【課題】ガラス基板の品質劣化を防止できるガラス基板収納ケース、ガラス基板収納ケースから別のケースにガラス基板を自動で入れ替えるガラス基板入替、ガラス基板を個別に管理するガラス基板管理装置、ガラス基板を専用のガラス基板収納ケースに収納させて取引するガラス基板流通方法、気密効果を高めるシール部材及びこのシール部材を用いたシール構造を提供する。
【解決手段】レチクルＲが載置される底部材１２と、底部材１２に載置されたレチクルＲを覆うように底部材１２に合わせられ底部材１２との間に空間部を形成する蓋部材２０と、底部材１２又は／及び蓋部材２０に設けられ蓋部材２０が底部材１２に合わせられた状態で空間部を気密にするシール部材１８と、蓋部材２０に設けられ底部材１２に引っ掛けられて蓋部材２０が底部材１２に合わせられた状態を維持するフック部材２４と、を有する構成とした。 （もっと読む）

【課題】フォトマスク保管時における、フォトマスクへの塵埃等の付着、及びフォトマスク上に形成された金属パターンの静電破壊を防止する。
【解決手段】フォトマスク保管装置において、湿度監視手段５は保管部の湿度を測定し、得られた湿度データを湿度調整手段４に送信する。湿度調整手段４は保管部の湿度に応じて、保管部内の湿度をクリーンルームの湿度より高くなるように調整する。湿度調整された保管部内の空気は、空気循環手段２４により、保管部内全体に送られる。保管部内の湿度をクリーンルーム内の湿度より高く調整することで、フォトマスクの帯電を防止し、フォトマスクへの塵埃等の付着やフォトマスク上の金属パターンの静電破壊を防止することが可能となる。 （もっと読む）

電子部品の製造において用いられるレチクル用検出／クリーニング装置であって、検出／クリーニング装置がクリーニングユニットを有し、その中にクリーニングチャンバーが構成されている。圧縮液体クリーニング媒体の導入用の少なくとも１つのガス供給がクリーニングチャンバーへ通じる。ガスをクリーニングチャンバーから放出する少なくとも１つの吸引手段がクリーニングチャンバーから通じる。クリーニングチャンバーはレチクルを導入し且つ取り除く少なくとも１つの第１開口部を有する。半導体製造で用いられる品物の汚染を検出する検出ユニットが設けられる。検出ユニットは検出手段を有し、その中へレチクルが検出ユニットの１つの送り側から導入され得る。クリーニングチャンバーの第１開口部と送り側は互いに反対側にある。送り装置はクリーニングユニットと検出ユニットとの間のレチクルを交換するために設けられる。
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フォトリソグラフィによる半導体処理に使用されるレチクルのキャリアはベース部分及びカバー部分を有している。ベース部分は複数のレチクルサポートと、複数のレチクル位置決め部材とを有している。カバー部分はベース部分とシール係合するように適合されている。また、カバー部分は内側表面を有しており、その内側表面には複数の離間したレチクル拘束部材と、そこから突き出した一対のレチクル位置決めタブとが設けられている。各レチクル位置決めタブは斜めエッジ部分を有している。位置決めタブは、カバー部分がベース部分と合わせられたときに、斜めエッジ部分が前記レチクルサポート上に載っているレチクルを付勢してレチクル拘束部材と係合させるように方向付けられている。
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【課題】小ロットサイズのリソグラフィーベイを提供する。
【解決手段】小ロットサイズのリソグラフィーベイ３００は、（１）複数のリソグラフィーツール３１４〜３２８と、（２）小ロットサイズの基板キャリアをリソグラフィーツール３１４〜３２８へ搬送するように適応された小ロットサイズの搬送システム３３０とを備えている。各小ロットサイズの基板キャリアは、１３個より少数の基板を保持するように適応される。多数の他の態様も提供される。 （もっと読む）

【課題】外部汚染から保護し、装置スループットが最適になるリソグラフィ・パターニング装置を搬送するボックスを提供する。
【解決手段】運搬ボックス２は、パターニング・デバイスを格納する格納位置を有する内部空間１０、及び、パターニング・デバイスの搬送のための開口を有するコンテナ部８を具備する。内部空間から装置へパターニング・デバイスを搬送する前に、内部空間が加圧される。ボックスはまた、開口を閉じる閉塞部、及び／又は、ボックスの内部空間から／そこへ、ガスを排気し、かつ／又は、供給するチャネル・システム１８を備え、こうしたボックス装置と協働するように構成されたリソグラフィ装置を含む。 （もっと読む）

