【課題】マスク収納装置内で上蓋と下蓋とが確実に外れるようにするマスク収納容器開装置等を提供する。
【解決手段】マスクを収納すると共に大気環境と真空環境とを移動するマスク収納容器を、真空環境において、マスクを載置するベース部材２ｂとマスクを覆う蓋部材２ａとに分離させるマスク収納容器開装置１８，３０であって、マスク収納容器を載置して搬送するマスク搬送部と、蓋部材を係止すると共に蓋部材を載置可能な蓋部材係止部１８ｂと、ベース部材２ｂをマスク搬送装置に向けて押圧するベース部材押圧部３３ａとを備え、蓋部材を蓋部材係止部１８ｂに係止させると共に、マスク搬送部によりベース部材２ｂを降下させて、ベース部材２ｂと蓋部材２ａとを分離させる。
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【課題】 半導体チップを収容した状態で溶剤中に浸積し、チップ表面に設けたレジストを確実かつ容易に除去可能な洗浄半導体チップトレーを提供する。
【課題の解決手段】 半導体チップ１００を洗浄半導体チップトレー１の横方向規制部２と縦方向規制部３で規制される部分に収容し、半導体チップ１００を収容していない他の洗浄半導体チップトレー１を重ね合わせた状態で、溶剤槽内に浸積することにより、洗浄半導体チップトレー１の各貫通孔７，１２から溶剤を洗浄半導体チップトレー１内に導入し、溶剤を洗浄半導体チップトレー１の各溝４，５，１０を通じて、隅々まで万遍なく行き渡らせ、レジスト１０１をムラなく除去する。 （もっと読む）

【課題】ケース内でのパーティクルの発生を抑制することができ、製品の品質および歩留の低下を抑えることができるレチクル収納ケースを提供する。
【解決手段】レチクル１を水平に保持するレチクル保持体２ｂを有する下皿２ａと、レチクル１を上部から弾性的に押さえつける押圧体３ｂを有する上蓋３ａとで構成し、レチクル保持体２ｂは金属のようなプラスチック樹脂よりも堅い材料で形成されており、その形状は丸みを帯びた上部凸型とする。 （もっと読む）

【課題】マスクやウェハ等の基板を異物から保護しながら搬送するとともに搬送後における基板の利用を容易にする。
【解決手段】容器３００は、マスクやウェハ等の基板７１を吸着して保持するチャック３１０と、チャック３１０とともに保管空間１０８を形成するカバー３２０とを備える。基板７１は、チャック３１０にカバー３２０が装着された状態において保管空間１０８内に保持されて搬送される。 （もっと読む）

【課題】搬送アーム、及び装置全体を安価で製造する。
【解決手段】同一円弧上にそれぞれの少なくとも一部が配置されたレチクル搬入部２９からレチクルステージＲＳＴを経由して、レチクル搬入部２９に至るまでのレチクルの搬送を、搬入アーム８２ａ、８２ｂが円弧の中心軸を回転軸として回転軸周りの所定方向の回転運動をするのみで行うことができるので、搬送アーム８２ａ，８２ｂの簡素化を図ることができ、これにより、搬送アーム８２ａ，８２ｂひいては露光装置全体を安価で製造することが可能となる。 （もっと読む）

【課題】フォトマスクの搬送、保管に使用されるフォトマスクケース起因によるフォトマスクの曇りを確実に防止するフォトマスクケースを提供する。
【解決手段】工程内のフォトマスクの搬送、保管用ケース及びフォトマスクのシッピング用ケースなどフォトマスクを搬送、保管するためのフォトマスケースであって、フォトマスクケースの内壁部にガスバリア層を設けており、前記ガスバリア層が酸化ケイ素膜もしくは酸化ケイ素膜と導電薄膜とからなるフォトマスクケース。 （もっと読む）

【課題】レティクルの熱的変形を防止する。
【解決手段】本発明の露光設備は、複数個のスロットを持つレティクルライブラリ１１０と、露光工程が進行されるレティクルステージ１３０とを含み、レティクルを複数個のスロットを持つレティクル保管部材１１０に移送させて、前記レティクルを複数個のスロットのうちのいずれか一つからレティクルステージ１３０に移送させて、複数個スロットのうちのいずれか一つを前記レティクルの飽和温度で制御する。 （もっと読む）

