【課題】原版を迅速に、かつ安全に搬送するのに有利な搬送システムを提供する。
【解決手段】この搬送システム１は、原版３に形成されたパターンを基板に露光する少なくとも１つの露光装置２と、原版３を保持し露光装置２に搬送する搬送車４と、該搬送車４が走行する走行路５とを有する。このとき、露光装置２が敷設される面から、露光装置２に設置された原版３を搬入する搬入口９までの高さが、搬送車４が走行する面から、搬送車４が原版３を保持して走行する際の原版３の保持位置までの高さよりも高く、搬送車４の保持位置と、露光装置２が搬入口９から原版３を受け取る位置とが一致する。 （もっと読む）

【課題】人手による搬送作業をなるべく抑えて露光装置とマスク検査装置との間でフォトマスクを搬送することができるマスク搬送システムを提供する。
【解決手段】実施形態によれば、マスク搬送システムは、ストッカ１１〜７１と、搬送路３と、収納容器と、搬送装置２００と、制御装置８０と、を備える。収納容器はウェハ搬送用とマスク搬送用とで同一の構造を有する。制御装置８０は、露光エリア３０のストッカ３１、またはマスク検査エリア７０のストッカ７１に収納容器が入庫されると、収納容器がマスク搬送用であるかを判別し、マスク搬送用の収納容器である場合には入庫されたストッカではないストッカ７１，３１に収納容器が搬送されるように搬送装置２００を制御する搬送装置制御部を備える。 （もっと読む）

【課題】露光ラインが停止した際に、ガラス基板の熱変形の影響を排除して、精度よく露光転写することができる露光システム及びその制御方法を提供する。
【解決手段】露光システム１０は、温度調整機構１１、プリアライメント装置１２、及び露光装置１３を有して構成される露光ライン２０と、第１ワークローダ１４と、第２ワークローダ１５と、露光ライン２０の各部を制御する制御装置２１と、を備える。制御装置２１は、露光ライン２０が停止したとき、第１及び第２ワークローダ１４、１５によって基板Ｗを温度調整機構１１へ返送する。 （もっと読む）

【課題】
大型のペリクル、フォトマスクあるいはガラス基板のような大型精密部材を極めて清浄な状態を保ったまま保管、輸送できる大型精密部材収納容器を提供する。
【解決手段】
本発明は、大型精密部材を収納し、その全体を覆って嵌合するトレイ３とカバーとを備える大型精密部材収納容器１において、トレイ３およびカバーのうち、少なくともトレイ３を鋳造部材とし、当該鋳造部材の少なくとも大型精密部材を収納する空間を形成する面に導電性塗膜４０を形成し、その導電性塗膜４０の表面を、５μｍ以下の算術平均粗さ（Ｒａ）で、かつ２０μｍ以下の十点平均粗さ（Ｒｚ）とする大型精密部材収納容器１に関する。 （もっと読む）

【課題】マスクストッカー内でマスク受けに支持されたマスクに位置ずれが発生しても、マスクストッカーからマスクホルダへ搬送されたマスクの位置ずれを小さくする。
【解決手段】複数のマスク２を収納するマスクストッカー４０に、複数のマスク受け４２によりマスク２の縁を支持してマスク２を収納する複数のマスク収納部４０ａと、複数のマスク受け４２によりマスク２の縁を支持しながら、複数のマスク位置決め装置５０ａ，５０ｂによりマスク２の位置決めを行うマスク位置決め部４０ｂとを設ける。マスク２を搭載するハンドリングアームを有するマスク搬送装置により、マスク収納部４０ａに収納されていたマスク２をマスク位置決め部４０ｂへ移動し、マスク位置決め部４０ｂで位置決めされたマスク２をマスクホルダへ搬送する。 （もっと読む）

【課題】装置コストを大幅に抑制することができる露光装置、露光方法及び基板の製造方法を提供する。
【解決手段】スキャン露光装置１は、基板ＷをＸ方向に搬送する基板搬送機構１０と、マスクＭをそれぞれ保持し、Ｙ方向に沿って配置される複数のマスク保持部１１と、露光用光を照射する照射部１４と、各マスク保持部１１の下面と対向可能なマスクトレー部３３を有するマスクチェンジャー２と、を備える。マスクチェンジャー２は、マスクトレー部３３に載置されるマスクＭを、Ｘ方向及びＺ方向回りのθ方向に駆動可能な駆動機構３５Ａ、３５Ｂを備える。 （もっと読む）

【課題】リソグラフィ装置内の交換可能物体を位置決めするサポート構造を提供する。
【解決手段】サポート構造は、物体を支持およびクランプするチャックと作動構造とを有する。作動構造は、第１作動構造１６（例えば、バネ）および第２作動構造１８（例えば、リニアアクチュエータ）を有してよい。第１作動構造１６は、チャックに対して移動可能であり、第２作動構造１８を物体の側面と接触する第１位置と物体の側面と接触しない第２位置との間で移動させるように構成されている。第２作動構造１８は、その少なくとも一部を第１作動構造１６に対して物体の側面と接触する第１位置と物体の側面と接触しない第２位置との間で移動させ、かつ押力を物体の側面に加えるように構成されている。 （もっと読む）