【課題】 ポッド交換に要する時間を大幅に短縮できる半導体製造装置、ポッド搬送装置、ポッド搬送方法および半導体デバイス生産方法を提供する。
【解決手段】 ポッドＰを装填位置からポッド開放位置まで搬送する水平搬送ロボット３と、該水平搬送ロボット３により搬送されたポッドの蓋部はチャンバ１外に残して、該ポッドＰの基板支持台をチャンバ１内に分離するポッド開放用のインデクサ２と、チャンバ１内に設置され複数のレチクルを収納できるレチクルストッカ１ａと、チャンバ１内に構成され、基板支持台上のレチクルを取り出してレチクルストッカ１ａに装填する搬送ロボットとを有する。 （もっと読む）

【課題】ハンド部の位置ずれを検出し、ハンド部の位置を調整する。
【解決手段】レチクル中継部は、第２のロボット１８８のアーム１９０の一部（ハンド部１８０）に光Ｌ１、Ｌ２を照射する照射部１９７ａ，１９７ｂと、ハンド部とロードシェルフ２５とが所望の位置関係にあるときハンド部の異なる２箇所を経由した前記光を同時に受光可能で、所望の位置関係から外れたときは前記２箇所のうちの少なくとも１箇所を経由した光が受光不能となる光検出部１９９ａ，１９９ｂとを有する位置ずれ検出装置４５を備えている。このため、光の受光状況に基づいて第２のロボットがロードシェルフにレチクルＲを渡す際に、レチクルを保持したハンド部とロードシェルフとが所望の位置関係にあるか否か、すなわちハンド部１８０の位置ずれを確実に検出することができ、この検出結果に基づいてハンド部の位置を調整することができる。 （もっと読む）

【課題】 保管時におけるウエハ等の保管物への水分等の有害物質の付着を防止することができ、さらには帯電に起因するデバイス破壊を確実に防止することができ、よって当該保管物の製造歩留まりや品質の向上を図ることができるクリーンストッカーを提供する。
【解決手段】 搬入口１１および搬出口１２が設けられた建屋１０の内部に、保管物３、５を収納する複数段の棚１３と、搬入出口との間に走行自在に設けられ、棚に対する保管物の出し入れを行うストッカークレーン１４とが設けられるとともに、清浄化した空気を建屋１０内に流動させる清浄空気循環手段１５が設けられたクリーンストッカーであって、建屋１０に、内部を分子状汚染物質が１０ｐｐｂ以下に除去された大気圧露点−１００℃以下のクリーンドライエアによって充満させるクリーンドライエアの供給管１６を設けたことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 本発明は、環境制御されたチャンバー内部に基板の搬出入を行うロードロック機構において、チャンバー内部とロードロック内部の圧力差を短時間でなくし、ロードロック内部とチャンバー内部を繋いだときのパーティクルの巻き上げ等を防止することのできるロードロック機構を提供することを目的とする。
【解決手段】 本発明は、互いに独立した2つ以上の異なる雰囲気の空間のそれぞれとゲートバルブを介して連結自在であるロードロック機構において、前記空間のうち少なくとも1つの空間と、少なくとも1つのロードロック機構とを、少なくとも１つの圧力調整手段を介して連結したことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】試料を試料室から露光装置に入れる動作と試料を露光装置から試料室に出す動作とを、同時に行なえるを提供する。
【解決手段】パターンの設けられている基板を保持する基板ステージ手段と、前記基板を一時格納する基板格納手段と、試料を移動可能に保持する試料ステージ手段と、前記試料を一時格納する試料格納手段と、前記試料を前記試料格納手段と前記試料ステージ手段との間で搬送する第１搬送手段と、前記第１搬送手段を格納する第１搬送空間と、前記第１搬送空間の気圧を制御する第１気圧制御手段とを有する第１ロードロック手段と、前記試料を前記試料格納手段と前記試料ステージ手段との間で搬送する第２搬送手段と、前記第２搬送手段を格納する第２搬送空間と、前記第２搬送空間の気圧を制御する第２気圧制御手段とを有する第２ロードロック手段と、を有することを特徴とする半導体露光装置。 （もっと読む）