【課題】現実の光ファイバの劣化に即して交換寿命を報知し、経済性と安定作動の確保とを両立可能なレーザ装置を提供する。
【解決手段】本発明の態様は、ファイバ光増幅器２２３を有するレーザ光出力部と、波長変換光学素子３４を有する波長変換部とを備えたレーザ装置である。レーザ装置ＬＳは、ファイバ光増幅器２２３の励起光のパワーを検出して第１検出信号Ｐａを出力する励起光検出器６１と、波長変換光学素子に入射させるべき偏光方向の光の強度等を検出して第２検出信号Ｐｂを出力するｓ偏光検出器６２と、ファイバ光増幅器２２３の作動状態を判断するＦＡ判断部６８とを備える。ＦＡ判断部６８は、第１検出信号Ｐａの変化量に対する第２検出信号Ｐｂの変化量（ｄＰｂ）／（ｄＰａ）が寿命基準値以下になったときに、寿命判定信号を出力するように構成される。 （もっと読む）

【課題】実デバイスパターンの像位置を高速かつ高精度に推定あるいは決定するために有利な技術を提供する。
【解決手段】原版Ｒまたは原版ステージ２１には、互いに異なる複数のパターンが互いに異なる領域に配置されてなる第１計測パターン２３が設けられ、計測器は、前記第１計測パターン２３を投影光学系３０の投影倍率に応じて縮小した第２計測パターン５１と、前記第１計測パターン２３および前記投影光学系３０を透過し更に前記第２計測パターン５１を透過した光を検出するセンサ５２とを含み、制御部７０は、前記第１計測パターン２３の照明領域を前記原版に応じて決定し、決定された前記照明領域における前記第１計測パターン２３を照明して基板ステージ４１を移動させながら得られた前記センサ５２の出力に基づいて、前記投影光学系３０によって形成される前記照明領域における前記第１計測パターン２３の像の位置を計測する。 （もっと読む）

【課題】安定したレーザ光を得る。
【解決手段】レーザ装置３と共に用いられる光学システムは、少なくとも１つの焦点を有し、前記レーザ装置３から出力されるレーザ光を集光する集光光学系と、前記集光光学系と該集光光学系の少なくとも１つの焦点との間に配置されるビームスプリッタ１００と、前記ビームスプリッタ１００によって分岐されたレーザ光の光路上に配置される光センサ１１０と、を備えてもよい。 （もっと読む）

【課題】基板面内で細かく設定したエリア毎の露光量を調整し、現像処理後のレジスト残膜の均一性を向上し、配線パターンの線幅及びピッチのばらつきを抑制する。
【解決手段】基板搬送路２の上方において、基板搬送方向に交差する方向に配列された複数の発光素子Ｌを有する光源４と、前記光源を構成する複数の発光素子のうち、１つまたは複数の発光素子を発光制御単位として選択的に発光駆動可能な発光駆動部９と、前記被処理基板が前記光源の下方を搬送されない状態で、前記被処理基板に対する前記光源からの光照射位置に沿って基板幅方向に進退可能に設けられ、前記光源により照射された光の照度を検出する照度検出手段３１と、前記照度検出手段が検出した照度と前記発光素子の駆動電流値との関係を相関テーブルＴ２として記憶すると共に、前記発光駆動部による前記発光素子の駆動を制御する制御部４０とを備える。 （もっと読む）

【課題】 短時間で適切な照明設計を行う。
【解決手段】 露光条件決定プログラムは、照明瞳を複数の領域に分割する第一ステップと、前記複数の領域の各々について、第１照明形状からの輝度変化と、輝度を変化させた場合の転写パターンの像性能評価量の変化との関係を示す像性能応答を算出する第二ステップと、前記像性能応答を用いて、前記像性能評価量が所定の範囲内となるような各領域の輝度変化量を求める第三ステップと、前記輝度変化量を前記第１照明形状に加えて第２照明形状を求める第四ステップと、前記第一〜第四ステップを、計算条件パラメータを変更して複数回実行して複数の第２照明形状を求め、前記複数の第２照明形状のいずれか１つを前記露光装置に設定する照明形状として選択するステップと、をコンピュータに実行させる。 （もっと読む）