【課題】スループットを改善することのできる基板処理装置、及び基板処理装置の温調方法、及びこれら基板処理装置や温調方法を用いるデバイスの製造方法を提供する。
【解決手段】大気圧下にあるウエハＷの雰囲気を減圧して減圧雰囲気に変更する第１チャンバ１６と、減圧雰囲気に維持され、第１チャンバ１６から搬送されたウエハＷに所定の処理を施す第２チャンバ１２とを備える。そして、第２チャンバ１２内の温度を、第１チャンバ１６内で大気圧から減圧雰囲気への変更に伴って変化するウエハＷの温度に対応する設定温度に調整する温調機構を備える。 （もっと読む）

【課題】マスク面を境界とする空間を定義する空間定義部材を使用すべきマスクに応じて変更可能にする。
【解決手段】露光装置ＥＸは、マスク面を境界とする空間を定義する空間定義部材１とともにマスクＭを移動させるマスクステージＭＳＴと、前記空間の圧力を制御する圧力制御器と、複数の空間定義部材１のうち露光処理に使用すべきマスクＭに適合した空間定義部材を当該マスクＭに組み合わせるための操作機構ＭＬとを備える。 （もっと読む）

【課題】レチクルを保護する保護部材を設けた場合でも、レチクルを搬送して露光装置の取り付ける場合に、適当な位置に取り付け可能なレチクル搬送装置を提供する。
【解決手段】位置測定装置２９はレチクル１の下面に形成された位置測定用マーク２６の位置を測定し、これによりレチクル１の位置を測定する。位置測定装置３０は、下蓋２ｂの下面に形成された位置測定用マーク２７の位置を測定し、これにより下蓋２ｂの位置を測定する。レチクル１の位置と下蓋２ｂの位置が分かれば、レチクル１と下蓋２ｂの相対的な位置ずれが分かる。よって、搬送装置によりレチクル１を搭載した下蓋２ｂを搬送して露光装置にセットするとき、このずれを勘案して下蓋２ｂの停止位置を決定することにより、レチクル１を正しく露光装置にセットできる。 （もっと読む）

【課題】本発明は、搬送装置のメンテナンス作業を効率よく行うことができる搬送装置のメンテナンス方法を提供する。
【解決手段】 マスクケース搬送装置（２９）のメンテナンス方法は、ＣＺ軸駆動部（２６）によってケース保持部（２３）を上下方向の第１位置に配置する工程（Ｓ１０２）と、最上段、最下段および中央段に設けられた複数のＣＺ軸駆動部２６のカバー部材のうち第１位置に配置されたケース保持部と異なる高さに位置するカバー部材を取り外す第１取り外し作業を行う工程（Ｓ１０６）と、第１取り外し作業後に取り外されていない複数の前記カバー部材のうち第１位置に配置されたケース保持部と異なる高さに位置するカバー部材を取り外す第２取り外し作業を行う工程（Ｓ１０７）と、を含む。 （もっと読む）

【課題】基板が使用されている時に、保護カバーの内面が汚染されることを容易、かつ確実に防止する。
【解決手段】露光装置は、チャンバ１３内に配置されるレチクル３７を保持するレチクルステージ１１を備え、レチクル３７に形成されたパターンの像をウエハに露光する。第1搬送部は、レチクル３７が収納される第１カバー部材を保護する第２カバー部材を開いて第１カバー部材を取り出すとともに、第１カバー部材をチャンバ１３内に搬送する。第２搬送部は、チャンバ１３内で、第１カバー部材を開いてレチクル３７を取り出し、レチクル３７をレチクルステージ１１に搬送するとともに、レチクル３７が取り出された第１カバー部材を閉じた状態で保持する。 （もっと読む）

【課題】部品の点数の大幅な増加や大型化等を防ぎつつ、マスクの交換時間を短くすること。
【解決手段】第１のマスクＭ１での露光中に、第１のハンドラ１１ａがマスク保管部６から次に使用する第２のマスクＭ２を取り出し、プリアライメントステージ５に載せてプリアライメントを行う。露光が終わると第２のハンドラ１２ａが第１のマスクＭ１をプリアライメントステージ５まで運ぶ。マスク退避機構１３の第３のハンドラ１３ａは第１のマスクＭ１を受け取りいったん保持する。第２のハンドラ１２ａは、第２のマスクＭ２を保持し、マスクステージ２へ搬送する。同時に第３のハンドラ１３ａが保持していた第１のマスクＭ１を第１のハンドラが受け取ってマスク保管部６に回収する。マスク退避機構１３を設けマスクを退避させるようにしたのでマスクの交換時間を短縮することができる。 （もっと読む）

