【構成】 クリーンストッカ２内の上部にレチクル用回転棚４を、下部にポッド用回転棚６を配置し、下向きにクリーンガスを供給する。ストッカ２内をポッド搬送装置８とレチクル搬送装置１０とを昇降させ、ロードポート１８〜２１とポッドオープナー１２並びにポッド用回転棚６をポッド搬送装置８で接続する。ポッドオープナー１２とレチクル用回転棚４間をレチクル搬送装置１０で接続する。
【効果】 レチクルとポッドを多数コンパクトに保管でき、特にレチクルをクリーンに保管できる。 （もっと読む）

【課題】窒素原子を含む塩基性化合物の汚染を抑制することが可能な半導体装置の製造方法を提供する。
【解決手段】中間生成物から窒素原子を含む塩基性化合物を放出可能にする第１製造工程の後、塩基性化合物による汚染で工程性能が劣化する第２製造工程に中間生成物を密閉型搬送容器６０に収納して搬送する特定の工程間搬送経路において、密閉型搬送容器６０の内部の相対湿度を密閉型搬送容器外部の環境相対湿度より低く制御する。 （もっと読む）

【課題】レチクルの、パターンが形成された面の平面度を維持することができるように、レチクルのレチクル・ステージに取り付けられる面に、異物が付着するのを防止する、レチクル・カバーを提供する。
【解決手段】本発明によるレチクル・カバー（１０１）は、レチクル（１０３）が露光装置のレチクル・ステージに取り付けられていないときに、レチクルの、レチクル・ステージに取り付けられる面を覆う。本発明によるレチクル・カバーは、レチクルの、レチクル・ステージに取り付けられる面に対向する平面を含み、当該平面と、当該レチクル・ステージに取り付けられる面との間の間隔を、異物が進入しないように定められた値に保持することができるように構成されたことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】フォトマスクなどの収納容器内に、格別のスペースを要することなく、また、フォトマスクなどに悪影響を及ぼす要因を増やすことなく、容易に備え付け可能なガス除去具の提供。
【解決手段】ポリテトラフルオロエチレンを主体として構成されるシート体１ａからなる通気性を備えた扁平袋体１と、この扁平袋体１内に封入される活性炭シート２と、扁平袋体１の外側に巻き付けられた周回テープ体３とを備えている。この周回テープ体３の外面の一部には、吸盤機能を持った発泡プラスチック層３ｂ’よりなる吸着面３ａが形成されていると共に、扁平袋体１における周回テープ体３の巻き付け箇所１ｆに位置される縁部には、扁平袋体１の内部に至らない深さで、かつ、周回テープ体３の巾と略等しいかそれより広い巾を持った切り欠き部１ｇが形成されている。 （もっと読む）

本発明は、レチクルを保護するための方法、システム、および部品を提供し、具体的には、保管および使用中にレチクル上のヘイズ形成を最小限にするための方法、システム、および部品を提供する。レチクル上での湿度レベルが低減された保管庫ハウジング内のパージを実質的に継続的に持続することにより、またはパージされていないときにレチクルをコンテナ内で乾燥剤またはゲッタの近くに一時的に保管することにより、ヘイズ形成を、なくし、または最小限にし、または十分に抑制することができる。また、コンテナ内のフィルタ媒体を、レチクルを実質的に継続的にパージする間に「再生される」ように配置してもよく、コンテナがパージされていないときに、低減された望ましい湿度レベルをレチクル・コンテナ内で容易に維持することができる。さらに、本発明のシステムは、パージ・システムに付随するイオナイザを備えることができる。たとえば、イオナイザを、パージ・システムの複数のパージ・ラインのうちの少なくとも１つに付随させることができる。また本発明のシステムは、パージ・システムに接続された、ＣＤＡまたは超ＣＤＡの供給源を含むパージ・ガス源を備えることができる。保管庫ハウジングは、複数のレチクル保管容器を各々備える複数の棚を備えることができる。
（もっと読む）

【課題】半導体ウエハ等を収納する容器等の材料である高分子材料の導電性を向上させ、容器の帯電防止や塵埃付着防止をはかること。
【解決手段】高分子材料にカーボンナノチューブ等の導電性ナノチューブを含有させる。射出成形により作製する容器において、容器を構成する高分子材料は、ゲートと容器の端までの長さLと容器の代表厚みｔとの比L/tが増加すると、あるいは、シート状製品の場合には、圧延・延伸前後のシート厚さの比t₁/t₀が減少すると、導電率が増加する傾向にある。特にL/t比が50以上、またはt₁/t₀比が0.7以下において、顕著である。この理由は、高分子材料のマトリックス中に導電性ナノチューブがその長手方向に配向するためである。本発明を用いて成形した半導体ウエハなどの容器は、帯電しないので塵埃付着などがなく、半導体の超微細加工プロセスに適用できる。 （もっと読む）