【課題】短い計算時間で高精度にフレアを予測することが可能なフレアの予測方法を提供する。
【解決手段】フォトリソグラフィにおけるフレアの予測方法であって、パターンレイアウトのパターン密度分布を求める工程Ｓ１４と、パターン密度分布の変化の傾きを求める工程Ｓ１５と、パターン密度分布の変化の傾きに基づく複数の区画サイズでフレア計算を行う工程Ｓ１６〜Ｓ１９とを備える。 （もっと読む）

【課題】正確なフレア値を短時間で算出する。
【解決手段】実施の形態によれば、フレア値算出方法が提供される。前記フレア値算出方法、では、複数種類の寸法で作成されたマスクパターンが配置されたマスクパターン群を用いて基板への露光処理を行った場合の平均光強度を前記マスクパターン毎に算出する。そして、前記マスクパターンの寸法に関する情報および前記平均光強度に応じた前記マスクパターンへのパターン補正量を、前記マスクパターン毎に算出する。そして、前記マスクパターン毎のパターン補正量を用いた前記マスクパターンへのパターン補正を前記マスクパターン毎に行うことにより補正後マスクパターンを作成する。そして、露光装置が備える投影光学系のフレア値を、前記補正後マスクパターンのパターン平均密度を用いて算出する。 （もっと読む）

【課題】装置の特定の異常挙動を従来に比して高感度に検知することができる異常検知装置を提供する。
【解決手段】実施形態によれば、装置パラメータ取得部１１は、装置の動作状態を表す装置パラメータを取得する。データ処理部１３は、装置パラメータの時系列データをフィッティング処理する。トレンド取得部１４は、フィッティング処理したデータを用いて、装置パラメータ取得時の２階微分値をトレンドの変化情報として取得する。フィッティング誤差取得部１５は、取得した装置パラメータと、フィッティング処理したデータと、のフィッティング誤差を装置パラメータの変化の度合い情報として取得する。そして、異常判定部１７は、データ挙動取得手段で取得されたトレンドの変化情報と装置パラメータの変化の度合い情報との組み合わせを、装置の動作状態が異常と判定される範囲を規定した異常判定基準情報と比較して、装置の動作状態が異常であるかを判定する。 （もっと読む）

【課題】現像処理後のレジスト残膜の均一性を向上し、配線パターンの線幅及びピッチのばらつきを抑制する。
【解決手段】被処理基板Ｇに形成された感光膜を複数の大ブロックＢ１に分割し、前記大ブロックを複数の小ブロックＢ２に分割するステップと、前記大ブロック内の小ブロック毎に、段階的に異なる照射照度を設定するステップと、複数の発光素子Ｌに対し相対的に移動する前記基板の感光膜に対し、前記小ブロック毎に設定された照射照度に基づき、前記発光素子を発光制御するステップと、前記感光膜を現像処理するステップと、前記小ブロック毎に、前記感光膜の残膜厚を測定し、前記小ブロックに設定された照度と残膜厚との相関データを得るステップと、前記相関データに基づき前記大ブロック毎に設定された感光膜の目標残膜厚から、各大ブロックに照射する必要照度を求めるステップとを含む。 （もっと読む）

【課題】 複数の放電ランプが所定方向に並んで配設されてなる構成のものにおいて、不具合の発生した放電ランプの特定および異常の状態の判別を行うことができて、装置の正常動作状態を確認することのできる光照射装置を提供すること。
【解決手段】 この光照射装置は、ショートアーク型の放電ランプ、および当該放電ランプを取り囲むよう配置された、当該放電ランプからの光を反射するリフレクタよりなる光源素子の複数が、一方向に並んで配置されてなる光源素子列を有する光出射部と、個々の放電ランプによる光到達領域における複数の測定箇所からの拡散光の光量を検出する光検出素子アレイとを備えてなることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 より少ない計測(2回以上の走査方向ステップ駆動による計測)から照度分布を推定し、照度ムラセンサーの位置ずれを算出することを特徴とする露光装置を提供すること。
【解決手段】 スリット照明領域と該露光面における照度分布を測定するために、該露光面に照度ムラセンサーの受光面を一致させて該露光面に沿って移動できる照度ムラセンサーを有し、円弧状スリット内の少なくとも2点以上の位置で該露光面を走査方向にステップ移動し、その走査方向の照度分布を測定できる露光装置において、少なくとも2点以上の多点ステップの照度分布を測定し、照度分布を最小二乗法により多項式に近似し、それぞれの照度分布の頂点座標から求まるY差(走査方向の差)から照度ムラセンサーのX方向(走査直交方向)に対するずれを検出する。 （もっと読む）