【課題】マスクの清浄化に有利な露光装置を提供する。
【解決手段】本発明の露光装置は、マスク１を介して基板を露光する露光装置であって、マスク１のクリーン化を行うステーション部（露光室４３等）と、マスク１のクリーン化を行うクリーン化ユニット（異物検査装置７、異物除去装置８−１、異物付着防止装置２４）をステーション部に搬送するマスクハンドリング部９とを有する。 （もっと読む）

【課題】 基板と金型の搬入と搬出とを自動的に実行することができ、効率的に基板の表面にパターンを形成することが可能なパターン形成装置を提供する。
【解決手段】 パターン形成装置は、搬入搬出部１と、パターン形成部３と、これらの搬入搬出部１とパターン形成部３との間に配置された搬送部２と、第２搬送部５とを備える。パターン形成部３は、基板と金型とを位置決めして重ね合わせる位置決めユニット３１と、位置決めユニット３１において位置決め後の基板に対し位置決め後の金型を押し付けるパターン形成ユニット３３と、パターン形成ユニット３３においてパターンが形成された基板からパターン形成に使用された金型を剥離する剥離ユニット３２とを有する。 （もっと読む）

【課題】基板の変形を抑えて基板の受け渡しができること。
【解決手段】基板を保持し、支持部によって支持される基板保持部材であって、前記基板が載置される載置面を有する基板載置部と、前記基板載置部と一体的に設けられ、前記載置面を含む面内に位置する所定軸を中心として前記基板載置部が回転可能なように前記支持部によって支持される被支持部とを備える。 （もっと読む）

【課題】テンプレートの交換を効率よく行い、複数の基板に対して所定のパターンを連続的に形成する。
【解決手段】インプリントシステム１は、テンプレート搬入出ステーション２、処理ステーション３、インプリントユニット４、ウェハ搬入出ステーション５とを一体に接続した構成を有している。インプリントユニット４では、テンプレートＴを用いてウェハＷ上にレジストパターンを形成する。テンプレート搬入出ステーション２は、インプリントユニット４側にテンプレートＴを搬入出する。ウェハ搬入出ステーション５は、インプリントユニット４にウェハＷを搬入出する。インプリントシステム１には、インプリントユニット４内に通じて複数の搬送ローラが設けられている。搬送ローラによりインプリントユニット４と処理ステーション３との間でテンプレートＴの搬送が行われる。 （もっと読む）

【課題】ペリクル等の保護膜の撓みを抑制できる保護装置を提供する。
【解決手段】マスク基板１の表面の所定領域を保護する保護装置２であって、その所定領域の周囲の少なくとも一部に配置されてマスク基板１の表面に貼り合わせられるペリクルフレーム４と、その所定領域と対向するようにペリクルフレーム４によって形成される開口部を覆うようにペリクルフレーム４に張設されるペリクル５と、を備え、ペリクルフレーム４はその所定領域に沿って異なる位置に配置される第１辺部４Ａ及び第２辺部４Ｂと第３辺部４Ｃ及び第４辺部４Ｄとを含み、マスク基板１の表面の法線方向に関して第１辺部４Ａ及び第２辺部４Ｂの剛性が、第３辺部４Ｃ及び第４辺部４Ｄの剛性より低い。 （もっと読む）

【課題】装置全体のスループットを維持しつつ、マスクに設けられたペリクルが破損することを抑制することができるマスク搬送装置、露光装置、マスク搬送方法、及びデバイスの製造方法を提供する。
【解決手段】圧力が調整可能なロードロック室２１内に、所定のパターンが形成されたパターン面を有するレチクルを搬送するレチクル搬送装置１２であって、ロードロック室２１内を減圧する真空ポンプ２４と、パターン面を保護するペリクルがレチクルに設けられているか否かを判別し、レチクルにペリクルが設けられていないと判別される場合には、ロードロック室２１内を第１の速度で減圧し、レチクルにペリクルが設けられていると判別される場合には、ロードロック室２１内を第１の速度よりも遅い第２の速度で減圧するように真空ポンプ２４を制御する制御部４１と、を備える。 （もっと読む）

【課題】
例えば、スループットの点で有利な露光装置を提供する。
【解決手段】
待ち行列中のジョブの情報に含まれる原版の情報に従って、前記原版を介して基板を露光する露光装置であって、前記原版を保持し且つ移動される原版ステージと、前記原版を待機させる待機部を有し且つ前記原版ステージに前記原版を搬送する搬送手段と、前記待機部で前記原版を待機させるか否かを設定する設定手段と、前記ジョブの情報と前記設定手段による設定とに従って前記搬送手段を制御する制御手段と、を有することを特徴とする。 （もっと読む）