【課題】カスタマイズ性を高め、且つ安定してシャフトモータを冷却することができるステージ装置を提供する。
【解決手段】ステージ装置１Ａは、Ｘ軸移動体６と、Ｙ軸移動体４と、Ｘ軸固定子５１及びＸ軸可動子５２を有しＸ軸移動体６を駆動するためのＸ軸シャフトモータ５と、Ｙ軸固定子３１及びＹ軸可動子３２を有しＹ軸移動体４を駆動するためのＹ軸シャフトモータ３と、Ｘ軸可動子５２及びＹ軸可動子３２における外周面の一又は複数の領域に対して選択的に着脱可能な冷却ジャケット８Ａ，９Ａと、チューブｔとを備えている。これにより、周囲に配置された部品が干渉しない領域に選択的に冷却ジャケット８Ａ，９Ａを着脱することができる。さらに、Ｘ軸シャフトモータ５及びＹ軸シャフトモータ３の発熱量に合わせて冷却ジャケット８Ａ，９Ａを取り付ける領域を適宜選択し、冷却量を調整することができる。 （もっと読む）

【課題】光変調素子アレイを適切に温度調整する。
【解決手段】露光装置に、熱交換システムとして、熱交換機構、チラーユニットを設け、チラーユニットによって液体の熱媒体を循環させるとともに、熱交換機構において熱交換した熱媒体を、冷却、放熱させる。熱交換機構は、ＤＭＤ両側を熱交換するため、熱媒体の流れる輸送管路を内部に設けた前面ジャケット７０、背面ジャケット５０によって構成する。そして、ＤＭＤを間に挟むように、連結部５２、７２を介して前面ジャケット７０、背面ジャケット５０を一体的に連結する。内部の輸送管路は直列的経路を形成し、先に前面ジャケット７０の熱交換部７６に熱媒体を流し、その後、背面ジャケット５０の熱交換部５８に熱媒体を流す。 （もっと読む）

【課題】熱の影響を緩和させつつパターンを微細化すること。
【解決手段】露光光のパターンを対象面に転写する露光方法であって、複数の表示素子を用いて前記パターンを形成するパターン形成ステップと、前記対象面のうち複数の単位領域に区画された投影領域に前記パターンを投影する投影ステップとを含み、前記パターン形成ステップは、前記投影ステップにおいて前記投影領域のうち前記単位領域ごとに前記パターンが投影されるように複数の前記表示素子のうち一部ずつを順に駆動させて前記パターンを形成する。 （もっと読む）

【課題】簡単な構成で優れた形状精度を持つミラーを得るために有利な技術を提供する。
【解決手段】ミラーの製造方法は、熱により膜厚が変化する形状修正層１２を基板１１の上に配置する第１工程と、第１層、第２層、および、前記第１層と前記第２層との間に配置されて前記第１層を構成する材料と前記第２層を構成する材料との反応を防止するバリア層１６を含む反射層１３を前記形状修正層１２の上に配置する第２工程と、前記第２工程の後に、前記形状修正層１２の膜厚分布を変化させることによって前記反射層１３の形状を目標形状に近づける第３工程とを含み、前記第３工程は、前記形状修正層１２を部分的にアニールする処理を含む。 （もっと読む）

【課題】熱交換を速やかに行うことができる反射光学素子、光学ユニット、露光装置及びデバイスの製造方法を提供する。
【解決手段】露光光を反射させる第１面４７と、第１面４７とは異なる第２面４９と、第２面４９に形成された凹部６８とを有する反射光学素子４３と、凹部６８の底面と、凹部６８の側面の少なくとも一部とのそれぞれに接触し、反射光学素子４３との間で熱交換を行う突出部材６９とを備える。 （もっと読む）

【課題】光学部材と温度調節機構との間で熱交換を速やかに行うことができる光学ユニット、露光装置及びデバイスの製造方法を提供する。
【解決手段】入射側フライアイミラー４８の第２面４９を支持する支持面５０ａと、該支持面５０ａとは異なる裏面５０ｂとを有し、支持面５０ａから裏面５０ｂを貫通する第１貫通孔６３ａが形成された支持部材５０と、入射側フライアイミラー４８に係合する先端側部位６５ｂと、第１貫通孔６３ａ内に配置される基端側部位６５ａとを有する軸部６５を備え、軸部６５の一端部から軸部６５の他端部を貫通する第２貫通孔６７が形成されるとともに、入射側フライアイミラー４８と支持部材５０とを係合するボルト６４と、ボルト６４の第２貫通孔６７に挿入され、入射側フライアイミラー４８との間で熱交換を行う突出部材６９と、突出部材６９を介して、入射側フライアイミラー４８の温度を調整する温度調節装置４４とを備える。 （もっと読む）

