【目的】パターン面積密度計算と近接効果補正計算とを効率的に行なう荷電粒子ビーム描画装置を提供する。
【構成】描画する際のショット数が互いに略同一になるように描画領域を複数の第１のブロック領域に分割する分割部と、描画領域を、第１のブロック領域のいずれよりも小さい複数の第１の小領域と、第１の小領域よりも小さい複数の第２の小領域とを用いて、第１のブロック領域毎に、パターン面積密度を計算する面積密度計算部と、描画領域を改めて第１および第２の小領域の数が所定の閾値を超えないサイズで複数の第２のブロック領域に分割する分割部と、第２のブロック領域毎に、近接効果補正照射量を計算する補正照射量計算部と、荷電粒子ビームのビーム照射量を近接効果補正照射量を用いて計算するビーム照射量計算部と、試料に所定のパターンを描画する描画部と、を備えることを特徴とする荷電粒子ビーム描画装置。 （もっと読む）

【課題】複数の荷電粒子線に対して個別にブランキングを行う描画装置に有利な構成を提供する。
【解決手段】荷電粒子線描画装置は、同期クロックに同期してブランキング指令信号を送信するデータ送信部１０２と、ブランキング制御回路１０５と、を備える。データ送信部は、同期クロックに同期して、互いに識別可能な複数のデータを所定の順番で送信する。ブランキング制御回路は、複数のデータを受信して同期クロックの周期より短い周期を有する通信クロックに同期して順次読み出す受信部１３０と、同期クロックに同期して前記受信部から読み出された複数のデータのうちの１つのデータを検出する検出部と、検出部により検出された１つのデータと同期クロックの周期と通信クロックの周期とに基づいて、同期クロックに基づく所定の時点からブランキング制御部がブランキング指令信号を受信する時点までの遅延時間を判定する判定部１３１と、を含む。 （もっと読む）

【課題】帰還抵抗に対して予め当該帰還抵抗が設けられているＤＡＣアンプに対して設定される最大値の電圧を印加しその発熱状態を標準状態とすることで、出力電圧の変化が生じても電子ビームに対する影響を最小限に抑え高精度な描画処理を行うことができる荷電粒子ビーム描画装置及びＤＡＣアンプの安定化方法を提供する。
【解決手段】荷電粒子ビームＢを用いて移動可能なステージ上に載置される試料にパターンを描画する描画部２と、荷電粒子ビームＢの光路に沿って配置される偏向器に電圧を印加するＤＡＣアンプ３４，３５と、ＤＡＣアンプ３４，３５に対する制御を行うＤＡＣアンプ制御部３１ｊを備える制御計算機３１と、から構成される制御部３と、を備え、ＤＡＣアンプ制御部３１ｊは、ＤＡＣアンプ３４，３５に印加する電圧を当該ＤＡＣアンプ３４，３５に対して設定される最大値で継続して印加する。 （もっと読む）

【課題】 真空室内のデバイスに高速かつ大量に信号を伝送するにあたり、該デバイスへの熱の流入の少なさの点で有利な技術を提供する。
【解決手段】 複数の荷電粒子線で基板に描画を行う描画装置は、減圧室に配置され、前記複数の荷電粒子線をそれぞれブランキングするブランキング偏向器と、前記減圧室より気圧の高い外部室に配置され、前記ブランキング偏向器を制御するためのデバイスと、第１基板と、を備える。前記第１基板は、前記減圧室と前記外部室とを仕切る隔壁を構成し、かつ、該隔壁となる領域に形成された貫通孔に充填された電極を含む。前記デバイスは、前記電極を介して前記ブランキング偏向器と電気的に接続されている。 （もっと読む）

【課題】例えば、偏向器に与えられる電位の安定化に有利な描画装置を提供する。
【解決手段】描画装置は、偏向器を有し、該偏向器で偏向された荷電粒子線で基板に描画を行う。ここで、偏向器１９は、荷電粒子線を偏向する電界を生成する電極対を構成し、かつ、線を介して電位を与えられる電極ｄ（ｄ１〜ｄ４）と、電極ｄに一端が接続され、かつ、他端が接地されたコンデンサ５０とを含む。 （もっと読む）