【課題】レチクルケースの帯電を防止し、レチクルおよびレチクルケースへの塵埃等の異物の静電的付着を防止し、かつレチクル情報を確実に把握すること。
【解決手段】レチクルケースの上・下面に透明窓を設ける。これによりレチクルケース内のレチクル状態およびレチクル情報を把握できる。透明窓以外のレチクルケースは非帯電性材料で形成され、かつ連続している。これによりレチクルケースの帯電を防止できる。レチクルケースには呼吸弁およびケミカルアブソーバーが設置される。これによりレチクルケース内は、常に清浄な環境に保持される。呼吸弁はレチクルケース外表面から張り出さない構造である。このため、レチクルケース本体および蓋体の側面に形成されたV溝を用いて固定スライダでレチクルケース本体および蓋体を結合固定できる。また、呼吸弁の破損がなくなりレチクルケースの取り扱いも容易になる。 （もっと読む）

【課題】保管、輸送、操作中において収納するペリクルの汚損を防止して品質を維持することのできるフォトリソグラフィー用ペリクル収納容器を提供すること。
【解決手段】ペリクルを載置する容器本体と、ペリクルを被覆・保持すると共に容器本体と互いに周縁部で嵌合係止する蓋体とからなるペリクル収納容器であって、蓋体が自重によりたわんでペリクル膜に付着することがないよう予め凸形状に設計、製作したことを特徴とするペリクル収納容器。 （もっと読む）

【課題】各種の情報に基づいて、レチクルに施すべき各種の処理に対するレチクルの優先順位を算出でき、これにより、レチクルを適切に管理できるレチクル管理方法、管理装置及び管理プログラムの提供を課題とする。
【解決手段】半導体製造に用いられるレチクルに関するレクチル情報、半導体に関する半導体情報、半導体を製造する工場に関する工場情報に含まれる各種の情報の少なくとも一つに、パラメータを付与するパラメータ付与手段１４と、各種の情報の少なくとも一つに重み付けを実行する重み付け手段１５と、パラメータ及び重みに基づいて、レチクルに対して施すべき所定の処理に対するレチクルの優先順位を算出する優先順位算出手段１６とを備える。 （もっと読む）

【課題】露光装置を小型化することができ、工場などの設置スペースを有効利用することができると共に、露光装置の製造コストを低減することができる露光装置を提供する。
【解決手段】露光装置ＰＥ１は、複数の露光ユニット１００Ａ，１００Ｂを並列配置し、複数枚のマスクＭを収容するマスクストッカ７１と、マスクストッカ７１から所定のマスクＭをマスクステージ１０Ａ，１０Ｂに供給する１台のマスクローダ７０と、を備える。 （もっと読む）

【課題】コンテナまたはカセットにレチクルを固くかつ解放可能に保持する。また、微粒子異物を減じる。
【解決手段】本体１２と、締付けバー１４と、この締付けバー１４に取り付けられた複数の角隅支持部材２０，３４とを有しており、ばね４０が設けられており、このばね４０は、一方の端部で前記複数の角隅支持部材２０の少なくとも１つに取り付けられており、他方の端部で前記本体１２に取り付けられており、前記締付けバー１４が動かされる時に、前記複数の角隅支持部材２０，３４が動くようになっている。 （もっと読む）

【課題】高い解像度でパターンを加工することが容易であって、製品歩留まりの低下を防止する。
【解決手段】マスク支持台１２１が支持するマスクＭへ、マスクＭへの照明において不活性なガスｇをガス噴霧部１３１が噴霧することによって、マスク洗浄部３がマスクＭを洗浄する。 （もっと読む）

【課題】搬送中にマスクブランクス表面に塵埃が付着することを確実に防止可能なマスクブランクスの搬送方法を提供すること。
【解決手段】マスクブランクス１の搬送に用いるブランクス収納ケース１０では、マスクブランクス１に接する中箱３０、および蓋４０に形成されているブランクス支持部をはじめ、ブランクス収納ケース１０全体が導電性樹脂から構成されている。このため、マスクブランクス１の搬送中にこれらの部材が擦れても静電気が溜まらない。それ故、搬送中、マスクブランクス１をブランクス保持溝３２から取り出す際、あるいは蓋４０を外す際、静電気に起因する放電が起こらないので、中箱３０のブランクス保持溝３２、および蓋４０のブランクス支持部４１から塵埃が発生せず、塵埃がマスクブランクス１に付着することを確実に防止することができる。 （もっと読む）

【課題】搬送中に基板表面に塵埃が付着することを確実に防止可能な基板の搬送方法を提供すること。
【解決手段】基板１を搬送するにあたって、基板１を収納した基板収納ケース１０において、外箱２０の上部開口２１を覆う蓋４０の外周面と外箱２０の外周面との接合部分を粘着テープで塞いで外箱２０と蓋４０との接合部を隙間なく密封する。また、基板収納ケース１０をケース収納袋５０に収納した状態とする。さらに、ケース収納袋５０の上から外箱２０および蓋４０の双方に掛けたバンドで基板収納ケース１０を縛る。 （もっと読む）

