【課題】チップサイズを増大することなく、キャパシタの容量を増やすことができる半導体集積回路を提供する。
【解決手段】半導体基板１０上にメインブロック１１と周辺ブロック１２とが混載された半導体集積回路において、半導体基板１０上のメインブロック１１に形成され、第１のトレンチキャパシタを有するメイン回路と、半導体基板１０上の周辺ブロック１２に形成され、第２のトレンチキャパシタを有するアナログ回路とを備える。 （もっと読む）

【課題】解析対象回路内に設けられた素子のそれぞれに対する基板ノイズの影響を解析することができるノイズ解析モデル及びノイズ解析方法を提供すること。
【解決手段】本発明の一態様にかかるノイズ解析モデル１００は、抵抗Ｒ_Ｓ１〜Ｒ_Ｓ４、抵抗Ｒ_ＧＢ１〜Ｒ_ＧＢ４及び接地抵抗Ｒ_ＧＮＤを有する。抵抗Ｒ_Ｓ１〜Ｒ_Ｓ４は、ノイズ発生源から半導体基板を介して基板ノイズが伝搬する接続点１と、バックゲート直下の半導体基板中の点ＢＧ１〜ＢＧ４の間にそれぞれ接続される。抵抗Ｒ_ＧＢ１〜Ｒ_ＧＢ４は、バックゲート直下の半導体基板中の点ＢＧ１〜ＢＧ４とガードバンド４との間に接続される。接地抵抗Ｒ_ＧＮＤは、ガードバンド４と接地電位との間に接続される。 （もっと読む）

【課題】セルベースの半導体集積回路において、異なるセル高さを有するセルを効率良く配置するための技術を提供する。
【解決手段】半導体集積回路が、基準ハイトセル３０、マルチハイトセル４０、ＶＤＤ電源配線、ＶＳＳ電源配線を備え、マルチハイトセルは、Ｙ軸方向に延伸するＶＤＤ側電源供給配線５Ｂ、ＶＳＳ側電源供給配線６Ｂを備え、基準ハイトセルの高さをａ、マルチハイトセルの高さをｂ、ＶＤＤ、ＶＳＳ電源配線の幅をｗとしたときに、ＶＳＳ側電源供給配線は、少なくとも、マルチハイトセルの下端からｗ／２高さ方向に離れた位置とマルチハイトセルの下端からｂ−ａ−ｗ／２高さ方向に離れた位置の間の高さ範囲をカバーするように設けられ、ＶＤＤ側電源供給配線は、少なくとも、マルチハイトセルの下端からａ＋ｗ／２高さ方向に離れた位置とマルチハイトセルの下端からｂ−ｗ／２高さ方向に離れた位置の間の高さ範囲をカバーするように設けられる。 （もっと読む）

【課題】ＩＲドロップの制約を満たしつつチップレイアウトを小型化できる半導体装置の設計方法、半導体装置の設計プログラム、半導体装置の設計装置を提供すること。
【解決手段】本発明の一態様である半導体装置の設計方法は、複数の電源用パッド及び信号用パッドを、半導体チップ上のチップコアの周囲に配置する。そして、複数の電源用パッド及び信号用パッドの数から決まるチップサイズＳ_ｐと、チップコアの大きさから決まるチップサイズＳ_ｃと、を比較する。その後、Ｓ_ｐ≧Ｓ_ｃであれば、ＩＲドロップが制約値を満たす限り、配置した複数の電源用パッドのうちの１又は２以上の電源用パッドを削除する。 （もっと読む）

