【課題】 レチクルのパターン面の形状を計測するための新規な技術を提供すること。
【解決手段】 レチクルを保持するためのステージと投影光学系とを有し、前記投影光学系を介して、前記ステージに保持された前記レチクルのパターンを被処理体に投影する露光装置を、基準部材に対する、前記ステージに保持された前記レチクルの位置を計測する位置計測手段と、前記位置計測手段の計測結果に基づいて、前記レチクルのパターン面の形状を計測する形状計測手段とを有するものとする。 （もっと読む）

【課題】 基板上の位置に応じてスケーリングが異なる場合であっても、基板上の各ショット領域を所定の位置に高精度に位置合わせする。
【解決手段】 ウエハ８上の被露光領域を、ウエハ８の中心を原点とする第１象限Ｑ１〜第４象限Ｑ４の内の２つ含む部分領域ｐｘ１，ｐｘ２，ｐｙ１，ｐｙ２に分け、各部分領域ｐｘ１，ｐｘ２，ｐｙ１，ｐｙ２について個別にスケーリング補正値を求める。このスケーリング補正値と、全サンプルショットＳＡ_１〜ＳＡ_９の計測値とを用いてＥＧＡ演算を行って、ウエハ８上のショット領域の設計値を実際に位置合わせすべき座標値に変換する変換行列を求める。 （もっと読む）

【課題】フォトリソグラフィ・パターン化装置を生成する方法、及びそれを用いたリソグラフィ装置を提供する。
【解決手段】パターン化装置を作成する段階において目標となる寸法及び配向を画定し、この放射の有効影角度を複数ポイントで計算し、これに基づいて所望画像の変位及び寸法誤差を補償するようにパターン化装置の吸収体層の厚さもしくは吸収体の強度減衰を調整する。該パターン化装置を用いた投影露光装置であって、前記画像の目標一を決定するために用いられる測定装置を備え、検出器の結果に応じて目標画像の一及び寸法誤差が補償されるように構成したリソグラフィ装置。 （もっと読む）

【課題】 マスクステージ及び基板ステージの位置を高精度に制御することができる露光装置を提供する。
【解決手段】 走査方向の前方側に配置された第１投影光学ユニットと、前記走査方向の後方側に配置された第２投影光学ユニットとを有する投影光学系を用いてマスクＭのパターンを感光性基板Ｐ上に露光する露光装置ＥＸにおいて、前記第１投影光学ユニットにより形成される露光領域より前記走査方向の前方側に配置され、前記感光性基板の前記第１投影光学ユニットの光軸方向における位置を検出する第１基板フォーカス系５０と、前記第２投影光学ユニットにより形成される露光領域より前記走査方向の後方側に配置され、前記感光性基板の前記第２投影光学ユニットの光軸方向における位置を検出する第２基板フォーカス系５２とを備える。 （もっと読む）

【課題】
複数の基板の位置測定を効率的に行う。
【解決手段】
ステージを水平移動して結像光学系の検出視野における測定有効範囲内に測定マークを収めて行う位置測定方法において、それぞれ同位置に測定マークを形成した複数の基板を順次載せ換えて所定の測定を行うようになっており、予め記憶された所定位置にステージが位置するようにステージ駆動機構を駆動させ（ステップＳ２）、ステージ移動後に測定マークから測定有効範囲までの距離を算出し、この距離を記憶するとともに所定位置にこの距離を加算して新たな所定位置を導出し（ステップＳ５）、測定マークが測定有効範囲を外れたときにステージを上記算出された距離だけ移動させて測定マークを測定有効範囲内に収めて所定の測定を行い、次の基板を載せたステージが上記導出された新たな所定位置に位置するようにステージ駆動機構を駆動させることを特徴としている。 （もっと読む）

【課題】高精度な位置計測を行なう位置計測方法を提供する。
【解決手段】レチクルアライメントの際に、まず、予備計測としてアライメントセンサの視野基準でのレチクルマーク及びウエハフィデュシャルマークの位置を計測し、そのずれ量を計測する。次に、各マークが視野中心となるようにレチクル及びウエハステージの位置を駆動し、この状態で本計測としてのレチクルマーク及びウエハフィデュシャルマークのずれ量を計測する。マークを、必ずアライメントセンサの視野中心において観察していることとなり、アライメントセンサの光学系のディストーション、あるいは、撮像素子の固定パターンノイズ等については、毎回同じ成分が重畳されることとなるので、これらに起因する計測再現性の悪化を防ぐことができ、安定したレチクルアライメントを行なうことができる。そしてその結果、レチクルアライメントマークＲＭとウエハフィデュシャルマークとを高精度に位置合わせすることができる。
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【課題】アレイの位置が必要な公差内であることを確実にすることができるリソグラフィ装置に、個別に制御可能な素子のアレイを固定するシステム及び方法を提供すること。
【解決手段】リソグラフィ装置は、リソグラフィ装置の支持フレーム上の搭載点に取り外し可能に搭載される個別に制御可能な素子のアレイを備える。 （もっと読む）