【課題】ＥＵＶ光以外の波長を有した露光光を容易に評価する露光量評価方法を提供すること。
【解決手段】本発明の一つの実施形態によれば、フォトマスクが、露光光のうちＥＵＶ光よりも長い波長を有した長波長光を反射し且つ前記ＥＵＶ光を吸収する長波長光反射膜を有している。また、フォトマスクは、前記長波長光反射膜の上層側に配置されるとともに前記ＥＵＶ光および前記長波長光を吸収する吸収膜を用いて形成されたマスクパターンを有している。そして、フォトマスクと、レジストが塗布された露光対象の基板と、をＥＵＶ露光装置内にセットする。前記フォトマスクに対し前記マスクパターン側から前記露光光を照射するとともに、前記フォトマスクで反射された露光光を前記基板に照射する。そして、前記基板に照射された露光光の露光量に基づいて、前記基板に照射された長波長光の光量分布を測定する。 （もっと読む）

【課題】中間集光点以降における照度分布測定を、露光装置側に照度分布を測定する手段を設けることなく、極端紫外光光源装置単体でも行うことができるようにすること。
【解決手段】ＥＵＶ光源装置において、集光鏡６と中間集光点ｆの間に、中間集光点ｆに集光するＥＵＶ光だけを抽出する多孔板２０１と蛍光板２０２と折り返しミラー２０３と受光検出器２０５を設ける。多孔板２０１には、中間集光点ｆに向かう光のみが通過するように配置された多数の貫通孔が設けられており、受光検出器２０５には中間集光点ｆに集光する光のみが受光される。受光検出器２０５で検出した点状の照度分布は画像処理部１０で補間処理され、中間集光点ｆに集光する光の照度分布が復元される。これにより、集光点ｆに集光するＥＵＶ光の照度分布の悪化を知ることができ、また、ＥＵＶ光の照度分布が良くなるように、集光鏡６を移動させ照度分布を改善することができる。 （もっと読む）

【課題】正確な照明パターンを迅速に形成する。
【解決手段】光源から入射した光源光を個別に設定された反射角度で反射してそれぞれが反射光を射出する複数の反射鏡を有する空間光変調器と、複数の反射鏡の各々に設定する反射角度を算出する算出部と算出部が算出した反射角度を複数の反射鏡のそれぞれに設定する駆動部とを備えた照明装置であり、算出部は、反射光により被照射面に照明パターンを形成すべく複数の反射鏡の一部に設定する反射角度と、照明パターンの形成に寄与しない不要反射光を射出する複数の反射鏡の他の一部について、不要反射光が被照射面に照明パターンの背景を形成する反射角度とを算出する。 （もっと読む）

【課題】露光パターン形成用領域を複数回に分けて露光する場合、又は複数の露光パターン形成用領域を同時若しくは連続的に露光する場合に、露光位置の確認が容易な露光方法及び露光位置の確認方法を提供する。
【解決手段】露光対象部材２は、露光パターン形成用領域及びその周囲の少なくとも一部の非パターン形成領域を備えている。この露光対象部材２の非パターン形成領域における露光パターンの延長上にある領域に露光光の照射により変色する光変色材料を塗布するか、又は露光光の照射により変色する光変色部材を貼付し、マスクに透過させた露光光を露光対象部材に照射する際に、露光パターン形成用領域の他に、光変色材料又は光変色部材からなる光変色領域２２にも照射してこれを変色させる。そして、この光変色領域２２の変色により、露光パターン形成領域における露光位置を確認し、露光不良の有無を判定する。 （もっと読む）

