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Fターム[5F092BD03]の内容

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Fターム[5F092BD03]に分類される特許

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【課題】外部磁場がチャンネルに侵入することに起因するノイズやエラーを抑制することが可能なスピン伝導素子を提供すること。
【解決手段】スピン伝導素子1は、第一強磁性体12Aと、第二強磁性体12Bと、第一強磁性体12Aから第二強磁性体12Bまで延びるチャンネル7と、チャンネル7を覆う磁気シールドS1と、チャンネル7と磁気シールドS1との間に設けられた絶縁膜と、を備えることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】スピンMOSFETのソース/ドレイン領域におけるMTJの強磁性体に垂直磁化膜を用いても、隣接トランジスタへの漏れ磁界による影響を抑制し、シフト調整を可能にし、チャネル領域中のスピン緩和を抑制するスピンMOSFETを提供する。
【解決手段】下地層65の上に設けられた磁化の向きが膜面に垂直でかつ不変な第1強磁性層72と、第1強磁性層72上に設けられたチャネルとなる半導体層74と、半導体層74上に設けられた、磁化の向きが膜面に垂直でかつ可変な第2強磁性層78と、第2強磁性層78上に設けられたトンネルバリア80と、トンネルバリア80上に設けられた、磁化の向きが膜面に垂直かつ不変で第1強磁性層72の磁化の向きと反平行な磁化の向きを有する第3強磁性層82と、半導体層74の側面に設けられたゲート絶縁膜90aと、半導体層74と反対側に位置するように設けられたゲート電極76と、を備えている。 (もっと読む)


【解決課題】ナノ構造体を有する磁気及び電気エネルギーの相互変換素子を提供する。
【解決手段】ナノ構造体30を、第1の硬質磁性層34と第1の軟質磁性層35と第2の硬質磁性層36と第2の軟質磁性層37と第3の硬質磁性層38とを積層して構成する。第1及び第2の電極40,41と、中央電極42と、ナノ構造体の第1電極と中央電極との間に磁壁を保持できる第1の磁壁保持部と、ナノ構造体の第2電極と中央電極との間に磁壁を保持できる第2の磁壁保持部と、を備える。第1の硬質磁性層に第1電極を接続し、第3の硬質磁性層に第2電極を接続し、第2の硬質磁性層に中央電極を接続し、第1及び第2の軟質磁性層は磁壁を保持する磁壁保持部とする。第1及び第2の磁壁保持部の磁気エネルギーはナノ構造体の両端部側の磁気エネルギーよりも小さく、第1の磁壁保持部の磁気エネルギーは第2の磁壁保持部の磁気エネルギーよりも大きくする。 (もっと読む)


【課題】単方向電流で書き込みをすることを可能にするとともに回路面積が増大するのを防止することを可能にする。
【解決手段】第1強磁性層21、第1非磁性層23、第2強磁性層25、第2非磁性層27、および第3強磁性層29がこの順序または逆の順序で積層された積層構造を有し第3強磁性層と第2強磁性層とが第2非磁性層を介して反強磁性的な交換結合をする強磁性積層膜20を含むメモリセル10を備え、第1強磁性層から第3強磁性層に向かう単一方向の電流を強磁性積層膜に流して、電流の大きさに応じて第1強磁性層に異なる磁化状態の書き込みを行うとともに第1強磁性層からの読み出しを行なう。 (もっと読む)


【課題】 小さな駆動電流で効率よく高周波磁界を発生させることができる磁気記録ヘッド及び磁気記録再生装置を提供することを目的とする。
【解決手段】 第1の強磁性層10bと、第2の強磁性層30と、第1の強磁性層10bと第2の強磁性層30との間に設けられた中間層22と、第1の強磁性層10bの中間層22が設けられた側とは反対側に設けられたCoIr合金を含む第3の強磁性層10aと、第3の強磁性層10aの第1の強磁性層10bが設けられた側とは反対の側に設けられた主磁極61(第1の磁極)と、第2の強磁性層30の中間層22が設けられた側とは反対の側に設けられたリータンパス62(第2の磁極)とを備えることを特徴とする磁気記録ヘッド110。 (もっと読む)


【課題】 マルチチャネル型にも適用可能なスピン伝導素子を提供することを目的とする。
【解決手段】
このスピン伝導素子は、半導体基板1の半導体領域に設けられたピンド層を有するスピン流源Aと、半導体領域に設けられたフリー層を有するスピン流吸収電極Bと、半導体領域に設けられ、スピン流吸収電極Bとの間の電圧を測定するための検出用電極PB1と、半導体領域におけるスピン流源Aとスピン流吸収電極Bとの間に位置し、スピン流源Aに対して正の電位が印加される非磁性体を含むバイアス印加電極Cとを備えている。 (もっと読む)