【課題】高精度な帯電効果補正処理を実行しつつ、処理の所要時間を短縮する。
【解決手段】レジストが上面に塗布された試料Mに荷電粒子ビーム10a1bを照射することによりパターンを描画する荷電粒子ビーム描画装置10において、パターン面積密度分布算出部10b1b1と、ドーズ量分布算出部10b1b2と、照射量分布算出部10b1b3と、照射量分布とかぶり荷電粒子分布とのコンボリューション計算を実行するかぶり荷電粒子量分布算出部10b1b4と、荷電粒子ビーム10a2bの照射時刻を算出する照射時刻算出部10b1b5と、経過時間を算出する経過時間算出部10b1b6と、帯電量分布算出部10b1b7と、帯電量分布と位置ずれ応答関数とのコンボリューション計算を実行する位置ずれ量マップ算出部10b1b8と、中央演算処理部10b1b9と、算出部10b1b4,10b1b8における演算に用いられ、中央演算処理部10b1b9より高速の高速演算処理部10b1b10とを設けた。 （もっと読む）

【課題】あるデータ処理部によるデータ処理に要する時間と他のデータ処理部によるデータ処理に要する時間とを等しくする。
【解決手段】描画データDに含まれる図形に対応するパターンを荷電粒子ビーム10a1bによって試料M上の描画領域DAに描画する荷電粒子ビーム描画装置10において、データ処理部10b1e3aよりもデータ処理部10b1e1aのデータ処理速度が速い場合に、ブロック枠B05のデータDPB05よりもブロック枠B01のデータDPB01のデータ処理負荷が高くなるように描画領域DAを分割してブロック枠B01,・,B05,・を作成し、ブロック枠B01をデータ処理部10b1e1aに割り当て、ブロック枠B05をデータ処理部10b1e3aに割り当て、データDPB01をデータ処理部10b1e1aによってデータ処理し、データDPB05をデータ処理部10b1e1aによるデータ処理と並列にデータ処理部10b1e3aによってデータ処理する。 （もっと読む）

【目的】偏向器間のタイミング調整を短時間に行なう装置を提供する。
【構成】第ｎ番目のビームＯＮのタイミング信号から第１の遅延時間後に第ｎ−１番目のビームＯＮからＯＦＦに切り替わるＤＡＣアンプユニット１３２と、ＤＡＣアンプユニット１３２からの偏向電圧によって、ビームＯＮ／ＯＦＦを交互に生成するブランキング偏向器２１２と、ＤＡＣアンプユニット１３２がタイミング信号を発した時から第２の遅延時間後に第ｎ番目のビームＯＮに向けて電圧変化を開始するＤＡＣアンプユニット１３４と、ＤＡＣアンプユニット１３４からの偏向電圧によって、ビームの向きを制御する偏向器２０５と、第１の遅延時間の代わりとなる評価用時間と評価用時間で得られるビームで電流の積分電流との相関結果から得られる、積分電流が一定の状態からの変化開始時間よりも短くなるように第１の遅延時間を設定する設定部１１４と、を備えたことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】評価対象信号をサンプリングすることにより高精度にセトリングタイムを測定する。
【解決手段】制御装置１０１は、サンプリング回路１０３を前記評価対象信号１０７の周期に同期した所定の時点でサンプリングするとともに、予め設定したサンプリング回数に達した後またはホールドコンデンサの出力電圧の変動が所定値以下になった後は、前記サンプリング時点を予め設定した所定時間だけ遅延した時点に再設定し、この再設定した時点でサンプリングを再開するとともに、前記ホールドコンデンサの、前記予め設定したサンプリング回数に達した時点またはホールドコンデンサの出力電圧の変動が所定値以下になった時点における出力電圧の変化の履歴をもとにセトリングタイムを算出する。 （もっと読む）

