【課題】
位置決め基準の異なる露光装置間での位置決めのエラーを防止し、プリアライメントのエラーによるダウンタイムを低減し、半導体製造工程における生産性を向上する露光装置および露光方法を提供する。
【解決手段】
基板の外周位置を検出する検出部と、前記検出部の出力にもとづいて前記基板の外周形状に関するデータを算出する算出部と、前記算出部の出力にもとづいて前記基板の位置を調整する調整部と、前記調整部によって位置調整された前記基板をステージ上に搬送する搬送部とを備える露光装置において、前記ステージ上で、基板に形成されたマークの位置を検出するマーク検出部と、前記マーク検出部の出力にもとづいて前記算出部の算出条件または算出方法を変更する変更部と、を備えることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】
例えば、アライメント計測エラーが発生した場合にスループットの点で有利な露光装置を提供する。
【解決手段】
基板を保持して移動するステージを有し、前記ステージに保持された基板に形成されたアライメントマークを照明してその位置を計測し、計測された前記位置に基づいて前記基板を位置決めして露光する露光装置において、前記アライメントマークに対する複数の照明条件を予め設定し、前記複数の照明条件のうちの第１の照明条件でのアライメント計測エラーの発生に基づいて、前記第１の照明条件を前記複数の照明条件のうちの第２の照明条件に変更する制御手段を有する、ことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】、裏面側の位置検出光学系を移動させることなく、投影光学系の露光パターンの投影位置及び位置検出光学系の検出位置の相対的な位置合わせをより正確に行って、露光を高精度に行うことが可能な露光装置を提供する。
【解決手段】露光装置１は、基板７を載置するステージ９と、基板７の表面側に配置され、基板７の表面７ａにパターンを投影する投影光学系４と、基板７の裏面側に配置され、基板７の裏面７ｂに形成された位置合わせマークを検出する裏面位置検出光学系６と、ステージ９を貫通する貫通孔９ｂに取り付けられ、光を透過する部材で形成された窓部材１０と、投影光学系４により窓部材１０の表面１０ａに形成されたパターンの像を、窓部材１０の裏面側から裏面位置検出光学系６で検出し、投影光学系４により形成されるパターンの像の位置と裏面位置検出光学系６で検出される位置合わせマークの位置との相対関係を算出する制御部１１と、を有する （もっと読む）

【課題】本発明は、露光の精度を高めることを目的とする。
【解決手段】第１露光及び第２露光のそれぞれを、複数の光ビームを照射する露光ヘッド１６の走査露光によって行う。一対の第１膜マーク３２を含むように第１膜パターン３０を形成する。一対の第２膜マーク５０を含むように第２膜パターン４８を形成する。位置ずれを検出する工程は、それぞれの第１膜マーク３２の中心点の位置の測定と、それぞれの第２膜マーク５０の中心点の位置の測定と、一対の第１膜マーク３２の中心間を結ぶ第１直線と副走査方向に沿った基準直線との間の第１角度の算出と、一対の第２膜マーク５０の中心間を結ぶ第２直線と基準直線との間の第２角度の算出と、を含む。調整の工程は、第１角度及び第２角度の差をなくす方向に、第１露光及び第２露光の少なくとも一方で使用される露光ヘッド１６を回転させることを含む。 （もっと読む）

【課題】 ２波長露光など、誤計測要因が発生する状態において高精度な像面計測、ベストフォーカス計測、アライメント原点補正を可能にする。
【解決手段】 ２波長露光において、露光時と同様に2波長発振状態にてTTLキャリブレーション計測を行い、特に、露光領域内の軸外パターンでのフォーカス検出を行う際には、レンズ開口の法線方向（サジタル方向）パターンを用いてフォーカス位置を検出することで倍率色収差による像のにじみの影響を無くしたものである。さらに、単一波長露光時と２波長露光時のそれぞれにおいて最適なキャリブレーション計測チャートを選択する。
また、二波長露光における倍率色収差の影響のみに限定するものではなく、distやコマ、テレセン度などフォーカスにより像シフトが起こり計測誤差が発生する場合でも同様な構成手法により誤差量を減らすことが出来る。 （もっと読む）