基板キャリア用基板キネマティックカップリングまたはガイドプレートは、自動化された処理装置とキネマティックカップリングとの間に生成される摩擦力を減少させるために、接触点においてテクスチャ加工表面またはパターン表面を有する。テクスチャ加工表面は、処理装置とキネマティックカップリングの接触部との間の接触面積を減少させることにより、結果として生じる摩擦力を減少させる。摩擦力を減少させることによって、基板キャリアは処理装置の取付ピン上においてより容易に設置され、したがって、基板に対する自動化されたアクセス中に許容できない高さおよび角度の偏差が生じることを防止する。テクスチャには、ローレットパターン、接触部に沿って横方向に延びる隆起部、接触部に沿って縦方向に延びる隆起部を含むが、これらに限定されるものではない。テクスチャは、ブロー成形加工、射出成形加工、あるいはオーバーモールド成形加工により、あるいは機械加工またはインプリント加工により形成することができる。
（もっと読む）

【課題】基板の表面、特に下表面から静電気を効果的に除去し、ガラス基板とベースの間の静電気力を減少して、基板を湾曲と破損から防ぐことができる基板を処理する機器及びそのベースを提供すること。
【解決手段】基板を処理する機器であって、チャンバー、前記チャンバーに設置され、その表面に設置された複数の開孔とその中に設置され、前記開孔と通じるパイプを含むベース、前記ベースの上に設置され、前記基板を支持する少なくとも１つの支持構造、及び前記パイプに設置され、イオンガスを作り、前記イオンガスが前記パイプと前記開孔を通過して前記基板に向けて噴出され、前記基板から静電気を除去するイオンガス発生器を含む基板を処理する機器。 （もっと読む）

【課題】 真空露光装置においてレチクルを保管または搬送している間にレチクへ塵埃が付着することを防ぎ生産性の向上を目的とする。
【解決手段】 ロードロック室２４を介して、真空排気手段２９、３０が接続されたチャンバ３と装置外部との間でレチクル収納容器２７の搬送を行う露光装置であって、前記レチクル収納容器を開閉するための開閉手段１３が前記チャンバ３内に配置されかつ前記レチクル収納容器を保管するレチクル保管部１２を前記チャンバー内に備えることを特徴とする露光装置。 （もっと読む）

【課題】フォトマスクを搬入出のために収納容器の上蓋を開閉するフォトマスクの収納容器の開閉装置において、垂直層流型クリーンルーム環境において、基板の清浄度を維持しながら開閉することを可能ならしめる開閉装置を提供すること。
【解決手段】第１台座、第２台座と、装置の裏側に固着した支柱とその上部先端に上蓋把持治具と、上下昇降機構の第１シャフトと、前後スライド機構の第２シャフトとを備えた収納容器の開閉装置であり、第１シャフト上の第１台座上に収納容器を載置し、最上部位置に配置の上蓋把持治具に接する位置まで第１シャフトを上昇し、上蓋把持治具により上蓋を把持した後、上下昇降機構を介して第１シャフトを下降させながら第１台座及びベース部を第２シャフト上の第２台座に接する位置まで移動させ、第２台座上に載せ替えた後、前後スライド機構を介して第２台座を装置最前面部位置まで移動させるフォトマスクの収納容器の開閉装置。 （もっと読む）

【課題】ウエハーカセット又は基板が搬入された状態で、ロードロック室内の減圧又は雰囲気を迅速に置換できる技術を提供すること。
【解決手段】ロードロック室３の容積を規定する部材の一部を構成する可動部材の上部壁１４、下部壁１５と当該可動部材を駆動する駆動機構を備える。駆動機構は、ロードロック室３への物体６の搬入の後かつロードロック室３からの物体６の搬出の前に、可動部材１４、１５を駆動してロードロック室３の容積を変化させる。 （もっと読む）

【課題】マスク収納装置内で上蓋と下蓋とが確実に外れるようにするマスク収納容器開装置等を提供する。
【解決手段】マスクを収納すると共に大気環境と真空環境とを移動するマスク収納容器を、真空環境において、マスクを載置するベース部材２ｂとマスクを覆う蓋部材２ａとに分離させるマスク収納容器開装置１８，３０であって、マスク収納容器を載置して搬送するマスク搬送部と、蓋部材を係止すると共に蓋部材を載置可能な蓋部材係止部１８ｂと、ベース部材２ｂをマスク搬送装置に向けて押圧するベース部材押圧部３３ａとを備え、蓋部材を蓋部材係止部１８ｂに係止させると共に、マスク搬送部によりベース部材２ｂを降下させて、ベース部材２ｂと蓋部材２ａとを分離させる。
（もっと読む）