【課題】従来より短時間でビームドリフトを検出することのできるドリフト測定方法、荷電粒子ビーム描画方法および荷電粒子ビーム描画装置を提供する。
【解決手段】検出器３２は、下地とは反射率の異なる材質からなる基準マークに電子ビーム５４が照射されて発生した反射電子を電流値として検出する。検出器３２からの信号は検出部３３で増幅され、Ａ／Ｄ変換部３４でデジタル変換される。次いで、制御計算機１９で平均化処理された後、描画データ補正部３１で行われるドリフト補正に用いられる。 （もっと読む）

【目的】電子銃及び高圧電源回路の異常を検知することが可能な装置を提供することを目的とする。
【構成】本発明の一態様の描画装置１００は、電子ビーム２００を放出する電子銃２０１と、電子銃２０１に電子の加速電圧を印加する高圧電源回路１１０と、高圧電源回路１１０内に配置され、電子銃２０１のエミッタ抵抗の変動を検知するエミッタ抵抗変動検知回路５４と、高圧電源回路１１０内に配置され、検知されたエミッタ抵抗の変動を記録する記録回路８０と、電子銃２０１から放出される電子ビーム２００を試料の所望する位置に照射する電子光学系と、を備えたことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】サーボ制御により生じる機械振動成分を除去することなく、レーザ干渉計の測定信号に含まれる非線形誤差成分を最大限除去することが可能な荷電粒子ビーム描画装置及び荷電粒子ビーム描画方法を提供する。
【解決手段】試料が載置されるステージの位置の測定にレーザ干渉計を用いる。レーザ干渉計の測定信号に含まれる非線形誤差成分を除去するフィルタ部のカットオフ周波数を、ステージ移動制御部による制御後のステージ位置を目標位置に近づけるサーボ制御が行われる周期Ｔｓの逆数（１／Ｔｓ）に設定する。 （もっと読む）

【課題】荷電粒子リソグラフィ装置と、真空チャンバー内の真空を生成する方法を提供する。
【解決手段】内部空間を取り囲む複数の壁パネル（５１０）を備えている真空チャンバー（４００）であり、壁パネルは、所定の配置で壁パネルを設置するための複数の接続部材（５０４，５２４，５２８）を使用してチャンバーに取り外し可能に取り付けられてチャンバーを形成する。真空チャンバーは、壁パネルの端に設けられた一つ以上のシール部材（５２２）をさらに備えている。壁パネルは、内部空間に真空を形成する結果として壁パネルの端に真空密接シールが形成されるように配置される。
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本発明は、少なくとも１つの荷電粒子ビーム（１２３）を発生させるための荷電粒子源（１０１）と、ビームをウェーハ上に投影するための荷電粒子投影器（１０８，１０９，１１０）と、ウェーハ（１３０）を移動させるための可動式のウェーハステージ（１３２）とを具備する荷電粒子リソグラフィ装置（１００）に関する。荷電粒子源、荷電粒子投影器及び可動式のウェーハステージは、真空環境を形成する共通の真空チャンバ（１４０，４００）中に配置されている。真空チャンバは、チャンバ及びドア（４０２）にウェーハをロードするための開口を有する。
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【課題】、実際に描画を行わずに、高精度にＤＡＣアンプのセトリング特性を評価することが可能なＤＡＣアンプの評価方法およびＤＡＣアンプの評価装置を提供する。
【解決手段】ＤＡＣアンプの評価装置は、パネル部１と、ネック部２と、これらを連結するファンネル部３とからなる外囲器４を備えており、ネック部１にはカソード５が設けられていて、カソード５からパネル部１の内表面に塗布された蛍光体６に向けて放出された電子ビーム９を、垂直偏向板７と水平偏向板８で偏向する。垂直偏向板７にはＤＡＣアンプ１１の出力電圧が印加される。また、オフセット偏向板１０に所定のオフセット電圧を印加することにより、観測したい電圧範囲の調整が行なわれる。 （もっと読む）