【課題】試料に形成された段差を有する基準マークのエッジラフネスの影響を受けることなく、基準マークの位置を再現性良く検出することが可能な荷電粒子ビーム描画方法、荷電粒子ビーム描画用の基準マークの位置検出方法及び荷電粒子ビーム描画装置を提供する。
【解決手段】ステージをＸＹ方向に動かして該ステージに載置された試料Ｍに形成された段差を有する基準マークＦＭ’に対して光てこ式の高さ測定器の投光光を走査し、その反射光の強度の変化を検出し、その反射光の強度が変化したときのステージのＸＹ位置を検出し、検出したＸＹ位置を基準マークＦＭ’の位置Ｃとして検出し、検出した基準マークＦＭ’の位置Ｃから試料Ｍに存在する位相欠陥Ｄの位置を特定し、特定した位相欠陥Ｄの位置との関係で描画位置を決定する。 （もっと読む）

【課題】露光工程のスループットを高く維持して、アライメントを高精度に行う。
【解決手段】複数のウエハマークが形成されたウエハを露光する露光システムにおいて、計測対象のウエハマークに対応させてウエハＷ２上に複数の基準パターンを形成する簡易型露光装置４と、ウエハＷ２上の計測対象の複数のウエハマークとこれに対応する基準パターンとの位置ずれ量を計測するマーク検出装置１０と、その位置ずれ量の計測結果に基づいてウエハＷ２の位置合わせを行って、ウエハＷ２上の複数のショット領域を露光する露光装置１２と、を備える。 （もっと読む）

【課題】簡便且つ高精度なショット内誤差の非線形補正を行う。
【解決手段】予め、ウエハ上の複数のショットに付設された多数のアライメントマークを検出し、その精密な検出結果に基づいてウエハの歪みの非線形成分を記述するモデル（に対する条件）を複数決定しておく。そして、ウエハ露光（ロット処理）時には、ステップ６０８又は６０６において少ない数のアライメントマークを検出してウエハの歪みを求め、ステップ６１８においてそのラフな結果に基づいて予め決定された複数のモデル（に対する条件）を選択する。そして、選択されたモデルを用いてパターンを複数のショットに順次位置合わせし、露光する。 （もっと読む）

【課題】ウエハの熱膨張による重ね精度の低下を回避する。
【解決手段】ステップ２０６において、基準量の１／Ｎの量の照明光をウエハに照射して、ウエハ上に配列された複数の区画領域を露光する。これを、Ｎ回繰り返す。繰り返しの回数Ｎは、パターンの位置合わせ精度（重ね合わせ精度）又はパターンの転写に要する時間に基づいて定められる。これにより、パターンの重ね合わせ精度の低下、又はスループットの低下を回避することが可能となる。 （もっと読む）

【課題】リソグラフィ装置における格子変形の処理レシピを修正するための格子モデルの選択方法を提供すること。
【解決手段】複数の格子モデルのセットが提供される。多数の基板上の複数のアライメント・マークに対するアライメント測定を実行することによってアライメント・データが取得される。取得したアライメント・データが格子モデルを解くために適しているかどうか、格子モデル毎にチェックされる。取得したアライメント・データが格子モデルを解くために適している場合、その格子モデルが複数の格子モデルのサブセットに追加される。余剰が最も少ない格子モデルが選択される。アライメント・データの他に、前記多数の基板上の複数のオーバレイ・マークに対するオーバレイ測定を実行することによって度量衡学データを取得することができる。 （もっと読む）