【課題】目標照明光源形状を正確に再現した照明光源を形成する。
【解決手段】 複数のミラー要素ＳＥ_ｋ（ｋ＝１〜Ｋ）を、それぞれのミラー要素によって反射される光の強度Φ_０ｋの順に、単位数（例えばＮ）毎に、複数のレンズ素子ＦＬ_ｎのうちの目標照明光源形状Ψ_０を形成するのに必要な数Ｎのレンズ素子ＦＬ_ｎ（ｎ＝１〜Ｎ）（に対応する複数のグループａ〜ｆ）に対応付けることと、必要な数Ｎのレンズ素子ＦＬ_ｎ（ｎ＝１〜Ｎ）のうちの２つのレンズ素子のそれぞれに対応付けられたミラー要素ＳＥ_ｋのうちの少なくとも各１つのミラー要素同士を入れ替えて、２つのレンズ素子のそれぞれに対応付けられたミラー要素ＳＥ_ｋについての光の強度の和Φ_０ｋを平均化する。これにより、目標照明光源形状を正確に再現した照明光源を形成することが可能となる。 （もっと読む）

【課題】ＥＵＶ光源を用いた場合に、ウェハ面上での露光量を正確に算出することができ、パターン寸法精度の向上に寄与する。
【解決手段】パルス駆動により極端紫外域のパルス光を発生する光源１０と、光源１０からのパルス光を試料面５０上に導く光学系２０，４０と、試料面５０上の照度を計測する照度計測器７１と、光学系２０，４０の光路途中の照度を計測する照度計測器７２と、を備えた露光装置である。実際の露光とは別に、光源１０の駆動により出力されるパルス光の順番毎に、照度計測器７１で得られた計測値と照度計測器７２で得られた計測値との比を求めて記憶し、実際の露光において、光源１０の駆動により出力されるパルス光の順番毎に、照度計測器７２を用いて得られた計測値とこれ対応する比との積を求めて露光量推定値を算出し、算出した露光量推定値に対応して露光動作を制御する。 （もっと読む）

【課題】照明光源を状況に応じて調整する。
【解決手段】 露光装置の起動時においては、照明光源形状を計測し（ステップ２０８）、その計測結果と目標とに基づいて照明光源形状を評価し（ステップ２０９）、その評価結果に基づいて、ビーム形状を推定することと、照明光源のミラー特性を推定することと、照明光源の設定を最適化することとを含む調整方法の中からいずれかを選択する（ステップ２１０、２１２、２１３）。これにより、照明光源を短時間に及び／又は正確に調整することが可能となる。 （もっと読む）

【課題】照度計のバラツキを抑えることにより各光源間の照度を一定にすることにより、露光むら無く高精度に露光を行うことができる近接スキャン露光装置及びその制御方法を提供する。
【解決手段】近接スキャン露光装置１の光源制御部１５aは各照度計５０からの照度信号を基準照度計６０により検出された基準照度に応じて補正する微分器１５ｂを有する。基準照度計６０により各照度計５０のバラツキを抑えることにより各照射部１４間の照度を一定にすることにより、露光むらを無くし高精度に露光を行う。 （もっと読む）

【課題】強誘電体結晶により構成される強誘電体基板に周期分極反転構造が形成される光学デバイスに関し、その強誘電体結晶の薄膜化および周期分極反転構造の高精度化を可能とする。
【解決手段】単分極化された強誘電体結晶により構成された強誘電体基板１１の一方主面Ｓ1Aと、強誘電体基板１１よりも厚い支持基板１４の一方主面Ｓ1Bとの間に接合部１３を介在させて強誘電体基板１１を支持基板１４で支持しながら一体化しているので、上記した平面研磨処理により強誘電体基板１１、つまり強誘電体結晶を薄膜化することができ、その結果、周期分極反転構造を薄くすることができる。そして、こうして薄膜化された強誘電体基板１１に対し、上記したように電圧印加法により分極反転部を形成する。 （もっと読む）