【課題】 気圧が変動してもベースライン量を正確に計測できるようにする。
【解決手段】 気圧の変動が生ずるとベースライン量を測定する際に用いられる基準板６の体積変化が生じ、この体積変化により基準板６に形成された基準マークの間隔（例えば、基準マーク７Ａ，７Ｂと基準マーク８との間隔）が変化してベースライン量の誤差が生ずる。本発明は気圧の変動を測定し、この測定結果から基準板６の体積変化を求め、計測されたベースライン量を補正する。 （もっと読む）

【課題】 同一ショット領域内におけるパターンの合わせ精度を均一化できるようにする。
【解決手段】 ＢＯＸマークＢＸ１、ＢＸ２を同一のショット領域ＳＨ内のスクライブラインＳＣ上の複数箇所に配置し、複数箇所に配置されたＢＯＸマークＢＸ１、ＢＸ２の合わせ位置を計測し、その計測結果に基づいて、ショット領域ＳＨを露光する時のステッパのオフセット量を設定し、その設定されたオフセット量に基づいて、ショット領域ＳＨを露光する時のステッパ位置決め制御を行う。 （もっと読む）

【課題】 基板処理装置で用いられるプログラムの作成負荷を軽減することができるとともにデータ管理を容易に行うことができるデータのデータ構造等を提供する。
【解決手段】 レチクルを介してウェハのショット領域を露光する露光装置で用いられるデータのデータ構造であって、レチクル及びウェハのデータが格納されるレチクルデータセクションＳＥ１及びウェハ基本データセクションＳＥ２、ショット領域の配置及び内部構成のデータが格納されるウェハマップレイアウトセクションＳＥ３及び露光ショットレイアウトセクションＳＥ４、ウェハのマークに関するデータ及びその計測条件のデータが格納されるアライメントマークパラメータセクションＳＥ５及び計測パラメータセクションＳＥ６、露光時の補正処理のデータ及び露光手順が格納される露光時補正パラメータセクションＳＥ７及びシーケンスパラメータセクションＳＥ８に区分されている。 （もっと読む）

【課題】多数の位置調整装置を備えるリソグラフィ装置及び位置調整測定方法の提供。
【解決手段】リソグラフィ装置は、第１の検出器によって対象物に配置された第１の位置調整用マークを検出し、第１の位置調整信号を生成し、第１の検出器とは異なる方法の位置調整測定を使用して、第２の検出器によって同じ第１のマークを検出し、第２の位置調整信号を生成し、第１の検出器から第１の位置調整信号を受信し、第１の位置調整信号に基づき少なくとも第１のマークの第１の位置を算出し、第２の検出器から第２の位置調整信号を受け、第２の位置調整信号に基づき少なくとも第１のマークの別の第１の位置を算出することによって、同じマークに関する位置調整測定を行うために使用される、複数の異なる位置調整装置を有する。 （もっと読む）

【課題】レチクルステージとウェハステージとの位置合わせを高精度に制御することができる位置合わせ方法及び装置、露光装置、並びに、デバイス製造方法を提供する。
【解決手段】レチクルを載置する第１のステージ２５及びウェハを載置する第２のステージ４５の実際の位置を出力信号として検出するステップと、前記第１のステージ２５及び前記第２のステージ４５の各位置における出力信号を補正する補正テーブルを作成するステップと、前記実際の位置と目標位置とを比較するステップと、前記比較ステップの比較情報に基づいて、前記出力信号の一部及び／又は座標の一部を、前記補正テーブルを利用して補正するステップと、前記補正ステップで補正された前記出力信号に基づいて、前記第１のステージ２５又は前記レチクルと前記第２のステージ４５との位置関係を決定するステップとを有する。 （もっと読む）

ステップ４０１において、複数のショット領域の中から、任意の複数のショット領域の副集合が選択される。そして、ステップ４０３において、その副集合に含まれるショット領域に関する位置情報の設計値と、その位置情報に関わる所定の精度指標に関する情報とに基づいて、それらのショット領域を計測ショット領域とした場合のウエハ上での配列に関する誤差パラメータ情報の最尤推定値が算出される。そして、ステップ４０５で、推定された誤差パラメータに基づいて、重ね合わせ誤差を算出し、ステップ４０７で、その重ね合わせ誤差が、所定条件を満たす副集合を選択する。この選択された副集合の中からショット領域間の総移動時間に関して最も好ましい移動シーケンスを有する副集合が選択される。
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【課題】基板および／またはマスクテーブルの非平坦さを補正して、リソグラフィシステムの基板の連続する２つの描像層間のオーバレイを減少させることを提供する。
【解決手段】投影ビームを提供する照明システムと、投影ビームの断面にパターンを与えるマスクを支持するマスクテーブルと、基板を保持する基板テーブルと、パターン形成したビームを基板の目標部分に投影する投影システムとを含むリソグラフィシステムに関する。システムは、基板テーブルまたはマスクテーブルの表面を表す基準高さマップを使用して、オーバレイ補正値を計算するプロセッサも含む。本発明によって、位置合わせおよび露光中に非平坦度によって生じたウェハグリッドの歪みをフィードフォワード補正し、平坦度特徴の違いが引き起こすオーバレイエラーを軽減することができる。高さマップ情報に基づき、露光チャックの平坦度に関するオーバレイ精度を間接的に認定する方法を提供する。 （もっと読む）

