【課題】インターフェイス部における基板搬送の信頼性を高めることができる基板処理装置を提供する。
【解決手段】基板処理装置１０は処理部３とＩＦ部５とを備え、ＩＦ部５は本装置１０とは別体の露光機ＥＸＰに隣接している。ＩＦ部５は、露光機ＥＸＰに対して基板Ｗを搬送する第２主搬送機構Ｔ_ＩＦＭと、第２主搬送機構Ｔ_ＩＦＭに替わって露光機ＥＸＰに対して基板Ｗを搬送する第２予備搬送機構Ｔ_ＩＦＳとを有する。したがって、第２主搬送機構Ｔ_ＩＦＭの機能が低下した場合であっても第２主搬送機構Ｔ_ＩＦＭに替わって第２予備搬送機構Ｔ_ＩＦＳが基板搬送を行うことができる。よって、ＩＦ部５における基板搬送の信頼性が高く、装置１０および露光機ＥＸＰを安定して稼働することができる。 （もっと読む）

【課題】フォトマスクケース内のフォトマスクの支持構造を改良する。
【解決手段】底台２、ケースカバー３及び複数個の押止部品４から構成するフォトマスクケースにおいて、底台の上面には複数個のフォトマスク支持部品を設け、ケースカバーは底台に被せて結合する。
各押止部品は、それぞれケースカバーの内側に配置されて，その一側は下向きに第一弾性片４１を形成し、他側は下向きに第二弾性片４２を形成して、それぞれフォトマスクの上面及び各側面を押さえて位置決めする。第一弾性片及び第二弾性片をそれぞれ押止部品の異なる側辺に形成するため、第一弾性片の押圧作用が第二弾性片を直接連動することなく、第二弾性片が過度にフォトマスクの側面を押さえることによる損傷を有効に防止する。 （もっと読む）

【課題】塗布現像処理装置の各ユニットの増加を抑えつつ、塗布現像処理装置の所定ユニットの処理条件の変更に際して露光装置の稼働率の低下を防ぐ。
【解決手段】本発明の基板処理システムは、複数の処理ユニットを有する塗布現像処理装置１と、露光装置２とから構成されたシステムにおいて、処理条件を変更する処理ユニット内へ入力される基板を一時的に格納する前バッファーユニット９と、処理条件を変更する処理ユニットから出力された基板を一時的に格納する後バッファーユニット１１とを備え、露光装置２のサイクルタイムをｔ１とし、処理条件を変更する処理ユニットのサイクルタイムをｔ２とし、同一の処理条件で処理する基板の枚数をｍとし、処理条件を変更するのに要する変更時間をｔ３としたときに、ｔ１＊ｍ≧ｔ２＊ｍ＋ｔ３が成立するように、サイクルタイムｔ１よりもサイクルタイムｔ２を短くする構成としたものである。 （もっと読む）

【課題】インデクサ部における基板搬送の信頼性を高めることができる基板処理装置を提供する。
【解決手段】基板処理装置１０はＩＤ部１と処理部３とを備え、ＩＤ部１は載置台８と搬送部９とを備えて処理部３に隣接している。搬送部９はカセットＣと処理部３とに対して基板Ｗを搬送する第１主搬送機構Ｔ_ＩＤＭと、第１主搬送機構Ｔ_ＩＤＭに替わってカセットＣと処理部３とに対して基板Ｗを搬送する第１予備搬送機構Ｔ_ＩＤＳと、を備えている。したがって、第１主搬送機構Ｔ_ＩＤＭの機能が低下した場合であっても第１主搬送機構Ｔ_ＩＤＭに替わって第１予備搬送機構Ｔ_ＩＤＳが基板搬送を行うことができる。よって、ＩＤ部１における基板搬送の信頼性が高く、処理部３を含む装置１０全体が安定して稼働することができる。 （もっと読む）

【課題】 マスク移載容器の遮蔽式入出気構造を提供する。
【解決手段】 移載容器は相対蓋合する底台とハウジングを含み、底台頂面には２個のサポート部品と１個の接触支持部品により組成する「コの字型」サポート体を設置しフォトマスクを支え、入出気構造は底台上に少なくとも２個の選択的に気密作用を生じる入出気部品を設置し、入出気部品は中空の底台範囲内に設置し、移載容器置は装置上に設置する開閉部品により移載容器の２個の入出気部品を選択的に開閉し、移載容器内部にクリーンな気体を注入し、移載容器内部の気体を導出し、これにより気体は該移載容器内部で循環流動状態を形成し、移載容器内部環境の清浄度を長期間維持可能で、同時に入出気構造はサポート部品下方に設置するため、気流がフォトマスク表面に直接衝撃を与え、フォトマスク表面に損傷を加える現象を回避可能である。 （もっと読む）

