【課題】 複数のショット群のそれぞれからサンプルショットを効率的に選択できるようにする。
【解決手段】 基板上の複数のショットから選択された複数のサンプルショットのそれぞれに関し計測を行い、該計測の結果に基づいて該複数のショットのそれぞれを露光する露光装置において、該サンプルショットのグループの数と該グループごとのサンプルショットの数とを設定（Ｓ８０１）するためのコンソール、を有し、該複数のショットから該グループ数分の代表サンプルショットを決定（Ｓ８０２〜Ｓ８０４）し、該代表サンプルショットごとに、該グループ毎のサンプルショット数より１つ少ない数のサンプルショットを決定（Ｓ８０５）する。 （もっと読む）

【課題】
ショットの配列精度を向上させる露光装置を提供する。
【解決手段】
マスク１を介して基板２を露光する露光装置であって、計測マークｍｐ１、ｍｐ２、ｍｐ３、ｍｐ４、ｍｐ５、ｍｐ６、ｍｐ７、ｍｐ８を有するマスク１を介して重畳領域を有する複数のショット領域をそれぞれ露光し、この露光により各重畳領域に形成された計測マーク対の間の位置ずれ量を計測し、各重畳領域に関して得られた該位置ずれのデータから、最小自乗法を用いて該複数のショット(ｉ，ｊ) 、(ｉ，ｊ＋１) 、(ｉ＋１，ｊ)、それぞれの配列誤差を求める。 （もっと読む）

【課題】光学部材を駆動することなく、被検面のパターン又は反射率の影響を低減させて、被検面の法線方向の位置情報を検出する。
【解決手段】レチクルＲの下面上にピンホールＡ１〜Ａ９の像Ｂ１〜Ｂ９を形成する送光光学系３０Ａと、その下面からの反射光を受光してピンホールの像Ｃ１〜Ｃ９を形成する受光光学系３０Ｂと、像Ｃ１〜Ｃ９をピンホールＤ１〜Ｄ９を通して検出する光電センサ４４と、レチクルＲを走査するステージと、レチクルＲの走査によって得られる光電センサ４４の検出信号に基づいて、レチクルＲの下面の一連の計測点のＺ方向の位置を求めるＲＡＦ制御系５２Ａとを備える。 （もっと読む）

【課題】基板の露光用の照明条件に起因する計測の精度の過剰な低下を抑える。
【解決手段】露光装置ＥＸは、露光の制御のための計測を原版ステージＲＳに配置された第１マークＲｍと基板ステージＷＳに配置された第２マークｗｍとを使って行なう計測システムＭと、ある照明条件で基板の露光を行なうために計測システムＭによって計測が行なわれる際に当該照明条件とは異なる照明条件を設定可能な制御部ＣＮＴとを備える。 （もっと読む）

【課題】基板の露光中に基板の線形伸縮等の位置合わせ情報が次第に変化するような場合にも、高い重ね合わせ精度を得る。
【解決手段】第１のウエハの露光前及び露光後にアライメントマークの座標を計測して、アライメントのパラメータの変動量Δｐｉを求める（ステップ２０１，２０４，２０５）。第２のウエハの露光前にアライメントマークの座標を計測してアライメントのパラメータｐｉを求め（ステップ２０７）、このパラメータｐｉを第１のウエハについて求めた変動量Δｐｉで補正して得たパラメータｐｉ’に基づいて（ステップ２０８）、その第２のウエハの位置合わせ及び露光を行う（ステップ２０９）。 （もっと読む）

【課題】イマージョン・リソグラフィ装置内で基板を正確にアライメントし、かつ／又は正確に平準化する方法及び装置を提供すること。
【解決手段】基板表面のマップを測定ステーションで生成する。次いで基板を、投影レンズと基板の間の空間が液体で充填される場所に移動する。次いで、基板を、たとえば透過イメージ・センサを用いてアライメントし、事前のマッピングを用いて基板を正確に露光できる。すなわち、マッピングは液体環境では行われない。 （もっと読む）

【課題】結像光学系の伝達特性を高精度に検出し、装置起因の誤差（ＴＩＳ）により劣化したアライメント検出信号を復元することで、位置決め精度を向上する技術の実現。
【解決手段】本発明の位置合わせ装置は、物体に形成されたマークを検出し、検出された前記マークの位置に基づいて前記物体を保持するステージを制御して当該物体を位置合わせする装置であって、入力信号としてＭ系列信号を形成するように構成された前記マークから、出力信号としての前記マークの像を形成する結像光学系と、前記結像光学系を介して前記マークの像を撮像して、前記出力信号としての前記マークの像を検出するマーク検出部と、前記出力信号から前記結像光学系の伝達特性を算出する伝達特性算出部と、前記伝達特性と前記出力信号とから前記結像光学系に入力される前記入力信号を復元する復元部と、前記復元部で復元された入力信号に基づいて前記マークの位置を検出し、前記ステージを制御して前記物体を位置決めする制御部と、を有する。 （もっと読む）