【課題】 良好なアライメント再現性を提供すること。
【解決手段】 デバイスを製造するための方法には、基板を提供する工程であって、基板が複数の露光フィールドを備え、個々の露光フィールドが１つまたは複数のターゲット部分および少なくとも１つのマーク構造を備え、マーク構造が露光フィールドのための位置マークとして配置される工程と、対応する個々の露光フィールドのためのアライメント情報を得るために個々の露光フィールドのマークをスキャンし、かつ、測定する工程と、対応する個々の露光フィールドのためのアライメント情報から個々の露光フィールドの絶対位置を決定する工程と、露光フィールドおよび少なくとも１つの他の露光フィールドの互いに対する相対パラメータに関する追加情報を使用して、少なくとも１つの他の露光フィールドに対する個々の露光フィールドの相対位置を決定する工程と、複数の露光フィールドの各々に対して、絶対位置および決定された相対位置を結合して改良型絶対位置にする工程が含まれている。 （もっと読む）

【課題】投影像の歪みを補正して、物体上に形成されるパターンの重ね合わせ精度を向上させる。
【解決手段】主制御装置５０は、ウエハＷの現工程レイヤに対する走査露光において、補正関数により記述されるレチクルＲのパターンの投影像の歪みの補正に従って、レンズ素子２７を駆動するあるいはステージＲＳＴ，ＷＳＴの同期駆動を微小補正して、投影像の歪みを元工程レイヤのパターンの歪みに一致させる。ここで、補正関数内の係数に代入する値の候補のうち、露光装置の投影像の歪みを補正する機能の限界に応じて定まる閾値を超える値の候補を閾値以下の値に変更し、その変更を相殺するように、閾値を超えない他の値の候補を変更する。 （もっと読む）

【課題】位置精度が向上した位置決めシステムを提供する。オーバーレイエラー及び／又は結像の問題が低減されたリソグラフィ装置をさらに提供する。
【解決手段】リソグラフィ装置は、装置の第２の部分に対して装置の第１の部分を位置決めするポジショナを含み、ポジショナは、モータ入力とモータ出力との関係を定義するモータ位置に依存するモータ定数を有するモータと、モータを駆動する制御システムとを含み、制御システムは、第２の部分に対する第１の部分の所望の位置に基づいて基準信号を提供するセットポイントジェネレータと、基準信号に基づいてモータに駆動信号を提供するコントローラとを含み、コントローラは、モータ位置に依存するモータ定数について駆動信号を少なくとも部分的に補償する補償器を含む。さらに、本発明は、ポジショナと、位置決めシステムを最適化する方法と、モータ位置に依存するモータ定数を導出する方法とに関する。 （もっと読む）

【課題】対象物同士の位置合わせを簡便に高精度に行うことができるアライメント方法およびアライメント装置を提供することを目的とする。
【解決手段】アライメント装置１０の上下移動機構１４の偏心等によるアライメントマーク画像のずれ量を示す誤差テーブルを作成し、アライメントマーク画像のずれ量を無視できる許容間隔を予め導出する。その後、ウエハ１とマスク２を接触して倣い調整した後、ウエハ１とマスク２の間隔を導出した許容間隔内の所定の間隔として、ウエハ１とマスク２のアライメントを行う。 （もっと読む）

【課題】ウエハ処理によってダメージを受け、目標とするマークが検出できない場合もしくは、計測ができなくなった場合でも正確にアライメントを実施する。
【解決手段】基板の各ショットごとに配列された複数の位置検出マークの中からターゲットマークを検出して基板の位置合わせを行う露光装置であって、スコープにより第１の倍率で撮像された画像から、複数の位置検出マークの中の第１のマークの位置と当該第１のマークの外側の領域の特徴とを抽出して第１のマークを識別し、スコープにより第２の倍率で撮像された画像から、ターゲットマークの位置を抽出し、抽出されたターゲットマークの位置の信頼性が閾値を下回る場合、新たなターゲットマークとして複数の位置検出マークから第２のマークを選択し、第２の倍率で撮像された画像から第２のマークの位置を抽出する演算処理部と、第２のマークの位置に基づきステージの位置を制御する制御部と、を有する。 （もっと読む）