【課題】 リソグラフィシステムにおいて用いられるレチクルを保護する取外し可能なカバーを提供すること。
【解決手段】 取外し可能なカバーは、フレームと、上記フレームによって支持される薄膜とを含む。上記薄膜は、検査波長に対して透過性であるため、所定位置にある上記取外し可能なカバーを用いて、上記レチクルを検査することが可能である。上記取外し可能なカバーが所定位置にあり、かつ、リソグラフィによる露光を行う際に取外し可能である場合、この取外し可能なカバーは上記レチクルを保護する。上記取外し可能なカバーは、少なくとも１つのレチクルファスナをさらに含み得る。上記取外し可能なカバーが所定位置にある場合、上記少なくとも１つのレチクルファスナは、上記レチクルに力を加えて、これにより、上記取外し可能なカバーが上記レチクルに対して動くのを防ぐ。 （もっと読む）

【課題】 リソグラフィシステムにおいて用いられるレチクルを保護する取外し可能なカバーを提供すること。
【解決手段】 取外し可能なカバーは、フレームと、上記フレームによって支持される薄膜とを含む。上記薄膜は、検査波長に対して透過性であるため、所定位置にある上記取外し可能なカバーを用いて、上記レチクルを検査することが可能である。上記取外し可能なカバーが所定位置にあり、かつ、リソグラフィによる露光を行う際に取外し可能である場合、この取外し可能なカバーは上記レチクルを保護する。上記取外し可能なカバーは、少なくとも１つのレチクルファスナをさらに含み得る。上記取外し可能なカバーが所定位置にある場合、上記少なくとも１つのレチクルファスナは、上記レチクルに力を加えて、これにより、上記取外し可能なカバーが上記レチクルに対して動くのを防ぐ。 （もっと読む）

【課題】 リソグラフィシステムにおいて用いられるレチクルを保護する取外し可能なカバーを提供すること。
【解決手段】 取外し可能なカバーは、フレームと、上記フレームによって支持される薄膜とを含む。上記薄膜は、検査波長に対して透過性であるため、所定位置にある上記取外し可能なカバーを用いて、上記レチクルを検査することが可能である。上記取外し可能なカバーが所定位置にあり、かつ、リソグラフィによる露光を行う際に取外し可能である場合、この取外し可能なカバーは上記レチクルを保護する。上記取外し可能なカバーは、少なくとも１つのレチクルファスナをさらに含み得る。上記取外し可能なカバーが所定位置にある場合、上記少なくとも１つのレチクルファスナは、上記レチクルに力を加えて、これにより、上記取外し可能なカバーが上記レチクルに対して動くのを防ぐ。 （もっと読む）

【課題】
減圧室において排気あるいは給気中に浮遊するパーティクルが、原版に付着することを低減し、生産性を向上する原版搬送装置、露光装置およびデバイス製造方法を提供する。
【解決手段】
減圧状態に保持され、原版が搬入され処理される減圧室と、前記減圧室の内部に前記原版と共に搬送される、前記原版が保持される皿部と前記皿部を覆う蓋部とから成るマスクカセットと、前記皿部に設けられ、前記皿部の温度を前記原版の温度より低い第１の温度にする第１の温度調節手段と、前記蓋部に設けられ、前記蓋部の温度を前記原版の温度より低い第２の温度にする第２の温度調節手段と、を有することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】基板の流れの中へのユーティリティ基板（キャリブレーション、メンテナンス等に使用する）の装填をスケジュールするリソグラフィ装置を提供する。
【解決手段】リソグラフィシステムは、リソグラフィ装置ＬＡおよび基板トラックＳＴを含む。基板トラックＳＴとリソグラフィ装置ＬＡを一つの装置に一体化してもよく、または一つのシステムとして組み合わされた二つの別個の装置であってもよい。リソグラフィ装置は基板ハンドラＳＨを含む。基板ハンドラＳＨは、基板トラックとリソグラフィ装置ＬＡとの間で基板を移動するように構成されている。基板ハンドラＳＨは、リソグラフィ装置ＬＡと基板トラックＳＴとの間で基板を移動するのに適切な基板ロボットまたはインタフェースユニットまたはその他のデバイスであってよい。 （もっと読む）