【課題】被露光体の位置決め誤差を低減させた露光装置を提供する。
【解決手段】本発明に係る露光装置１は、被露光体に転写される所定のパターン３１が形成されたレチクル３０と、レチクル３０を照明するための照明装置５０と、照明装置５０により照明されたレチクル３０のパターン３１を被露光体に投影する投影光学系５５とを備え、レチクル３０を回転可能に保持するレチクルステージ３５１と、レチクルステージ３５１を介して、投影光学系５５の光軸Ｏ１を中心にレチクル３０を回転可能に保持するレチクル回転テーブル３５とを設けた。 （もっと読む）

【課題】 リソグラフィ装置においてウェハ基板の熱誘導性変形を補正すること。
【解決手段】 事前指定の露光情報Ｐ２０４に従って基板の複数のフィールド上に１つのパターンを露光する段階Ｐ２０４と、フィールドの属性を測定し、露光処理の熱効果によって誘導されるフィールドの変形を評価する段階Ｐ２０６，Ｐ２０８とを含む。本方法はさらに、測定された属性に基づいて補正情報を決定する段階と、補正情報に基づいて事前指定の露光情報を調整し熱誘導性のフィールド変形を補償する段階Ｐ２１０とを含む。 （もっと読む）

【課題】被露光体の位置決め誤差を抑えつつ位置決め時間を短縮させることにより、露光装置のスループットを向上させる。
【解決手段】本発明に係る露光装置は、ステージに支持された複数の被露光体を、所定の露光領域に対応する露光位置に順次移動させながら、レチクルに形成された所定のパターンを被露光体に投影してステップアンドリピート露光を行う露光装置において、ステージに支持された被露光体を露光位置に移動させるようにステージの作動を制御する制御部を備え、制御部を、予め設定された露光位置に対する被露光体の位置決め精度に応じて、被露光体を露光位置に移動させる際の制御手順を変えるように構成している。 （もっと読む）

【課題】高い精度で基板の位置決めを行うことを可能としながら、位置合わせに掛かる時間を短縮する。
【解決手段】第１及び第２移動ステージ１２ａ，１２ｂは、それぞれ基板１0を積載し、ガイドレール１５に支持されて同一の一次元軌道上を往復移動する。この軌道上には、描画データに基づき、下方を通過する基板１１に対して順次に露光を行う露光部１１が設けられている。基板１０が載置された移動ステージ１２ａ，１２ｂがそれぞれ移動しながら補助的計測部３０ａ，３０ｂで補助的アライメント計測を行った後、基板１０を変位させて補助的アライメント補正を行い、さらに精密計測部３３ａ，３３ｂで精密アライメント計測を行った値に基づいて画像データの精密アライメント補正を行い、補正後の画像データで基板１０への露光を行う。 （もっと読む）

【課題】基板の位置合わせを精度良く行うことを可能とし、且つ装置の小型化を図る。
【解決手段】基板アライメント装置５１は、基板位置検出部３０ａと、移動ステージ１２ａと、移動ステージ駆動部５３ａと、ステージ位置検出部２７ａと、全体制御部５０とからなる。移動ステージ１２ａは、ベースユニット５６と、変位ユニット５７〜５９と、従動ユニット６１と、基板ホルダ６２とからなる。基板ホルダ６２は基板１０を保持する。基板位置検出部３０ａが検出した基板１０の位置に基づいて変位ユニット５７〜５９が基板ホルダ６２をX、Y、θ方向に変位して位置合わせをするときには、基板ホルダ６２がベースユニット５６から浮上し、位置合わせの後、基板ホルダ６２がベースユニット５６に吸着固定される。 （もっと読む）

【課題】 複数の照明領域の位置を検出することができる照明装置、露光装置、露光装置の調整方法、及びデバイスの製造方法を提供すること。
【解決手段】 露光装置１は、照明装置ＩＬと、マスクＭを支持するマスクステージ３と、照明視野絞り位置変更ユニット３０と、投影光学ユニット４０と、プレートＰを支持するプレートステージ４とを備える。照明装置ＩＬは、複数の照明光学系１１を有し、マスクＭのパターン面Ｍａ上に複数の照明領域を形成する照明光学ユニット１０と、パターン面Ｍａに形成される複数の照明領域の位置を検出する照明領域位置検出ユニット２０とを備える。各照明光学系１１は、パターン面Ｍａ上での照明領域を規定する照明視野絞り１５を有し、照明領域位置検出ユニット２０は、パターン面Ｍａに形成される照明視野絞り１５の像の位置を検出する。 （もっと読む）

【課題】装置の安定度を考慮した適正な時間間隔で照射位置の較正処理を行うことができ、装置の稼働率と描画品質とを両立させることができるパターン描画装置を提供する。
【解決手段】本実施形態のパターン描画装置１は、各光学ヘッドによるパルス光の照射位置を計測し、その照射位置のずれ量Ｐおよびずれ量の差分ΔＰに応じて較正処理の時間間隔Ｔｓを変更する。このため、光学ヘッドの安定度を考慮した適正な時間間隔Ｔｓで較正処理を行うことができ、装置の稼働率と描画品質とを両立させることができる。 （もっと読む）