【課題】対象物同士の位置合わせを高精度かつ容易に行うことができるアライメントマーク画像の表示方法およびアライメント装置を提供することを目的とする。
【解決手段】ウエハとマスクを設定間隔Ｈ２だけ離したときのウエハマーク４ａ、マスクマーク６ａの撮影画像を、予め作成した補正テーブルから読み出したずれ方向およびずれ量に基づいて補正する。ウエハとマスクの対向面が作業間隔Ｈ１のときのＸ方向、Ｙ方向のずれ量をｄＸ１、ｄＹ１、設定間隔Ｈ２のときのＸ方向、Ｙ方向のずれ量をｄＸ２、ｄＹ２とすると、マスクマーク６ａの撮影画像をＸ方向、Ｙ方向にｄＸ、ｄＹ、ウエハマーク４ａの撮影画像をＸ方向、Ｙ方向に−（ｄＸ２−ｄＸ１）、−（ｄＹ２−ｄＹ１）だけ移動して補正する。そして、補正後の仮想ウエハマーク４ｃと仮想マスクマーク６ｃを重畳してモニタに表示する。 （もっと読む）

【課題】高いスループットと高い精度との両立を図ることが可能な位置検出方法を提供する。
【解決手段】物体上に配列される複数のショット領域ＳＡの位置情報となる有限個のマーカーから、該有限個のマーカー上に定義される所定の確率分布の集合に比例する確率で一部のマーカーの集合を繰り返し選択し、該選択した所定のマーカーの集合から、複数の区画領域の配列を規定する所定モデルからの誤差を示す指標を最小にするときのマーカーの集合の各位置を計測し、計測したマーカーの集合の各位置から、歪を表現するモデルのパラメータの値を、重要度重み付き最小二乗法により推定する。 （もっと読む）

【課題】
レチクルとウェハ（ウェハステージ）との位置合わせ計測に用いる手順を状況に応じて変更させるようにした露光装置及びデバイス製造方法を提供する。
【解決手段】
原板（レチクル）ステージに保持された原板を基板（ウェハ）ステージに保持された基板に位置合わせして原板のパターンを基板に投影し基板を露光する露光装置であって、原板に付されたマークと基板ステージに付されたマークとの位置関係を計測する計測部と、原板に付されたマークと基板ステージに付されたマークとを計測部の視野内に入れて計測部に計測を実行させる制御部とを具備し、制御部は、第１の手順（第１の手順は、第２の手順よりも計測部による原板に付されたマークの計測回数が少ない）及び第２の手順を少なくとも含む複数の手順のいずれかにしたがって計測部に計測を実行させ、当該実行した計測により得られた結果に応じて位置合わせを行なうように構成される。 （もっと読む）

【課題】リソグラフィ装置のステージ位置を較正する較正方法提供する。
【解決手段】概ね第一方向に延在する少なくとも１本の線によって形成された延在パターンの特性を検出する検出方法。延在パターンは、基板Ｗ又は基板テーブルＷＴ上に形成され、好ましくは線の幅の少なくとも５０倍の長さにわたって延在する。延在パターンは焦点感応性である。検出方法は、基板テーブルＷＴを第一方向に移動させ、その第一方向に沿って延在パターンの特性を測定することを含む。特性は、第一方向に対して直角の第二方向における延在パターンの物理的特性の結果であることがある。次のステップでは、延在パターンの測定位置から基板テーブル位置の較正を導出することができる。 （もっと読む）

【課題】
スループットを確保しつつ、高精度な重ね合わせを行う位置検出装置を提供する。
【解決手段】
マークが形成される基板を積載する基板ステージと、前記マークの位置を光検出する光検出手段と、前記基板ステージの位置を計測するステージ位置計測手段と、前記基板ステージの位置に対応する前記マークの位置を光検出する光検出回数、前記マークの位置の光検出の蓄積時間、前記基板ステージの位置の計測回数のいずれか１つ以上の計測条件を決定する計測条件決定手段と、前記計測条件に対応して、前記光検出手段により前記マークの位置の光検出を行うように制御する制御部と、を有することを特徴とする。 （もっと読む）