【課題】空間的に均一な密度のプラズマを生成することができるプラズマ生成装置を提供する。
【解決手段】真空容器１１内に複数個の高周波アンテナ１６を配置し、各高周波アンテナ１６にインピーダンス素子１７を接続する。高周波電源２０に、銅板１８を介して複数の高周波アンテナ１６を並列に接続する。各インピーダンス素子１７をそれぞれ適切な値に調節することにより、高周波電源２０から各高周波アンテナ１６に供給される高周波電力を制御する。これにより、真空容器１１内のプラズマ密度の均一性を高くすることができる。 （もっと読む）

【課題】半導体製造装置の配管を流通する全ガス流量が大きく変わった場合でも常に最適な検出精度で流量検出を行える様にする。
【解決手段】半導体製造装置の配管１に流量検出装置２が設けられ、該流量検出装置がガス導入路１６とガス導入路に対して並列に設けられた調整流路１３，１４，１５を具備する流量調整部とを有し、前記ガス導入路にガス流量検出器７を設け、前記ガス導入路を流通するガス流量が所定範囲となる様、前記調整流路の流路断面積を変更可能とした半導体製造装置に係り、又前記流量検出装置は複数の調整流路を有し、該複数の調整流路は独立して開閉され、ガス導入路を流れるガス流量を流量検出器の検出適正流量とすることで、配管の全ガス流量が大幅に変化したとしても流量検出器の持つ最適精度で流量検出を行う。 （もっと読む）