【課題】微小領域からの磁束が検出可能であり、かつ素子抵抗の増大を抑制可能な磁気センサーを提供すること。
【解決手段】磁気センサーは、第一強磁性体12Aと、第二強磁性体12Bと、第一強磁性体12Aから第二強磁性体12Bまで延びるチャンネル7と、チャンネル7を覆う磁気シールドS2と、チャンネル7と磁気シールドS2との間に設けられた絶縁膜7bと、を備え、磁気シールドS2は、チャンネル7に向かって延びる貫通穴Hを有することを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】微小領域からの磁束が検出可能であり、かつ素子抵抗の増大を抑制可能な磁気センサーを提供すること。
【解決手段】磁気センサー1は、チャンネル7と、チャンネル7上の強磁性体12、第一参照電極20A及び第二参照電極20Bと、チャンネル7における強磁性体12と対向する部分を覆う磁気シールドS1と、チャンネル7と磁気シールドS1の間に設けられた絶縁膜7aと、を備え、磁気シールドS1は、チャンネル7における強磁性体12と対向する部分に向かって延びる貫通穴Hを有することを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】 電流−スピン流変換効率が高く、高強度のスピン流が得られるスピントロニクス装置を提供する。
【解決手段】 対向する第1端面及び第2端面を有し、正孔と電子とが同程度のキャリア密度と移動度を有し、ホール係数がゼロである非磁性の両極性伝導金属からなるスピン流生成領域30と、第1端面に設けられ、スピン偏極された正孔をスピン流生成領域30に注入する強磁性体からなる第1主電極20と、第2端面に設けられ、電子をスピン流生成領域30に注入する第2主電極40とを備える。ローレンツ力により、正孔と電子とを同一方向に輸送されるようにして、正孔と電子の電荷を互いに相殺してスピン流を得る。 (もっと読む)


【課題】大規模な装置を用いることなく、電流として流れない状態にスピン偏極キャリアが生成できるようにする。
【解決手段】半導体チャネル領域101と、半導体チャネル領域101にキャリアを生成させるキャリア生成部102と、半導体チャネル領域101に磁場強度が変化している磁場勾配を形成する磁場勾配印加部103とを備える。キャリア生成部102は、例えば、半導体チャネル領域101に導入した不純物である。半導体チャネル領域101の端部に、スピンの方向が確率的に一方に偏っている状態であるスピン偏極したキャリア(スピン偏極キャリア)を生成させることができる。 (もっと読む)


【課題】
半導体上に強磁性体が形成された不揮発性光メモリ素子において、光により該強磁性体の磁化を読み出す場合に、該強磁性体の容積サイズが小さくなると磁気光学的応答が非常に小さくなるという問題があったので、不揮発性光メモリ素子の読み出しに有効なメモリ素子とメモリデバイス及び読み出し方法を提供する。
【解決手段】
光導波路に接続される半導体上に強磁性体が形成された構造の不揮発性光メモリ素子において、該強磁性体を経由して半導体に電子を注入することで、該強磁性体の磁化方向に応じてスピン偏極した電子が注入され、光磁気効果の効果的な領域を拡大することができる。該不揮発性光メモリ素子に電気パルスと光パルスを印加することにより、強磁性体に磁化方向により記録されているデータを効果的に読み出す。 (もっと読む)


【課題】強磁性半導体膜への効率的なスピン注入を可能とすること。
【解決手段】本発明は、InAsを含む強磁性半導体膜と、強磁性金属膜と、前記強磁性半導体膜と前記強磁性金属膜との間に設けられた絶縁膜と、を具備するトンネル磁気抵抗素子およびスピントランジスタである。本発明によれば、InAsを含む強磁性半導体膜を用いることにより、強磁性金属膜に印加される電圧が小さくとも強磁性半導体膜にキャリアをスピン注入することができる。よって、強磁性金属膜から強磁性半導体膜への効率的なスピン注入が可能となる。 (もっと読む)


【課題】本発明は、出力を十分に高めることができかつ微小領域からの磁束を感度よく検出可能な磁気センサを提供する。
【解決手段】磁気センサ200は、グラフェン層7と、グラフェン層7上に配置された磁化固定層12Bと、グラフェン層7上に配置された磁化自由層12Cと、グラフェン層7に電気的に接続された第一電極20A及び第二電極20Dと、グラフェン層7、磁化固定層12B、及び、磁化自由層12Cを積層方向の両側から挟む下部磁気シールド層22及び上部磁気シールド層11,12と、を備える。 (もっと読む)


【課題】ノイズを抑制可能なスピン伝導素子を提供する。
【解決手段】チャンネル7、第1絶縁層81、磁化固定層12B、第2絶縁層82、磁化自由層12C、第1配線18、及び、第2配線19を備え、以下の要件A及び要件Bの少なくとも1つを満たすスピン伝導素子100である。
要件A:第1配線18が、磁化固定層12B上に磁化固定層12Bの厚み方向に延びる縦部18bと、縦部18bにおける磁化固定層12B側から離れた部分から、磁化固定層12Bの厚み方向と交差する方向に延びる横部18aと、を有する。
要件B:第2配線19が、磁化自由層12C上に磁化自由層12Cの厚み方向に延びる縦部19bと、縦部19bにおける磁化自由層12C側から離れた部分から、磁化自由層12Cの厚み方向と交差する方向に延びる横部19aと、を有する。 (もっと読む)


