【課題】パターンどうしを良好に位置合わせでき、基板を効率良く多重露光できる露光装置を提供する。
【解決手段】露光装置ＥＸは、第１パターンＰＡ１の像を第１露光領域ＡＲ１に形成可能であり、第１パターンＰＡ１と異なる第２パターンＰＡ２の像を第２露光領域ＡＲ２に形成可能な投影光学系ＰＬと、第１パターンＰＡ１の像の位置情報、及び第２パターンＰＡ２の像の位置情報の少なくとも一方を求めるための第１検出系１０とを備える。検出結果に基づいて、第１及び第２パターンＰＡ１，ＰＡ２の像と基板Ｐ上の所定領域Ｓとの位置関係を調整し、第１及び第２パターンＰＡ１，ＰＡ２の像で基板Ｐ上の所定領域Ｓを多重露光する。基板を効率良く多重露光できる。 （もっと読む）

【課題】近接露光装置等の物品を載置する際に、プリアライメントを必要とする場合に、プリアライメントを簡易な構成で容易に行う。
【解決手段】プリアライメントユニットの載置テーブル６に基板Ｗを載置したときに、エッジセンサ１１ａ〜１１ｃでエッジ位置を検出して、プリアライメント位置に対する回転方向のずれ量θを計測し、計測した回転方向ずれ量θを解消するように回動操作機構１０を作動させて、載置テーブル６を回動させ、この状態で再度エッジ位置からＸＹ方向ずれ量Ｘ_E及びＹ_Eを計測し、これらずれ量Ｘ_E及びＹ_Eを近接露光装置ＰＥに伝送して、搬送機構ＣＭによってプリアライメントユニットＰＵから基板Ｗが載置される前にワークステージ３２をずれ量Ｘ_E及びＹ_Eを解消するように移動させて、ガラス基板Ｗを受け取る。 （もっと読む）

【課題】リソグラフィ装置の測定光学系を高精度に調整する方法を提供する。
【解決手段】リソグラフィ装置において、基板を保持するように構築された基板テーブルは、基板を基板測定位置と基板処理位置の間で移送するように動作可能で、装置は、基板テーブルが基板を測定位置に保持しているときに基板の少なくとも１つのアスペクトまたは特性を測定するように構成された測定システムも含む。測定システムは、少なくとも１つの測定ビームおよび／またはフィールドを基板の表面に向かって誘導するように構成される。投影システムは、基板テーブルが基板を基板処理位置に保持しているときにパターン化された放射ビームを基板のターゲット部分に投影するように構成され、調節システムは、調節流体を測定システムの測定ビームおよび／またはフィールドの経路の少なくとも一部に供給して、経路の一部を調節するように構成される。 （もっと読む）

【課題】異なるマスクレイヤに属するショット間の重ね合わせ精度を高速に計測することができ、高精度なショット重ね合わせを実現できるフォトマスク、重ね合わせ精度計測方法及び半導体装置の製造方法を提供する
【解決手段】矩形のショット１の四隅に、ショットを構成する隣接する２辺と平行な方向沿って伸びるラインパターンを備えた測定マーク領域１３、１４、１５、１６を配置する。また、当該ショット１が転写された下地層の上層には、ショットを構成する隣接する２辺と平行な方向沿って伸びるラインパターンを備えた測定マーク領域をショット１と同一の位置に具備するショットが転写される。各測定マーク領域のラインパターンは、各マーク領域が完全に重なる状態で基板上に転写されたときに、各ラインパターンが互いに重なることのない状態に配置されている。 （もっと読む）

【課題】平坦度が低いウェハを使用する場合の位置合わせ精度を向上させることができる半導体装置の製造方法を提供する。
【解決手段】ウェハ上に第１、第２のレジストパターンを形成し、両パターンの位置ずれから、補正成分をさらに補正するための誤差量を演算するＳ１。次に、ウェハ上のアライメントマークの位置ずれを測定して統計処理することにより、補正成分を取得するＳ４。そして、上述の誤差量を用いて、各補正成分の値を補正するＳ６。その後、補正後の補正成分を用いて位置合わせを行いつつ、レジスト膜に対する露光を行うＳ７。 （もっと読む）