ウエハ（Ｗ）を複数のアライメントマーク（Ｍ_ｎ）がアライメント検出系を経由する経路に沿って第１位置（Ｐ_ｃｈ）から第２位置（Ｐ_ｃｘｐ）まで移動するに際し、ウエハテーブル（ＷＴＢ）をＹ軸方向及びこれに直交するＸ軸方向にそれぞれ駆動するＹリニアモータ、Ｘリニアモータの休止時間がともに最小となるような経路に沿ってウエハテーブルを駆動する。この場合、両リニアモータが同時にウエハテーブルを駆動する時間が極力多くなり、その同時駆動の時間中は、いずれか一方のリニアモータのみを用いてウエハテーブルを駆動する場合に比べてウエハの移動距離を長くすることができるので、結果的にウエハを第１位置から第２位置へ移動するのに要する時間を短縮できる。
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【課題】 ウエハ１ロット（２５枚程度）を露光する間にベースラインが変動しオーバーレイ精度が悪化する。オーバーレイ精度悪化を防ぐためベースライン計測を頻繁に行うとスループットが悪化する。
【解決手段】 レチクル顕微鏡，オフアクシス顕微鏡ともにＵＬ鏡筒に配置されたマークを観察し、常時計測器系と投影光学系の相対位置ずれを測定し補正することによりベースライン計測間隔の間のオーバーレイ精度悪化を最小限にする。 （もっと読む）

【課題】２つのデバイスを互いに対してアライメントする装置及び方法を提供すること。
【解決手段】これらのデバイスのうちの第１デバイスに近接スイッチが設けられ、これらの２つのデバイスのうちの第２デバイスに基準マークを設けることができる。この近接スイッチの検知領域に他のデバイスが入ると、近接スイッチの第１の状態が第２の状態に変わる。即ち、第１状態から第２状態までの移行は、近接スイッチに対する第２デバイスの相対位置の尺度である。近接スイッチに対する第２デバイスの相対位置が分かれば、これらのデバイスは互いに対して所望の相対位置に位置することができる。この近接スイッチを用いて他のデバイスの位置をいくつかの方向で決定することができる。第１デバイスの第２デバイスに対する相対位置及び方向の両方、即ち、回転を、近接スイッチを用いて決定することができる。 （もっと読む）

【課題】ウエーハ1ロット（２５枚程度）を露光する間にベースラインが変動しオーバーレイ精度が悪化する。
【解決手段】投影光学系を通さずに、レチクル駆動ステージ及びウエーハ駆動ステージに設けられたマーク位置を計測ＲＷ測定スコープを備え、ベースライン計測の直後にＲＷ測定スコープ内に設けられた指標マークを測定基準に、レチクル基準マーク、ウエーハステージ基準マークの絶対位置を測定し、測定値を記憶しておく。任意に設定されたウエーハ枚数ごとにレチクル基準マーク、ウエーハステージ基準マークの絶対位置をＲＷ測定スコープにて計測し、ベースライン計測直後の測定値からのずれ量をステージの変形分として認識し、補正する。ウエーハ側においては、補正後、更にオフアクシス顕微鏡にて自身に内蔵された指標マークを測定基準にステージ基準マーク位置を計測し、ずれ量をオフアクシス顕微鏡自身の変形分として認識し補正する。 （もっと読む）

【課題】複数のセンサーで同期して計測を行ない、結果を高速かつ高品質に信号処理部に伝送し、もって位置検出を高速かつ高精度に行なう位置検出装置を提供する。
【解決手段】位置検出装置２００においては、センサー制御手段２１９，２２９，２３９及び２６９において、センサー２１１，２１２，２２１〜２２３，２３１及び２６１における検出結果のアナログ信号をデジタル信号に変換し、デジタル信号としてそのデータを光通信ネットワークで構築された伝送手段２７０を介して信号処理手段２８０に転送している。従って、複数のセンサーにおいて同時に検出されたデータを、同時並列的にデジタル信号に変換し、伝送手段を介して実質的に同時に信号処理手段に提供することができ、複数のセンサーで同時に検出したデータを用いた位置検出処理や、リアルタイムでの位置検出処理を適切に行なうことができる。
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本発明は、第２の対象物に近接して第１の対象物を配置し、第２の対象物上のパターンを電子線またはＸ線を用いて第１の対象物上に転写する近接露光における位置合わせ方法に関する。少なくとも一部に光を透過させる領域が画定されたマーク支持部に第１の参照マークを形成した第１の参照マスクと、第１のアライメントマークを形成した第１の対象物を第１のステージに配置する。第１のステージに配置した第１のアライメントセンサを用いて、マーク支持部に画定された光を透過させる領域を介して、第１のステージに対向して設置される第２のステージに配置される第２の対象物に形成される第２のアライメントマークと第１の参照マークを同時に検出する。これにより、第２の対象物と第１の対象物との位置合わせを容易に行うことのできる。
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