【課題】スピンの散乱を抑制しつつ、良好なスピン伝導性及び電気抵抗特性を実現可能なスピン伝導素子を提供すること。
【解決手段】スピン伝導素子100Aは、半導体材料からなるチャンネル7と、チャンネル7上に第1絶縁層81を介して配置された磁化固定層12Bと、チャンネル7上に第2絶縁層82を介して配置された磁化自由層12Cと、チャンネル7上に配置された第1電極20A及び第2電極20Dと、を備え、チャンネル7のうちの第1絶縁層81との接触面を含む第1領域71、第2絶縁層82との接触面を含む第2領域72、第1電極20Aとの対向面を含む第3領域74、及び第2電極20Dとの対向面を含む第4領域75のキャリア濃度は、チャンネル7全体の平均のキャリア濃度よりも高いことを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】出力電圧を増加可能な半導体スピンデバイスを提供する。
【解決手段】半導体層10の第1領域上に設けられた第1ピンド層1Bと、半導体層の第2領域上に設けられた第2ピンド層2Bと、半導体層の第3領域上に設けられたフリー層3Bと、半導体層の第4領域上に設けられた電極層4とを備えたスピンデバイスあって、第1ピンド層1Bと第2ピンド層2Bの磁化の向きは互いに逆向きであり、半導体層10と第1及び第2ピンド層1B,2Bとの間には、それぞれ第1及び第2トンネル障壁1A,2Aが介在し、第1ピンド層1Bは、前記第2ピンド層2Bよりもフリー層3Bから遠く、第1ピンド層1Bから半導体層10に向けて電子を注入し、第1ピンド層1Bと第2ピンド層2Bとの間の半導体層内に電子を流すための電極を第1ピンド層1Bと第2ピンド層2Bにそれぞれ電気的に接続し、電極層4とフリー層3Bとの間の電圧を測定する。 (もっと読む)


【課題】チャンネル層に電荷が必要以上に蓄積することを抑制し、素子破壊を抑制可能なスピン伝導素子を提供すること。
【解決手段】スピン伝導素子100は、所定方向に延び、半導体材料からなるチャンネル7と、チャンネル7上に第1絶縁層81を介して配置された磁化固定層12Bと、チャンネル7上に第2絶縁層82を介して配置された磁化自由層12Cと、チャンネル7上に配置された第1電極20A及び第2電極20Dと、を備え、第1電極20A、磁化固定層12B、磁化自由層12C、及び第2電極20Dは、チャンネル7上に所定方向に沿ってこの順に配置され、チャンネル7は、所定方向において、第1電極20A及び第2電極20Dの少なくとも一方よりも外側にまで延在していることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】 磁性体に対し、小さい電流密度のパルス電流を印加することで、発熱を抑えつつ確実に磁化反転を引き起こすことができる磁化状態制御方法を提供する。
【解決手段】 形状磁気異方性が生じている線状磁性体の長手方向に垂直な方向の成分の磁気異方性を与えて線状磁性体内部の異方性状態を変質させ、次いで、異方性状態が変質された線状磁性体の長手方向に沿って記憶させようとする正逆いずれかの向きの磁場を印加するとともにパルス電流を印加して磁化状態を制御する。 (もっと読む)


【課題】スピン蓄積磁気センサのための三端子設計を提供する。
【解決手段】自由層をエアベアリング面に設けることを可能にする三端子設計を有するスピン蓄積センサ。(ABSに設けられた)自由層構造から、ABSから離された基準層構造にかけて、非磁性の伝導性スピン輸送層が広がる。センサは、基準層構造に電流を印加するための電流源または電圧源を含む。電流源または電圧源は、非磁性のスピン輸送層に、かつ電気的接地にも接続されたリードを有する。信号電圧を測定するための回路は、自由層構造に電気的に接続されたシールドと、接地との間の電圧を測定する。自由層構造は、電圧源へのリードに到達する前に全てのスピン電流が完全に散失されることを保証することによって、電圧源へのスピン電流の分流を阻止する、スピン拡散層を含むことができる。 (もっと読む)


【課題】カーボンナノチューブを有する磁気ナノトランジスタの製造方法及び製造工程を開示する。即ち、前記ナノチューブを、少なくとも1個の磁性粒子に取り付け、続いて2個の固定磁化電極の間に挟んで設置し、外部磁場をかける。前記外部磁場を用いて、前記ナノチューブを流れる電流を制御することができる。 (もっと読む)


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