【目的】適切なソーキング時間を取得する描画装置を提供することを目的とする。
【構成】本発明の一態様の描画装置１００は、複数のマーク１０が形成された評価基板１０１を配置する描画室１０３と、描画室１０３内で、複数のマーク１０の位置を測定する測定アンプ２１４と、測定された複数のマークの位置を用いて、複数のマークの位置ずれ量を近似する近似式の係数を算出する係数算出部１１４と、前回算出された係数と今回算出された係数を用いて、評価基板１０１の寸法変動量が閾値未満かどうかを判定する判定部１１６と、を備え、評価基板１０１の寸法変動量が閾値未満になるまで、２回目以降の複数のマークの位置の測定について測定前に毎回待機時間を設けて、複数のマークの位置の測定と係数の算出と判定とを繰り返すことを特徴とする。本発明によれば、適切なソーキング時間を取得することができる。 （もっと読む）

【課題】所望の電流密度を得るために最適なフィラメント電力を求めることが可能な荷電粒子ビーム描画装置および荷電粒子ビーム描画方法を提供する。
【解決手段】本発明の荷電粒子ビーム発生装置は、フィラメント電力によりカソード11を加熱することにより放出される電子を、バイアス電圧により集束し、加速電圧により加速することにより所定のエミッション電流の荷電粒子ビーム２０を照射する荷電粒子銃１０と、電流密度を測定するための検出器２２と、フィラメント電力およびエミッション電流を制御するための制御部１８と、バイアス飽和点における電流密度とエミッション電流との関係とフィラメント電力とエミッション電流との関係を記憶し、設定電流密度よりエミッション電流値とフィラメント電力値を算出するための記憶演算部１９を備える。 （もっと読む）

【課題】ＤＡＣアンプユニットの動特性を診断することが可能な荷電粒子ビーム描画装置および荷電粒子ビーム描画装置におけるＤＡＣアンプユニットの診断方法を提供する。
【解決手段】荷電粒子ビーム描画装置の位置偏向制御回路２３０からＤＡＣアンプユニット２３２に回路診断用のデジタルデータを製品レチクルの描画速度と同等の速度で送信すると共に、メンテナンスメモリ２３１に記憶する。このデジタルデータに対応してＤＡＣアンプユニット２３２のデジタル部２３３から出力されるデジタルデータをメンテナンスメモリ２３８に記憶する。メンテナンスクロック発生器２３９によりクロック信号を発生させて、メンテナンスメモリ２３１、２３８に記憶されたデジタルデータを読み出す。読み出したデジタルデータをビット毎に比較することで、デジタル部２３３の診断を行う。 （もっと読む）

【課題】冷却効率が高く、小型化が図れ、電気的特性に優れたＤＡＣアンプを提供する。
【解決手段】ＤＡＣアンプ１は積層基板５を有する。第２の絶縁板３の上には電子部品７と外部導体パターン７１が設けられている。第１の絶縁板２の上には第３の絶縁板８があり、第３の絶縁板８の上には、電子部品９と外部導体パターン９１が設けられている。電子部品７と電子部品９はビア１１を介して、それぞれ電気的に接続している。ＤＡＣアンプ１は冷却板１３を有し、金属板４は、冷却ブロック１４を介して冷却板１３と接続している。電子部品７、９から発せられる熱は、第１の絶縁板２、第２の絶縁板３、第３の絶縁板８を介して金属板４に伝わり、さらに、金属板４から冷却ブロック１４を経て冷却板１３に伝わる。 （もっと読む）

【目的】ＳＥＭＩ規格に適合させながら遮断作業の効率化とコスト低減を図ることが可能な描画装置を提供することを目的とする。
【構成】本発明の一態様の描画装置１００は、個別のラック１２２，１２４，１２６にそれぞれ格納された複数の制御計算機ユニット１３２，１３４，１３６と、複数の制御計算機ユニット１３２，１３４，１３６にそれぞれ電源を供給する分電盤１１０と、複数の制御計算機ユニット１３２，１３４，１３６により制御され、電子ビーム２００を用いて試料１０１にパターンを描画する描画部１５０と、を備え、分電盤１１０の操作面に、複数の制御計算機ユニット１３２，１３４，１３６へ供給される電源を一度に遮断する緊急遮断スイッチ１０が配置されたことを特徴とする。本発明によれば、ＳＥＭＩ規格に適合させながら遮断作業の効率化とコスト低減を図ることができる。 （もっと読む）