【課題】半導体素子の製造工程における雰囲気の環境の汚染物質を調べるだけではなく、光化学反応による生成物を調べるために、実際に半導体露光装置で暴露されている環境下でフォトマスクのごく近傍の雰囲気の汚染物質を調べる分析方法及び捕集器を提供する。
【解決手段】捕集材料として常温環境において不揮発性の高分子膜１１を使用して、フォトマスク保管、使用環境のフォトマスク近傍の雰囲気における汚染物質を捕集するために、フォトマスクのサイズ同様のフレーム型の治具であるフレーム１２に高分子膜１１を固定し捕集器１０を作成する。この捕集器１０をフォトマスクの保管、使用環境に放置し捕集を行い、次に、これを脱離して分析すれば雰囲気中の汚染物質を判別することができる。 （もっと読む）

【課題】レチクル収納容器内部に設置する汚染物質等を吸着し除去するケミカルアブソーバーを容易に交換可能とする手段を提供する。
【解決手段】ケミカルアブソーバーを挟持するカートリッジ本体およびストッパーからなるカートリッジをレチクル収納容器の蓋体の側面にピン部および溝部の結合により固定する。カートリッジはケミカルアブソーバー抜け防止機構を有し、ケミカルアブソーバーは抜け防止機構で確実に抑えられてカートリッジに固定される。抜け防止機構は、少なくとも１つ以上の突起を有する抜け防止突起部、および突起を受け、突起に対応する少なくとも１つ以上の凹部または平面を有する抜け防止溝部からなる。さらに、カートリッジはヒンジ部を有し、レチクル収納容器の蓋体角部にも設置することが可能である。連結部を介してカートリッジ本体とストッパーを一体として成形することもできる。 （もっと読む）

【課題】構成部品数を減らし、自動ロックが可能であること。
【解決手段】取り外し可能な固定部材によってクリーンコンテナのカバー上に組み立てられており、このためクリーンコンテナの基部上でカバーを開閉することができる。固定部材は本体、位置決め部分、弾性固定アームを設けており、これらは全て一体に形成されている。位置決め部分は本体の一側部から延びて、板ばねを形成している。固定部材をカバー上に固定するために、板ばね上にはフランジが形成されている。弾性固定アームには弾性アームが設けられ、また、弾性アームの一端に形成された横フランジが基部内へ延び、そこで係止される。弾性固定アームの弾性強度を高めるために、固定部材は、弾性アームと本体の間に形成された弾性補助アームをさらに設けている。 （もっと読む）

【課題】本発明は、複数の半導体ウエハをストックするバッファ装置において、前記半導体ウエハのパターン面上の塵埃を除去するとともに、パターン面の温度・湿度を一定に保ち、それらに起因する品質の劣化を防止することができるバッファ装置および前記バッファ装置を備えた半導体製造装置を提供することを目的とする。
【解決手段】半導体製造装置において、複数の半導体ウエハ２５を格納することができる複数の格納部２３を有し、各格納部２３は水平に設置された隔壁２２によって隔てられており、前記格納部２３において前記半導体ウエハ２５は一枚ずつパターン面２５ａを下向きにして配置され、前記パターン面２５ａに対峙する隔壁２２は、上向きに気体を噴出する複数の噴出部２４を備えていることを特徴とするバッファ装置２０を用いることによって、上記課題を解決できる。 （もっと読む）

【課題】 他の補強体を用いずとも、保管、輸送中の外力に耐え、内部に収納したペリクルへの異物付着を防止する十分な剛性を有する、軽量かつ低コストのペリクル収納容器を提供する。
【解決手段】 樹脂のシート材を成形してペリクル収納容器本体とし、容器本体外形の対角線を横切り、なおかつ他のリブと交差しない複数のリブを容器本体に設ける。捩れ変形に対してリブが高い抵抗力を発揮し、また、リブ自身が変形の起点となることが無い。その結果、補強体を用いずとも容器本体の剛性、特には捩れ方向の剛性を著しく高めることができ、軽量かつ高剛性のペリクル収納容器を低コストで得ることができる。 （もっと読む）