【課題】高耐圧ＭＯＳＦＥＴのモデルにおいて、ドレイン電流の精度を広いバイアス範囲で得ることができ、シミュレーションの精度を向上させる。
【解決手段】ドレインが共通接続され、ゲートが共通接続され、バックゲートが共通接続され、ソース領域のソース拡散層の幅とウェルコンタクト拡散層の幅にそれぞれ対応した第１及び第２のチャネル幅を有する第１及び第２のＭＯＳＦＥＴ１、２と、第２のＭＯＳＦＥＴ２のソースに一端が接続された第１の可変抵抗素子３を備え、第２のＭＯＳＦＥＴ２のソースと第１の可変抵抗素子３の他端との接続点をソース端子Ｓとし、第１及び第２のＭＯＳＦＥＴの共通接続したドレイン、共通接続したゲート、共通接続したバックゲートをそれぞれドレイン端子Ｄ、ゲート端子Ｇ、バックゲート端子Ｂとするモデルを作成し、モデリング対象の高耐圧ＭＯＳＦＥＴの電気特性データに基づき、第１の可変抵抗素子３の抵抗値を調整する。 （もっと読む）

【課題】トランジスタの容量の各成分や配線容量を分離してパラメータを最適化することが可能な半導体装置、パラメータ最適化方法、及びプログラムを提供すること。
【解決手段】ＭＯＳトランジスタから構成されたプリミティブゲート回路１１ａを奇数段でリング状に結合した第１リングオシレータ部１１の各前記プリミティブゲート回路の出力部と電気的に接続された負荷部１２となる第１配線を有する配線負荷パターンと、第２リングオシレータ部の各プリミティブゲート回路の出力部が第２配線を介して負荷部となるＭＯＳトランジスタのゲートに電気的に接続された複数のゲート負荷パターンと、第３リングオシレータ部の各プリミティブゲート回路の出力部が第３配線を介して負荷部となる拡散層に電気的に接続された複数の拡散層負荷パターンと、を備え、複数のゲート負荷パターンは、パターンごとに容量負荷が異なり、複数の拡散層負荷パターンは、パターンごとに容量負荷が異なる。 （もっと読む）

【課題】「局所優先方向」配線モデルを使用してネットをルーティングするための機器を提供する。
【解決手段】本発明の一部の実施形態は、１つ又はそれよりも多くのＥＤＡツール（プレーシング、ルーティングなどのような）と共に使用される「局所優先方向（ＬＰＤ）」配線モデルを提供する。ＬＰＤ配線モデルは、少なくとも１つの配線層が、各々が特定の配線層とは異なる優先方向を有する一組の領域を有することを可能にするものである。更に、各領域は、その組における少なくとも１つの他の領域の局所優先方向とは異なる局所優先方向を有する。更に、少なくとも２つの領域は、２つの異なる多角形形状を有し、その組における領域は、その組における別の領域を取り囲むことはない。 （もっと読む）

【課題】 本発明の課題は、デカップリング容量効果を最適化した回路設計を行うことを目的とする。
【解決手段】 上記課題は、回路を構成する複数のセル間のネット毎の高電位電源側及び低電位電源側の配線容量と、各入力ピンの該高電位電源側及び該低電位電源側の容量とを記憶する記憶部と、前記記憶部に記憶された前記各ネットの配線容量と、前記各入力ピンの容量とを参照して、前記構成における非動作パスに対して、セルの置換前の該セルの組み合せと、セルを置換する際の制約に従った置換後のセルの組み合せのうち、該非動作パスの信号値の遷移状態に応じた、各ネット及び各入力ピンの前記高電位電源側又は前記低電位電源側の容量を加算した総容量に基づいて、該総容量が最大となるセルに置換することによって、デカップリング容量効果を最適化する最適化処理部と、を有する回路設計装置により達成される。 （もっと読む）

【課題】ＥＳＤ保護素子を有する半導体回路の回路シミュレーションを高速かつ精度よく行うことができるシミュレーション装置を提供する。
【解決手段】ＥＳＤ保護素子を有する半導体回路の動作検証を行うシミュレーション装置は、ＥＳＤ保護素子の等価回路のパラメータファイルを作成する第１のパラメータファイル作成部と、半導体回路内のＥＳＤ保護素子以外の内部回路のパラメータファイルを作成する第２のパラメータファイル作成部と、作成したパラメータファイルを記憶するパラメータファイル記憶部と、記憶したパラメータファイルを選択するパラメータファイル選択部と、選択したパラメータファイルを利用して半導体回路のネットリストを作成するネットリスト作成部と、ネットリストに基づいて半導体回路の動作検証を行うシミュレーション実行部とを備える。 （もっと読む）