【課題】 液晶用マスクブランクスなどで代表される大型基板を損傷しないように搬送できる基板ケースを提供すること。
【解決手段】 第１のケース本体１と第２のケース本体２を接合して内部に基板１００が収容できる空間を形成する。基板１００は基板押え具（１０）及び基板固定具２０に挟持し、第１及び第２のケース本体１，２の錠金具３を施錠して固定する。基板固定具２０の第１ボックス２１には、ケース内に向って出没自在に突出させた推進ネジ軸２３、推進ネジ軸２３にねじ結合した正面視Ｘ字状の締付けレバー２５、推進ネジ軸２３をケース内に向って前進させる付勢手段２６、推進ネジ軸２３の先端に設け基板の側面を固定する基板押え２７を設ける。基板押え具（１０）並びに基板固定具２０は第１及び第２のケース本体１，２に複数個設けられる。 （もっと読む）

【課題】 マスクへのパーティクルの付着を防止して高品位な処理を行うことができる処理装置、当該処理装置を有する露光装置、保護機構を提供する。
【解決手段】 大気圧に維持されたマスク供給部と減圧または真空の処理チャンバとの間でマスクを搬送する処理装置であって、パターン面ＰＴを非接触に保護する保護機構１００を吸着し、保護機構に保持されたマスクＭＫをマスク供給部と処理チャンバとの間で搬送する搬送手段とを有する。保護機構はパターン面以外でマスクと接触し、接触部を介してパターン面との間で空間ＳＰを有するように保持部１１０と接続し、パターン面を保護するカバー部１２０を有する。 （もっと読む）

基板を搬送及び保存する際に使用されるバネラッチを備えたヒンジ連結されたマスク−パッケージ用容器。同容器は、摺動可能なバネラッチにより固定されたベース及び蓋を有し、同バネラッチは、蓋をベースと合わせるべく押し下げた場合にレールに沿った摺動動作により容器の蓋を受承し、摺動動作により元の位置に戻すことにより蓋及びベースを固定する。容器はオーバーモールド工程により形成された一体ヒンジを使用しており、同オーバーモールド工程により、ヒンジが第一の鋳型中にて形成され、次に容器の蓋及びベースが形成されて、第二の鋳型中にてヒンジと結合される。
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【課題】フォトマスクの搬送、保管に使用されるフォトマスクケース起因によるフォトマスクの曇りを確実に防止するフォトマスクケースを提供することを目的とする。
【解決手段】フォトマスクの搬送、保管に使用するフォトマスクケースであって、前記フォトマスクケース作成時の材料に含まれる有機硫黄系物質の合計が５ｎｇ以下、前記フォトマスクケース作成時の材料に含まれる有機リン系物質の合計が５ｎｇ以下、前記フォトマスクケース作成時の材料に含まれる揮発性有機物質の総量が１００ｎｇ以下になっていることを特徴とするフォトマスクケース。 （もっと読む）

【課題】 電子ビーム露光のように、基板１枚あたりの処理時間が非常に長い場合でも、レジストの変質を防止してパターンの線幅変動を抑止し、パターンの更なる微細化に十分対応可能な信頼性の高い露光を実現する。
【解決手段】 制御手段５は、ウェーハキャリア１をＳＭＩＦ−ＰＯＤ１１から移動させ、搬送部１７の空間内からサーマルチャンバー４との間でウェーハ１０を搬送及び回収する制御を行い、ウェーハ１０の露光時にはウェーハキャリア１をＳＭＩＦ−ＰＯＤ１１内へ戻し、ウェーハ１０の露光が終了するまでウェーハキャリア１をＳＭＩＦ−ＰＯＤ１１内で待機させる。 （もっと読む）

【課題】 大型化、重量化する大型フォトマスクを高清浄度で把持し、保管時および運搬時に、マスクが損傷したり、汚染したりすることを防止し、マスクの出し入れが容易なマスク用ケース、及びケース交換装置を提供する。
【解決手段】 大型フォトマスクを収納し搬送するためのトレーと上蓋からなる大型フォトマスク用ケースであって、少なくとも前記ケースの上蓋に金属のフレームと、前記フォトマスクを把持し固定するために前記金属フレームから前記ケース内部に突き出た爪と、前記金属フレームから前記ケースの外側に突き出たハンドルと、を有し、前記トレーと前記上蓋を分離した状態で、前記上蓋の内側に前記フォトマスクを前記爪で固定し、前記上蓋の外側の前記ハンドルを人間あるいは搬送装置が把持して搬送できることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 レチクル搬送容器の方向を間違えてもレチクルストッカーに装着できるようにする。
【解決手段】 一端に開口を有しレチクル１２を収納する内部を有し、開口を覆って塞ぐ扉１４と、扉１４でポッド１３を塞いだときに内部を気密にシールするシール材１５とを備えたレチクル搬送容器１１である。扉１４の外側表面に形成されて、装置側に位置決めして取り付けるためのキネマティックピングルーブを、１８０°方向を変えて二組設けた。ポッド１３の外側表面のうち、キネマティックピングルーブに対応した位置には、キネマティックピングルーブを受けて保持するための受け部２２を、二組のキネマティックピングルーブをいずれの方向からでも嵌合できるように配設した。 （もっと読む）

