経路部５と、前記エッチング槽３から取り出された燐酸にフッ酸を加えて加熱処理を行なう再生処理が行なわれる、燐酸再生装置６と、前記燐酸再生装置６で再生された燐酸を前記エッチング槽３に補給する補給配管１４０ａと、前記エッチング処理が行なわれた回数を計測し、該処理回数に基づき、エッチング液の全量を交換するエッチング液交換手段とを含む。 （もっと読む）

【課題】視覚的な識別を可能にすることにより、配管の誤接続を防止することができる基板処理装置を提供する。
【解決手段】注入管３４〜３６と、第１〜第３の注入部３１〜３３とをそれぞれ連結するナット４２に識別用の着色が施されている。例えば、硫酸用には「青色系」の着色を施し、過酸化水素水には「黄色系」の着色を施し、有機溶剤等の酸との混合で極めて危険なものには「赤色系」のようにする。したがって、ナット４２の色を見て容易に注入管３４〜３６を識別することができるので、配管の誤接続を防止することができる。 （もっと読む）

【課題】水平状態で基板表面に処理液の液層を形成した後、基板を傾斜姿勢に変換する装置において、基板表面内を処理液で均一に処理できるようにする。
【解決手段】現像液供給ノズル２２により表面に現像液が供給された基板Ｓが、搬送ローラ２１，３１によって傾斜機構まで搬送されてくると、傾斜機構による傾斜姿勢への変換が開始された基板Ｓの上端部に対して、現像液補充ノズル４３から現像液を供給する。姿勢変換後の基板が搬送ローラ４１によって次工程の洗浄室５に搬送される。 （もっと読む）

【課題】エッチング液の交換を自動化し易くし、装置の停止時間の短縮を図ることを目的とした処理装置を提供する。
【解決手段】本発明の処理装置は、半導体ウエハ１を熱燐酸によってエッチング処理する溢流部３ａ付のエッチング槽３と、前記溢流部３ａに溢流した燐酸をエッチング槽３外に導いて濾過、加熱及び純水を添加してエッチング槽３内へ戻す循環濾過経路部５と、前記エッチング槽３から取り出された燐酸にフッ酸を加えて加熱処理を行なう再生処理が行なわれる、燐酸再生装置６と、前記燐酸再生装置６で再生された燐酸を前記エッチング槽３に補給する補給配管１４０ａと、前記エッチング処理が行なわれた回数を計測し、該処理回数に基づき、エッチング液の全量を交換するエッチング液交換手段とを含む。 （もっと読む）

【課題】槽内の使用中の燐酸を、循環濾過経路部とフッ酸を用いる燐酸再生装置で再生する処理装置において、燐酸再生装置側へ回収する回収時及び回収量を自動化し易くかつ燐酸中の不純物を低減したり一定に維持可能にする。
【解決手段】ウエハ１を熱燐酸により処理する溢流部３ａ付エッチング槽３と、溢流部３ａに溢流した燐酸を槽外に導いて濾過、加熱及び純水を添加して槽３内へ戻す循環濾過経路部５と、循環濾過経路部５から分岐配管６０を介し取り出された燐酸にフッ酸を加え加熱処理する燐酸再生装置６と、燐酸再生装置６で再生された燐酸を槽３に補給する補給配管６７ａとを備えた処理装置を対象としている。改良点は、分岐配管６０を循環濾過経路部５の燐酸を濾過する濾過部５２の手前に設け、燐酸再生装置６側へ分岐する燐酸の量を濾過部５２へ流れる循環液圧に応じ制御可能な流量調節手段（圧力計とニードル弁等）を有している。 （もっと読む）

【課題】槽内の使用中の燐酸を、循環濾過経路部とフッ酸を用いる燐酸再生装置で再生する処理装置において、燐酸再生装置側へ回収する回収時及び回収量を自動化し易くかつ燐酸中の不純物を低減したり一定に維持可能にする。
【解決手段】ウエハ１を熱燐酸により処理する溢流部３ａ付エッチング槽３と、溢流部３ａに溢流した燐酸を槽外に導いて濾過、加熱及び純水を添加して槽３内へ戻す循環濾過経路部５と、循環濾過経路部５から分岐配管６０を介し取り出された燐酸にフッ酸を加え加熱処理する燐酸再生装置６と、燐酸再生装置６で再生された燐酸を槽３に補給する補給配管６７ａとを備えた処理装置を対象としている。改良点は、分岐配管６０を循環濾過経路部５の燐酸を濾過する濾過部５２の手前に設け、燐酸再生装置６側へ分岐する燐酸の量を濾過部５２へ流れる循環液圧に応じ制御可能な流量調節手段（圧力計とニードル弁等）を有している。 （もっと読む）

【課題】薬液弁を流路ブロックに取り付けた薬液供給ユニットを実現するために使用される流路ブロックを提供すること。
【解決手段】本発明の流路ブロックは、直方体の一面に２つのポート３６が形成され、２つのポート３６を連通する曲線状の連通路３７を有する。例えば、２つのポート３６及び連通路３７が、一体成形されたチューブ形状のチューブ部材３０であって、直方形のブロック部材２０に装着されて曲線状の連通路３７を形成する。 （もっと読む）

【課題】ノズル内部の洗浄を行うことが可能な基板処理装置および基板処理方法を提供することである。
【解決手段】基板処理部は、基板Ｗを水平に保持するとともに基板Ｗの中心を通る鉛直な回転軸の周りで基板Ｗを回転させるためのスピンチャック２１を備える。スピンチャック２１の内部には、処理液供給管が挿通されている。処理液供給管には、薬液または純水が供給される。処理液供給管の先端には、鉛直上方に向けて薬液または純水を吐出する下部ノズル２７が設けられている。薬液処理用ノズル５０の吐出口が下部ノズル２７の吐出口に対向する状態で、下部ノズル２７から薬液処理用ノズル５０の先端部に向けてノズル洗浄液としての純水が吐出される。 （もっと読む）

【課題】矩形の基板表面に対して効率よく均一にエッチング処理を行う。
【解決手段】基板処理装置１は、処理液供給部２、基板９を所定の搬送方向に搬送する基板搬送機構３、エッチング液である処理液の液滴を噴出する複数のノズル４、各ノズル４にガスを供給するガス供給部５、および、制御回路６を備える。各ノズル４は内部において処理液の液滴を生成し、搬送方向に垂直な方向に伸びるスリット状の噴出口４０から処理液の液滴をガスと共に基板９に向けて噴出する二流体ノズルとなっている。基板処理装置１では、処理液の液滴が複数のノズル４から搬送経路に向けて噴出される間に、処理液の噴出範囲内にて基板９を搬送方向およびその反対方向に１回以上揺動させることにより、基板９の処理領域全体において処理ムラの発生を防ぐことができ、基板表面に対して効率よく均一にエッチング処理を行うことができる。 （もっと読む）