【課題】使用環境に影響されることなく基板上の異物を高精度で検出することができる近接露光装置を提供する。
【解決手段】基板保持部２１の搬送方向に並んで配置され、基板保持部２１に保持された基板Ｗの表面に沿ってレーザービームＬＢ１、ＬＢ２を出射する出射部８０a、８１aと、レーザービームを受光する受光部８０ｂ、８１ｂと、をそれぞれ有する２つの異物検出器８０、８１と、２つの異物検出器８０、８１の各受光部８０ｂ、８１ｂが受光する前記レーザービームＬＢ１、ＬＢ２の検出信号を比例演算部８３ａによって増幅し、さらに、差分演算部８３ｂによって、２つの増幅した前記レーザービームＬＢ１、ＬＢ２の検出信号の差分を算出し、異物８２の有無を判定する。 （もっと読む）

【課題】 温度調節機能を持った基板位置合わせ装置の処理速度を向上する。
【解決手段】 基板の外周上の切り欠き位置に基いて第１の位置合わせを行う工程と、前記基板の切り欠きを含む外周形状に基いて第２の位置合わせを行う工程と、前記基板を目標管理温度に調整する温調工程とを含む位置合わせ方法を行う。前記方法において、Ｎ枚目の基板の前記第１位置合わせ工程の期間内にて、Ｎ−１枚目の基板の前記第２位置合わせ工程と、Ｎ−１枚目の基板の前記温調工程と、を有する。 （もっと読む）

【課題】パターンを正確に位置合わせする。
【解決手段】ダブルパターニング法において使用される２つのレチクルのそれぞれの伸縮量を記述するレチクル伸縮補正モデルについて、伸縮に係るパラメータ（レチクル伸縮補正パラメータ（時定数と飽和値））を最適化する。そして、最適化後のレチクル伸縮補正モデルを用いて、パターンを次の露光対象のウエハのターゲット層に位置合わせする。これにより、レチクルの熱変形に起因する補正誤差に影響を受けることなく、目標パターンをウエハ上のターゲット層に正確に位置合わせすることが可能となる。 （もっと読む）

【課題】ワークチャックの経路出口における熱媒体の温度が所定になるように冷却水の流量を制御し、ワークチャック各部の温度を均一にして、分割逐次露光においても高精度で基板を露光することができる露光装置を提供する。
【解決手段】蓄圧器８０を接続したワークチャック２０に設けられ、並列接続されて熱媒体Ｗを通過させる複数の熱媒体流路２１，２２，２３と、これらの熱媒体流路の出口側にそれぞれ設けられ、熱媒体Ｗの出口温度Ｔｗｏ１，Ｔｗｏ２，Ｔｗｏ３を測定する温度センサ３１，３２，３３と、複数の熱媒体流路２１，２２，２３にそれぞれ設けられ、これらの熱媒体流路を通過する熱媒体Ｗの流量Ｇｗ１，Ｇｗ２，Ｇｗ３を制御する流量調整機構４１，４２，４３と、を備え、これらの温度センサにより測定される熱媒体Ｗの各々の出口温度に基づいて、流量調整機構が熱媒体Ｗの流量を制御し、ワークチャック２０の温度を所定の温度に調整する。 （もっと読む）

【課題】ウィンドウのレーザ光による熱負荷による特性の悪化を改善させる。
【解決手段】ウィンドウユニットは、レーザ光を透過するウィンドウと、前記ウィンドウの外縁を保持し、内部に前記ウィンドウの外側または内側の周辺に液体を流す流路が設けられたホルダとが設けられたウィンドウホルダと、を備えていてもよい。流路には、たとえば冷却装置から供給された冷却媒体が流れてもよい。 （もっと読む）

【課題】投影光学系が大型である場合でも、結像性能の変化を抑制した露光装置を提供することができる。
【解決手段】投影光学系５を収容する鏡筒１１の内部に対して給気を実施する給気手段１２と、該給気手段１２を制御することで鏡筒１１の内部温度を調整する温度制御手段１３とを備える露光装置１であって、温度制御手段１３は、露光処理に伴う内部温度の上昇に合わせて、給気温度を上昇させるように給気手段１２を制御する。 （もっと読む）

【課題】液浸露光における露光不良の発生を抑制する。
【解決手段】第１の態様の液浸部材３は、液浸露光装置において、光学部材８と物体との間の液体ＬＱを通過する露光光の光路Ｋの周囲の少なくとも一部に配置される液浸部材３である。第１面、第１面と異なる方向を向く第２面、及び前記第１面と第２面とを結ぶ孔３２を有し、第１面と対向する物体上の液体の少なくとも一部を孔３２から回収可能な第１部材３１と、孔３２を通った液体ＬＱを含む流体Ｆ中の気泡の膨張を抑制する第２部材３４と、を備える。 （もっと読む）