【課題】 方向を間違えて装着されたレチクル搬送容器１１を自動的に修正する。
【解決手段】 レチクル搬送容器１１と、レチクル搬送容器１１を搬送する搬送手段（４、５）と、回路パターンを焼き付ける露光機と、複数のレチクル１２を保管するレチクルストッカー２とを有するレチクル処理システムである。レチクルストッカー２から露光機１の焼き付け位置までの経路に、レチクル搬送容器１１の向きを検出してレチクル搬送容器１１を適切な向きに変更する向き変更手段８１を備えた。向き変更手段８１は、レチクル搬送容器１１を回転させる回転駆動部８２と、レチクルストッカー２から露光機１の焼き付け位置までの経路のいずれかに設けられレチクル搬送容器１１の方向を検出する方向検出手段８３と、方向検出手段８３で検出した方向が１８０°ずれている場合に回転駆動部８２を制御して正規の方向に修正する制御部８４とを備えた。 （もっと読む）

【課題】収納したフォトマスクブランクのガス汚染によるレジスト膜の感度変化と粉塵による汚染の両方を抑制することができるとともに、保管、輸送が容易なフォトマスクブランク収納容器を提供する。
【解決手段】レジスト膜を成膜したフォトマスクブランクを収納する容器であって、少なくとも、容器本体と、蓋体と、基板押さえと、有機ガス吸着剤及び／又は塩基性ガス吸着剤とを具備するものであり、前記基板押さえは、前記容器本体の開口部が前記蓋体で閉じられたときに、収納されたフォトマスクブランクを蓋体からの圧力で力学的に押さえて固定するものであり、かつ前記有機ガス吸着剤及び／又は塩基性ガス吸着剤を固定するものであることを特徴とするフォトマスクブランク収納容器。 （もっと読む）

【課題】収納したフォトマスクブランクのガス汚染によるレジスト膜の感度変化と粉塵による汚染の両方を抑制することができるとともに、保管、輸送が容易なフォトマスクブランク収納容器を提供する。
【解決手段】 レジスト膜を成膜したフォトマスクブランクを収納する容器であって、少なくとも、容器本体と、蓋体と、ガス吸着用カセットとを具備するものであり、該ガス吸着用カセットは、有機ガス吸着剤及び／又は塩基性ガス吸着剤を保持するものであり、かつ、前記容器本体の側面、底面、及び前記蓋体の上面のいずれかに着脱可能に装着されるものであることを特徴とするフォトマスクブランク収納容器。 （もっと読む）

レチクル操作装置が、ハウジング内でクリーンルーム状態を維持する少なくとも実質的に密閉されたハウジングと、ハウジングの内外へレチクルを導入し且つ送出する入力／出力ステーションと、ハウジング内に配置されてレチクルについての所定の機能を行う少なくとも１つの機能ユニットとを備える。装置は、ハウジング内に同様に配置されてハウジング内のレチクルを操作する操作装置を有する。
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【課題】パターンが形成された基板の搬送を行う基板搬送装置、基板搬送方法および基板搬送装置を備えた露光装置に関し、基板が使用されている時に、保護カバーの内面が汚染されることを容易，確実に防止する。
【解決手段】パターンが形成された基板３７の搬送を行う基板搬送装置であって、基板を使用していない時に基板を保護カバー６５により保護した状態で搬送する基板搬送装置において、基板３７が使用されている時に、保護カバーの内面を覆うカバー保護手段６７を有する。 （もっと読む）

【課題】 レジスト除去の工程抜けに起因する次工程での汚染防止を図る。
【解決手段】 半導体ウエハ上に形成されたレジストの有無をフラグで表し、レジストが有る場合を「ＯＮ」、レジストが無い場合を「ＯＦＦ」とし、レジスト除去工程（ステップＳ４）後のフラグが「ＯＦＦ」となるように、例えば搬送容器の記憶媒体に記憶させておく。熱処理工程（ステップ５）を行う前に、熱処理装置の検知機構によりフラグを確認し、フラグが「ＯＦＦ」であれば熱処理を行い、フラグが「ＯＮ」であれば熱処理を行わない。 （もっと読む）