【課題】チップサイズを縮小することができる、半導体集積回路の設計装置、及び半導体集積回路の設計方法を提供する
【解決手段】下位階層の機能ブロック４に配置された複数のセル間を接続する第一の配線を設計する下位階層配線設計部３１１と、上位階層の機能ブロック間を接続する第二の配線を設計する上位階層配線設計部３１２とを備えており、下位階層配線設計部３１１は、機能ブロック４を複数の小領域４ａに分割し、小領域４ａごとに機能ブロック４内配線に必要となる必要配線層数Ｌ_ｎを算出して、最下部の配線層から必要配線層数Ｌ_ｎ枚の配線層を配線可能領域として同領域内に第一の配線を配置し、上位階層配線設計部３１２は、第一の配線における配線可能領域以外の機能ブロック４の配線層に第二の配線を配置する。 （もっと読む）

【課題】レイアウトデータの検証を行うＬＶＳ処理やＤＲＣ処理と、ＯＰＣ処理には、プログラムの実装に重複（冗長）な処理が存在する。そこで、これらの処理を、統合することも考えられる。しかし、そのような統合を実際に行えば、プログラムの変更が大規模になり、半導体設計装置のコストを上昇させてしまう。そのため、既存のリソースを有効活用しつつ、ＯＰＣ処理の処理スピードを向上させた半導体設計装置が、望まれる。
【解決手段】半導体設計装置は、半導体集積回路のレイアウトデータの検証を行うレイアウトデータ検証部と、レイアウトデータ検証部が生成するＯＰＣ処理用中間データを用いて、ＯＰＣ処理を行うＯＰＣ処理部と、を備えている。 （もっと読む）

【課題】アナログ回路において最適な配線効率を実現するためのレイアウト設計を可能にする。
【解決手段】機能ブロックを構成する素子をその種類毎にグループ化する。機能ブロック内の素子の配置を各素子の接続関係に基づいて決定する。この時、グループを構成する素子の分割数を考慮してもよい。機能ブロックの配置順序を面積又は幅が大きい順に配置されるように決定する。また、配置順序はユーザの指定により調整できることが好ましい。配置順序と回路全体の接続情報とに基づいて各機能ブロックの配置位置を決定する。 （もっと読む）

【課題】効率的にＩＲ−Ｄｒｏｐを防止することが可能な配置配線装置を提供すること。
【解決手段】複数のセルを配置した後、セル間の隙間が所定の大きさよりも小さい場合にはセル間の隙間が所定の大きさ以上となるようにセルの配置を変更する（Ｓ１７）。そして、配置された複数のセルの間に容量セルを挿入し（Ｓ１５）、配置された複数のセルの配線を行なう（Ｓ１４，Ｓ１６）。したがって、効率的にＩＲ−Ｄｒｏｐを防止することが可能となる。 （もっと読む）

【課題】クロック到着時間の同時性を保証するクロック分配ネットワークの設計を容易にする。
【解決手段】クロック・ネットワークを構築する方法は、クロック・ネットワークについての設計仕様を受け取る段階を含む。本方法はさらに、前記設計仕様に基づいて前記クロック・ネットワークのトポロジーを決定する段階を含む。本方法はさらに、決定されたトポロジーに基づいて前記クロック・ネットワークについての設計パラメータを決定し、前記設計パラメータを含むクロック・ネットワーク合成ツール仕様ファイルを生成することを含む。本方法はまた、前記仕様ファイルを使って、前記クロック・ネットワークが前記決定されたトポロジーを含み、前記クロック・ネットワークがクロック発生器から前記クロック・ネットワークのエンドポイントまでクロック信号を同期的に分配するよう、前記クロック・ネットワークを合成することを含む。 （もっと読む）