【課題】対象物のずれ量から線形誤差成分を除去した非線形誤差の安定性を表わす指標に基づいて、最適な非線形補正条件を選定することで、複数の対象物を精密に位置合わせすることができる技術の実現。
【解決手段】複数の基板に対して予め決められた配列で形成される複数の対象物を予め決められた基準位置に位置合せする装置であって、前記複数の基板の夫々に形成された対象物の位置を計測する計測手段と、前記計測手段により計測された位置の設計上の位置からのずれ量を算出するずれ量算出手段と、前記ずれ量算出手段により算出されたずれ量から線形誤差成分を除去した非線形誤差に対して複数の補正条件を順次適用したときの非線形誤差の安定性を示す指標を算出する指標算出手段と、前記指標算出手段により算出された指標に基づいて、各基板に対する補正条件を選定する選定手段と、を具備する。 （もっと読む）

【課題】物体に形成されたマークの位置を短時間で特定することができる位置計測方法及び装置、当該方法を用いる露光方法、当該装置を備える露光装置及び測定検査装置、並びにプログラムを提供する。
【解決手段】計測対象のレチクルマークＲＭは、位置計測装置の視野よりも広い計測領域ＳＲ内に配置されている。この計測領域ＳＲ内を、撮像位置Ｐ１から撮像位置Ｐ１０まで順に所定間隔をあけながら位置計測装置の計測視野の大きさ毎の画像を撮像する。撮像位置Ｐ１〜Ｐ１０の間隔は、位置計測装置の計測視野の大きさとレチクルマークＲＭの形状及び大きさとの相対関係に基づいて設定される。上記の撮像結果を用いて計測領域ＳＲ内におけるレチクルマークＲＭの位置を特定した後にレチクルマークＲＭを位置計測装置の計測視野内に配置して位置情報を求める。 （もっと読む）

【課題】 スループット及びマークの計測精度を向上する。
【解決手段】 ステージ位置計測装置から出力される可動ステージの位置情報に基づいて、該可動ステージを位置決めしつつ、該可動ステージ上に載置される物体上に形成されたマークを検出装置により光電的に検出して光電検出信号を得るマーク位置計測装置であって、前記検出装置によって前記マークの光電検出を開始する第１タイミングＴ１とは相対的に異なる第２タイミングＬＩ１，ＬＩ２で、前記ステージ位置計測装置からの出力信号の取り込みを開始するとともに、それら各タイミングで開始した結果得られた両信号に基づいて前記マークの位置情報を求める。 （もっと読む）

【課題】 検出精度を高めることができるベストフォーカス検出方法を提供する。
【解決手段】 （ａ）レンズの光軸上に配置された観測対象物を前記レンズによって観測して得られた画像から、画像データを取得する。（ｂ）前記工程ａで取得された画像データを位置微分して、微分データを求める。（ｃ）前記工程ｂで求められた微分データを母集団とし、該母集団のばらつきの度合いを表すフォーカス評価指標を算出する。（ｄ）レンズと観測対象物との間の距離を変化させながら、工程ａから工程ｃを繰り返し、距離ごとにフォーカス評価指標を求める。（ｅ）工程ｄで求められた複数のフォーカス評価指標に基づいて、ベストフォーカス状態を検出する。 （もっと読む）

【課題】位置合わせ測定機構を提供すること。
【解決手段】位置合わせ機構は、広帯域光源と光学系と検出器に接続されたプロセッサを有する。検出器を有する。広帯域光源は、第１及び第２の波長範囲を有する放射ビームを発生する。光学系は、発生された放射ビームを受け取り、位置合わせビームを生成し、そのビームを対象物上に配置されたマークに向け、マークから戻ってきた位置合わせ放射を受け取り、その位置合わせ放射を送り出す。検出器は、その位置合わせ放射を受け取り、対象物上のマークの像を検出し、前記第１及び第２の波長範囲にそれぞれ関連付けられた第１及び第２の位置合わせ信号をそれぞれ生成する。プロセッサは、該位置合わせ信号を受け取り、信号品質表示パラメータを使用して該位置合わせ信号の第１及び第２の信号品質をそれぞれ決定し、その信号品質に基づいて位置合わせマークの位置を計算する。 （もっと読む）