【課題】本発明は、ペリクル収納後の収納容器全体の重量増加を極力抑制しながら、輸送時のゆれによる振動に対しても、振動を抑制し得るペリクルの収納方法の提供を目的とする。
【解決手段】本発明に係るペリクルの収納方法は、ペリクル枠体２にペリクル膜３が展張されてなるペリクル１を、少なくともトレイ５と蓋４とからなるペリクル収納容器６に収納する方法であって、前記ペリクル１が、前記トレイ５に少なくとも２箇所以上で固定された固定式ペリクル保持部品Ｂに着脱可能な可動式ペリクル保持部品Ａを介して保持・固定されて収納されることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 本発明は、保管、輸送中の外力に耐える十分な剛性を有し、なおかつ蓋体を開ける際の急激な外気の巻き込みを抑制して、ペリクルへの異物付着を防止するペリクル収納容器を提供する。
【解決手段】 樹脂のシート材を成形してペリクル収納容器の蓋体１とし、この蓋体１の上面に蓋体の短辺と成す角度が１０°以内で、なおかつ他のリブと交差しないリブ３を設ける。各リブが他のリブにより切断されることが無いため、リブ３の上下方向（縦方向）の剛性は大きく向上し、外力による蓋体の変形ならびにペリクルの損傷が防止される。
また、リブをほぼ一方向のものだけで構成することになるため、リブと直交する方向の曲げ剛性は低くなり、これにより、蓋体は開蓋時においてごく初期の段階からしなやかに撓みを生ずる。そのため、開蓋時の初期の段階から蓋体と容器本体の内部へ空気はスムーズに流入し、急激な外気の流入が発生しないため内部のペリクルに異物が付着するおそれが大幅に低減される。 （もっと読む）

【課題】 レチクルをレチクルホルダに対して望ましい位置に安全に維持するレチクルおよびレチクルホルダのアセンブリを提供する。
【解決手段】 レチクルホルダ（１）の状態が、形態で閉鎖したレチクル阻止状態とレチクル解放状態との間で調節可能であり、レチクルホルダは、レチクルホルダが阻止状態にある場合に、少なくとも形態を閉鎖した方法で少なくとも１つの方向（Ｘ、Ｙ、Ｚ）にてレチクル（ＭＡ）を保持するよう配置構成され、レチクルホルダは、レチクルホルダが解放状態にある場合に、レチクルを解放するよう配置構成される。
本発明は、レチクルおよびレチクルホルダのアセンブリ、さらに少なくとも１つの検出器を有するシステムにも関し、レチクルは１つまたは複数のマーカ（ＭＲＫ）を有し、レチクルホルダ（２０１）および検出器（２５０）が、相互に対して運動学的に位置合わせするよう配置構成され、検出器が、レチクルホルダに対してレチクルを位置決めするために、前記レチクルマーカを検出するよう配置構成される。 （もっと読む）

【課題】 本発明は、レチクルを収納するレチクルカバー、レチクルカバーを収容するアウターケースおよび露光装置に関し、レチクルのパターン面にゴミが付着することを従来より大幅に低減することを目的とする。
【解決手段】 下カバー部材の上面に、前記上面から所定間隔を置いてレチクルのパターン面を対向載置する載置部を配置してなるレチクルカバーにおいて、前記下カバー部材の上面に、前記レチクルの前記パターン面に近接して対向する近接突部を形成してなることを特徴とする。また、前記レチクルのパターン面と前記接近突部との間隔が１０から２００マイクロ・メータの範囲内にあることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】フォトマスクやフォトマスクブランクス等のマスク基板、半導体用ウェハ等の半導体基板、ペリクル等を保管あるいは運搬する際に使用する収納ケースの洗浄方法として、定期的に洗浄することが容易で、複雑な形状のケースにも適用でき、大掛かりな装置や高価な装置を必要とせずに環境対策も容易で洗浄効果の高い収納ケースの洗浄方法を提供する。
【解決手段】 物理吸着した有機物の異物またはイオン性の異物またはイオン結晶異物が付着して汚染された収納ケースの洗浄方法であって、前記収納ケースをクリーンな空気または不活性ガスの気流中に常温〜８０度の温度範囲下で静置し、前記収納ケースに付着した前記異物を脱離除去することを特徴とする。 （もっと読む）