【課題】 要求性能を満たすとともに、消費電力を削減することができる配線方法を提供すること。
【解決手段】 本発明の実施形態による集積回路の配線方法は、所定の動作周波数を満たすように第１の配線を求め、前記所定の動作周波数と前記第１の配線のクリティカルパスとを用いて最大迂回配線長を算出し、集積回路の配線を複数の群に分けた場合に、配線群に含まれる前記第１の配線を、前記第１の配線を含む他の配線群内の配線を用いて迂回させることで第２の配線を求め、前記第２の配線と前記第１の配線との差分が前記最大迂回配線長以下ならば、前記第２の配線によって前記第１の配線を更新し、前記第２の配線と前記第１の配線の差分が前記最大迂回配線長よりも大きければ、前記第１の配線を更新しないことを特徴としている。 （もっと読む）

【課題】電圧規格や電流規格を満たさない箇所があった場合に、その影響を反映させて検証を行うことができる回路動作の検証装置を提供する。
【解決手段】回路動作の検証装置は、結線情報４と、定格情報６とを用い、回路に入力する信号パターン７が与えられると、その入力パターン７に基づいて回路動作を検証する（Ｓ１〜Ｓ５）。そして、検証の結果、回路素子に印加される電圧や通電される電流等が定格値を超えることで破壊に至る回路素子が存在すると、当該回路素子を破壊の態様に応じた破壊状態モデルに置換し（Ｓ６）、破壊状態モデルに置換した回路について検証を継続する。 （もっと読む）

【課題】ミックスドシグナル回路の消費電流を短時間で見積もること。
【解決手段】消費電流算出装置１００は、対象回路へ入力されるデジタル信号の値１１３と、デジタル信号とともに対象回路へ入力されるアナログ信号の値１１２と、を取得する。消費電流算出装置１００は、デジタル信号の値１１３およびアナログ信号の代表値の組み合わせごとに組み合わせが入力された場合の対象回路の消費電流を示す消費電流テーブル１１４から、デジタル信号の値１１３が対象回路へ入力された場合のアナログ信号の各代表値と消費電流との対応情報１１５を抽出する。消費電流算出装置１００は、抽出した対応情報１１５に基づいて、アナログ信号の各代表値の間の値に対応する対象回路の消費電流を補間する補間関数１１６を生成し、生成した補間関数１１６に基づいて、アナログ信号の値１１２に対応する対象回路の消費電流１１７を算出する。 （もっと読む）

【課題】遅延時間計算プログラム、装置及び方法において、回路におけるネットの遅延時間を高精度に計算することを目的とする。
【解決手段】回路内のネットの遅延時間を計算する遅延時間計算処理は、ネットが第１の条件を満たす場合にネットの遅延時間を計算するための第１の遅延計算手順を選択する第１の手順と、第１の手順で第１の遅延計算手順が選択されない場合、第２の条件をネットが満たすか否かに応じて、第１の遅延計算手順及びネットの遅延時間を計算するための第２の遅延計算手順のいずれか一方を選択する第２の手順と、第１の手順或いは第２の手順のいずれかで選択された遅延計算手順によりネットの遅延時間を計算する第３の手順を含むように構成する。 （もっと読む）

【課題】チップごとに適正な電源電圧を設定する。
【解決手段】チップのレイアウトデータ２０からクリティカルパスのゲート遅延と配線遅延の遅延比を抽出する（ステップＳ１，Ｓ２）。チップのモニタ回路で実測されたゲート遅延及び配線遅延を、その遅延比に基づき合成して第１遅延値を生成し（ステップＳ３）、モニタ回路のシミュレーションで得られるゲート遅延及び配線遅延を、その遅延比に基づき合成して第２遅延値を生成する（ステップＳ４，Ｓ５）。このようにゲート遅延、配線遅延、クリティカルパスでの遅延比が考慮された第１遅延値及び第２遅延値に基づいて、チップに適用するチップ電源電圧を設定する（ステップＳ７）。 （もっと読む）