【課題】 露光装置の転写精度を損なうことなく、複数の転写パターンの合わせズレの低減を可能とする露光装置補正システムを提供する。

【解決手段】 転写された第1検査パターンと第1検査パターンに位置合わせして転写された第2検査パターンの合わせズレを算出するズレ算出部320、合わせズレと第2検査パターンを含む座標系との関係を、複数のパラメータを用いて近似する近似部322、複数のパラメータを、第2検査パターンを転写した露光装置が制約する有効範囲内に丸める丸め部325、丸められた値を推定量として用いて、第1検査パターンと第2検査パターンの算出ズレを逆算する逆算部324、合わせズレから算出ズレを差し引く残差算出部327、推定量を保存する推定量記憶部206、及び推定量記憶部206に保存された推定量の総和に基づいて露光装置を補正し、合わせズレを低減させる制御装置151を備える。 （もっと読む）

【課題】 描画装置の傾き補正と空間変調素子の配列を考慮したフレームデータを作成し、空間変調素子に正確にデータを割り当てる。
【解決手段】画像をＮ重描画によって描画する描画装置であって、前記画像を必要に応じて回転処理等するアライメント処理手段と、アライメント処理された画像を元にフレームデータを作成する手段と、前記フレームデータを前記２次元空間変調素子へ割当てるデータ配置手段と、前記データ配置手段の割当てに従い、フレームデータの各画素を読み込んで描画する描画実施手段とを備え、前記フレームデータ作成手段は、描画装置の空間変調素子の配列及び解像度に従ってフレームデータの解像度及びＹせん断周期を決定して、Ｙせん断処理を実施するものであり、前記データ配置手段は、空間変調素子の１スワスごとにαライン分あけて、データを割り当てる。 （もっと読む）

【課題】区画領域の基準位置の位置座標を変数とする関数の変化度合いに基づいて区画領域の形状を推定する。
【解決手段】露光済みのウエハ上に形成された区画領域に、所定のパターンを重ね合わせ露光を行う場合に、ウエハに歪等に伴う位置ずれに関し、区画領域の基準位置の位置座標を変数とする位置ずれに関する補間関数４１３を決定する。そして、基準位置における補間関数の変化度合いに基づいて、区画領域の所定方向の倍率、所定軸に対する傾き４１５を演算する。 （もっと読む）

【課題】 簡素な構成や手順で、レチクルと感光基板との位置合わせを的確に行うことができ、導体パターンを感光基板の適切な位置に形成できる投影露光装置を提供する。
【解決手段】 露光光の照射によって光応答する光応答部材を用い、この光応答部材に露光光を照射してパターン基準マークの投影像を光応答部材に形成して、このパターン基準マークの投影像の位置と、感光基板の基準位置を示す基板基準マークの位置と、を検出し、感光基板にパターンを投影すべき位置に感光基板が載置された載置手段を位置づける。 （もっと読む）

【課題】 検出処理時間を短縮することで高スループットの露光装置を提供すること。
【解決手段】 所定の露光光で原版を照明する露光用照明光学系と、前記原版上パターンを基板上に投影する投影光学系と、原版あるいは基板の位置検出を行う位置検出手段を有する露光装置において、前記露光用照明光学系は、露光領域を可変できる開口絞りを有し、前記位置検出手段は個々に駆動機構を有する複数の検出系で構成され、前記開口絞り形状に応じた露光工程時の待機位置あるいは非計測時の待機位置を有する露光装置とする。 （もっと読む）