【課題】露光ラインが停止した際に、ガラス基板の熱変形の影響を排除して、精度よく露光転写することができる露光システム及びその制御方法を提供する。
【解決手段】露光システム１０は、温度調整機構１１、プリアライメント装置１２、及び露光装置１３を有して構成される露光ライン２０と、第１ワークローダ１４と、第２ワークローダ１５と、露光ライン２０の各部を制御する制御装置２１と、を備える。制御装置２１は、露光ライン２０が停止したとき、第１及び第２ワークローダ１４、１５によって基板Ｗを温度調整機構１１へ返送する。 （もっと読む）

【課題】基板を移動するステージをリニアモータにより駆動する際、ステージの温度変化を小さくして、パターンの焼付けを精度良く行う。
【解決手段】ステージの温度を調節する温度調節液が流れる通路５２ａ，５２ｂをＸステージ５，Ｙステージ７に設け、ステージの動作状態に応じて、互いに異なる温度の温度調節液を供給する複数の供給装置５３，５４の内の１つから、温度調節液を通路５２ａ，５２ｂへ供給する。ステージの温度変化が小さくなり、パターンの焼付けが精度良く行われる。 （もっと読む）

【課題】駆動回路３５３の発熱量変化に依らず、光変調素子３５２周囲の雰囲気温度を安定させることで、光路変化を抑制して、光変調を適切に実行できる技術を提供する。
【解決手段】光変調素子３５２や駆動回路３５３が配置された基板３５１に、発熱部３５４bを配置して、この発熱部３５４bにより光変調素子３５２周囲を加熱可能に構成する。駆動回路３５３の発熱量が減少したときには、これに応じて発熱部３５４bの発熱量が増大する一方、駆動回路３５３の発熱量が増大したときには、これに応じて発熱部３５４bの発熱量が減少する。つまり、駆動回路３５３の発熱量の変動傾向に対して反対の傾向で、発熱部３５４bの発熱量を増減させることで、光変調素子３５２周囲の雰囲気温度をある程度の範囲内に維持して、当該雰囲気温度を安定させている。 （もっと読む）

【課題】露光装置において、基板をチャックに接触支持する方法では、基板に付着した塵埃、基板保持形状に倣った「裏面転写」が発したり、基板とチャックとの接触の順番などにより基板に皺などが発生し平坦度が損なわれて、露光不良が発生する可能性があった。
【解決手段】基板をチャック上に空気力を利用して基板を浮上させる手段を設けて、非接触で基板を保持することにより、接触状態により発生する可能性がある平坦度の棄損と皺の発生を防ぎ、露光パターンを高精度で基板に露光することができる。また、恒温（定温）手段を設けることにより、浮上させた基板の温度変化（上昇）を防ぐことができるので、基板の浮上露光による遜色はない。 （もっと読む）

【課題】光学機器の計測精度を向上するとともに、光学機器における光路を囲繞するカバー内を、迅速に温度調整し温度の安定化を行う。
【解決手段】光路４を備えた光学機器Ｆが収容されるブースＫと、光路４を囲繞するカバー３と、ブースＫ内でカバー３外のブース内温度を検出するブース内温度検出手段２と、カバー３内のカバー内温度を検出するカバー内温度検出手段５と、ブースＫ内に温調空気Ｐを通流させ温調空気Ｐの温度を調整可能な第１温度調整手段と、ブース内温度を制御対象温度として制御対象温度が設定温度になるように第１温度調整手段の運転を制御する制御手段Ｅｂとを備えた温度調整システムＤにて、制御手段Ｅｂが、カバー内温度の設定温度に対する温度差が所定の基準値以上となる状態を温度乖離状態として判定し、温度乖離状態では制御対象温度をブース内温度からカバー内温度に切り替えるように構成される。 （もっと読む）

【課題】マスク及びマスクホルダの温度制御を効果的に行う。
【解決手段】本体収容部７０内で、基板１をチャック１０により支持し、マスク２をマスクホルダ２０により保持し、チャック１０をステージによりマスクホルダ２０の下方へ移動する。本体収容部７０内へ横方向に温度調節された清浄な空気を供給し、本体収容部７０の上方に本体収容部７０とつなげて設けた照射光学系収容部３０内の照射光学系から、マスクホルダ２０に保持されたマスク２へ露光光を照射する。照射光学系収容部３０に第１の排気装置７２を設けて、第１の排気装置７２により、本体収容部７０内の空気を、照射光学系収容部３０を介して取り込み、照射光学系収容部３０外へ排気する。 （もっと読む）

【課題】露光不良の発生を抑制できる露光方法を提供する。
【解決手段】露光方法は、液体を介して基板の複数のショット領域を露光光で順次露光する。露光方法は、基板に対する露光光の照射前における液体の第１温度を検出することと、複数のショット領域を露光している間に液体の温度を複数回検出し、検出された複数の温度から第２温度を得ることと、第１温度と第２温度との差と、第１許容値とを比較することと、を含む。 （もっと読む）