【課題】 マーク信号からマークの位置を検出する精度を向上させる。
【解決手段】
本発明の装置は、マークを撮像して得られたマーク信号から前記マークの位置を検出する装置であって、マーク信号に対して処理ウインドウを設定する設定手段と、前記処理ウインドウ内の前記マーク信号の偶関数強度を算出する算出手段とを有する。さらに、前記設定手段により異なる複数の位置に設定された前記処理ウインドウに関し前記算出手段によりそれぞれ算出された複数の偶関数強度に基づいて、前記マークの位置を検出する検出手段を有する。 （もっと読む）

【課題】本発明の課題の一つは高精度な位置合わせを行うことにある。
【解決手段】リソグラフィ方法は、パターニングデバイスで放射ビームをパターニングすることを含む。パターニングデバイスは少なくとも２つのイメージパターニング部分および少なくとも２つのメトロロジーマークパターニング部分を含む。方法は、投影されたイメージ部分が基板上で相互に実質的に隣接し、集合的に基板上に複合イメージを形成するように、パターニングした放射ビームの少なくとも２つのイメージ部分を基板のターゲット部分に順次投影することを含む。方法は、少なくとも２つのイメージ部分のそれぞれを投影するのと同時に、複合イメージの区域の外側でメトロロジーマークを基板に投影し、少なくとも２つの図部分の相対的位置を求めるためにメトロロジーマークの位置合わせを測定することを含む。 （もっと読む）

【課題】 アライメントマークの計測の高速度化を図りつつ、マーク位置を高精度に計測できるようにする。
【解決手段】 ウエハＷを載置して移動するウエハステージＷＳと、ウエハステージＷＳ上に載置されたウエハＷに形成されたアライメントマークＡＭ１〜９を検出するアライメントセンサＡＳ１〜３と、アライメントマークＡＭ１〜９をアライメントセンサＡＳ１〜３で検出する際のウエハステージＷＳの移動方向であるＹ方向に沿って、ウエハステージＷＳ上に配列的に設けられた複数のステージマークＳＭ１Ｒ〜ＳＭ９Ｒ，ＳＭ１Ｌ〜ＳＭ９Ｌと、アライメントセンサＡＳ１〜３がウエハマークＡＭ１〜９を検出しているときに、ステージマークＳＭ１Ｒ〜ＳＭ９Ｒ，ＳＭ１Ｌ〜ＳＭ９Ｌを検出するステージマークセンサＳＳ１〜２と、これらセンサＡＳ１〜３，ＳＳ１〜２の検出結果に基づいて、アライメントマークＡＭ１〜９の位置を求める制御装置ＦＩＡＵとを備えて構成される。 （もっと読む）

【課題】埃等の不着の無い部分から基準パターンの抽出を行えるようにする。
【解決手段】実質的に同一の加工が施された複数の所定領域を有する物体上の該所定領域内に任意に設定される該所定領域よりも小さい面積を有する被計測領域内でユニークな信号特徴を有する基準パターンを抽出する基準パターン抽出方法である。前記複数の所定領域のうち任意に選択される第１所定領域内で、前記被計測領域の信号情報を計測する工程（Ｓ１２）と、この工程で計測された信号情報に基づいて、前記被計測領域内でユニークな信号特徴を有する候補パターンを抽出する工程（Ｓ１７）と、前記複数の所定領域のうちの前記第１所定領域とは異なる第２所定領域内で、前記被計測領域を計測する工程Ｓ２２と、この工程で計測された信号情報に基づいて、前記候補パターンに対応する比較パターンを抽出する工程Ｓ２３と、前記比較パターンに基づいて、前記候補パターンの前記基準パターンとしての適性を判断する工程Ｓ２５とを備えている。 （もっと読む）

【課題】半導体デバイス内の各層を他の全てあるいは任意の層と整合する。
【解決手段】本発明は半導体ウエハ上に半導体デバイスを形成する方法に関連し、その上に設けられた参照マークをそれぞれ有する複数のデバイスの層を形成し、整合される層上に設けられる各参照マークから１つ又はそれ以上の特性を有する混成参照マークを形成し、整合が成されるとき識別するため、参照マークを整合される層上又は各層上に設けられるマークの特性と比較し、２つ又はそれ以上の前記複数のデバイスの層と整合される次のデバイスの層を形成する工程を含む方法。 （もっと読む）

【課題】基板を効率良く多重露光できる露光装置を提供する。
【解決手段】露光装置ＥＸは、第１パターンＰＡ１からの第１露光光ＥＬ１を第１露光領域ＡＲ１に照射して第１露光領域に第１パターンの像を形成し、第２パターンＰＡ２からの第２露光光ＥＬ２を第２露光領域ＡＲ２に照射して第２露光領域に第２パターンの像を形成する光学システムＰＬと、光学システムの少なくとも一部を介して検出光を受光する受光装置３１を有する。第１パターンの像と第２パターンの像とで基板Ｐ上の所定領域を多重露光する動作の少なくとも一部と並行して、光学システムＰＬの少なくとも一部を介して第１パターンの像と基板との位置関係に関する情報、並びに第２パターンの像と基板との位置関係に関する情報を取得する検出システム３０とを備えている。基板を効率良く多重露光できる。 （もっと読む）