【課題】高精度のフォーカス計測とアライメント計測を行うことが可能な位置計測方法を提供すること。
【解決手段】回路パターンデータ等に基づいて、ＦＩＡセンサ３０の計測視野ＶＦ内にアライメントマークを位置させた状態（第１の位置関係）でスリット像ＳＩをウエハＷ上に投影させたとき、このスリット像ＳＩの投影位置にフォーカス計測に支障をきたす回路パターンが存在するか否かをチェックし、存在する場合には、第１の位置関係から、ＸＹステージ１７をＸＹ平面内で移動させて、所定方向に所定量ずれた位置関係である第２の位置関係にし、フォーカス計測に支障をきたす回路パターンが存在しないようにする。この状態でフォーカス計測を行い、合焦操作をし、この合焦状態を維持しつつウエハステージＷＳＴをＸＹ平面内で移動させてアライメントマークが計測視野ＶＦ内に位置する第１の位置関係に戻してＦＩＡ計測を行う。 （もっと読む）

【課題】 簡素な構成で露光装置のスループットを向上可能な位置計測方法及び位置計測装置を提供する。高集積度のデバイスを効率及び歩留まりよく製造可能な露光方法及び露光装置、デバイスの製造方法を提供する。
【解決手段】 複数のフォーカス位置で、各フォーカス位置毎にＲＡマークＲＭの中心線パターンＲＭｃの像を撮像して得られた複数のマーク信号に基づいて、ＲＡマークＲＭの位置を計測するのに最適なフォーカス状態を特定する。複数のマーク信号の中から、特定された最適なフォーカス状態下もしくはその近傍のフォーカス状態下に相当するマーク信号を抽出し、該抽出されたマーク信号に基づいてＲＡマークＲＭの位置計測を行う （もっと読む）

【課題】 小さなマスクを使用して広い露光領域を有する基板を、露光光を安定した状態で照射して効率的に露光でき、移動する基板の所定の露光領域に正確に露光する。
【解決手段】 基板搬送手段５によって一定方向に搬送されている状態の基板４に対して、露光ステーション（露光部）２でランプ（連続光源）９からの露光光を露光光学系３の光軸（光路）Ｓ上に設けたマスク１１の開口部１１ａを通して照射し、基板４上に開口部１１ａの像を転写する露光を行う際、基板４に予め形成されたピクセル（基準パターン）１８の側方エッジ（パターンエッジ）を、マスク１１に連動してその移動方向へ移動する撮像手段５で撮像して、基板４上の搬送方向イに直角な方向における基準位置を検出し、撮像手段５で撮像されたピクセル１８が撮像位置Ｆから露光位置Ｅに移動した時に、基板４上の基準位置にマスク１１の位置が一致するようにマスク１１を位置制御する。 （もっと読む）

【課題】オーバーレイバーニアの整列に関する情報と、リアルセル内のパターンの整列に関する情報と、が一致しない現象を防止することで、リアルセル内のパターンを正確に整列できるオーバーレイバーニアを提供する。また、前記オーバーレイバーニアを用いた半導体素子の製造方法を提供する。
【解決手段】リアルセル１１０内に配置されるパターン１１１と同一のレイアウトを有するオーバーレイバーニアパターン１２１を含んでオーバーレイバーニアを構成する。 （もっと読む）

低速の走査条件下での走査露光により形成されたマークの転写像と、複数の異なる高速の走査条件下での走査露光により形成されたマークの転写像とのＸ軸方向及びＹ軸方向の位置ずれ量を検出する（ステップ６０２〜ステップ６３０）。そして、検出された位置ずれ量からレチクル製造誤差を除去する（ステップ６３２）。さらに、レチクル製造誤差が除去された位置ずれ量に基づいて、ウエハステージあるいはレチクルステージの位置を計測する干渉計の計測値を補正する補正関数を作成する（ステップ６３４）。実際のプロセスにおいて、走査露光を行う際には、作成した補正関数により、計測値を補正し、補正された計測値に基づいてステージの制御を行いつつ、走査露光を行う。
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