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Fターム[5F110HJ13]の内容

薄膜トランジスタ (412,022) | ソース、ドレイン−不純物領域 (11,069) | 不純物領域の製法 (6,364) | 不純物の導入方法 (4,201) | イオン注入 (2,973)

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【課題】作製コストが低減され、かつ歩留まりが向上された半導体装置、および消費電力が低減された半導体装置を提供することである。
【解決手段】第1のトランジスタおよび第2のトランジスタと、第1のトランジスタ群および第2のトランジスタ群を具備し、第1のトランジスタ群は、第3のトランジスタ、第4のトランジスタおよび4の端子を有しており、第2のトランジスタ群は、第5乃至第8のトランジスタおよび4の端子を有しており、第1のトランジスタ、第3のトランジスタ、第6のトランジスタ、第8のトランジスタはnチャネル型トランジスタが用いられ、第2のトランジスタ、第4のトランジスタ、第5のトランジスタ、第7のトランジスタはpチャネル型トランジスタが用いられる半導体装置である。 (もっと読む)


【課題】高速動作が可能であり、且つ消費電力を低減することが可能な半導体装置を提供する。
【解決手段】レベルシフタ、第1のバッファ、及び第2のバッファと、第1のスイッチ及び第2のスイッチと、第1の端子、第1の端子から入力される信号の反転信号が入力される第2の端子、及び第1のスイッチ及び第2のスイッチの状態を制御するクロック信号が入力される第3の端子と、を備えるラッチ回路を有する。レベルシフタの第1の出力端子は、第1のスイッチを介して、第1のバッファ及び第2のバッファそれぞれの一の入力端子と接続し、レベルシフタの第2の出力端子は、第2のスイッチを介して、第1のバッファ及び第2のバッファそれぞれの他の入力端子と接続する。レベルシフタの第1の入力端子は、第1のバッファの出力端子と接続し、レベルシフタの第2の入力端子は、第2のバッファの出力端子と接続する。 (もっと読む)


【課題】電源が遮断されてもデータが保持される新規な論理回路を提供する。また、消費電力を低減できる新規な論理回路を提供する。
【解決手段】2つの出力ノードを比較する比較器と、電荷保持部と、出力ノード電位確定部とを電気的に接続することにより、論理回路を構成する。それにより、電源が遮断されてもデータが保持される論理回路を得ることができる。また、論理回路を構成するトランジスタの総個数を低減させることができる。更に、酸化物半導体を用いたトランジスタとシリコンを用いたトランジスタを積層させることで、論理回路の面積の削減が可能になる。 (もっと読む)


【課題】TFTの特性が十分に安定した半導体装置を提供する。
【解決手段】絶縁性基板1上に下地層2を形成し、その上に局所的に半導体層3を形成する。次に、この半導体層3を覆うようにゲート絶縁膜4を形成し、ゲート絶縁膜4上の一部にゲート電極5を形成する。次に、ゲート絶縁膜4越しに半導体層3に不純物を注入して、ソース領域6、ドレイン領域7及びLDD領域8を形成する。そして、ゲート絶縁膜4を、希フッ酸により洗浄してエッチングする。次に、ゲート電極5を覆うように電極保護絶縁膜9を形成し、この電極保護絶縁膜9の表層部の全面を希フッ酸により洗浄してエッチング除去する。これにより、ゲート絶縁膜4及び電極保護絶縁膜9内に導入されたキャリアトラップを除去する。 (もっと読む)


【課題】記憶装置の消費電力を低減すること、記憶装置の面積を低減すること、記憶装置を構成するトランジスタの数を低減する。
【解決手段】第1の出力信号及び第2の出力信号の電位を比較する比較器と、第1の酸化物半導体トランジスタ及び第1のシリコントランジスタを有する第1のメモリ部と、第2の酸化物半導体トランジスタ及び第2のシリコントランジスタを有する第2のメモリ部と、当該第1の出力信号及び当該第2の出力信号の電位を確定する出力電位確定器とを有し、当該第1の酸化物半導体トランジスタのソース又はドレインの一方は、当該第1のシリコントランジスタのゲートに電気的に接続されており、当該第2の酸化物半導体トランジスタのソース又はドレインの一方は、当該第2のシリコントランジスタのゲートに電気的に接続されている記憶装置に関する。 (もっと読む)


【課題】高速動作、低消費電力である半導体装置の提供。
【解決手段】結晶性のシリコンをチャネル形成領域に有する第1のトランジスタを用いた記憶素子と、当該記憶素子のデータを記憶する容量素子と、当該容量素子における電荷の供給、保持、放出を制御するためのスイッチング素子である第2のトランジスタとを有する。第2のトランジスタは第1のトランジスタを覆う絶縁膜上に位置する。第1及び第2のトランジスタは、ソース電極又はドレイン電極を共有している。上記絶縁膜は、加熱により一部の酸素が脱離する第1の酸化絶縁膜と、酸素の拡散を防ぎ、なおかつ当該第1の酸化絶縁膜の周囲に設けられた第2の酸化絶縁膜とを有し、第2のトランジスタが有する酸化物半導体膜は、上記第1の酸化絶縁膜に接し、かつチャネル形成領域である第1の領域と、第1の領域を挟み、第1及び第2の酸化絶縁膜に接する一対の第2の領域とを有する半導体装置。 (もっと読む)


【課題】電源電位の供給が遮断されたときでもデータの保持が可能で、且つ、低消費電力化が可能なプログラマブルなアナログデバイスを提供する。
【解決手段】アナログ素子を含むユニットセルを複数並列に接続されたプログラマブル回路とし、ユニットセル毎に導通または非導通の切り替えを行う。また、当該ユニットセルのスイッチとして、オフ電流を十分に小さくすることができる第1のトランジスタと、ゲート電極が第1のトランジスタのソース電極又はドレイン電極と電気的に接続された第2のトランジスタと、を含む構成とし、当該第2のトランジスタのゲート電位によってユニットセルの導通または非導通を制御する。 (もっと読む)


【課題】InやZnなどを含む酸化物半導体をチャネル領域に用いたトランジスタを、P型トランジスタのように駆動できる半導体装置を提供する。
【解決手段】トランジスタとインバータを有し、インバータの出力はトランジスタのゲートに入力され、トランジスタのチャネル領域はIn、Zn若しくはSnを含む酸化物半導体膜を有し、インバータを構成するトランジスタのチャネル領域はシリコンを有し、インバータにハイ電圧を入力すると、インバータからロー電圧が出力されるとともにトランジスタのゲートにロー電圧が入力されてトランジスタはオフし、インバータにロー電圧を入力すると、インバータからハイ電圧が出力されるとともにトランジスタのゲートにハイ電圧が入力されてトランジスタはオンする半導体装置によって解決する。 (もっと読む)


【課題】消費電力を抑えることができる信号処理回路を提供する。
【解決手段】記憶素子に電源電圧が供給されない間は、揮発性のメモリに相当する第1の記憶回路に記憶されていたデータを、第2の記憶回路に設けられた第1の容量素子によって保持する。酸化物半導体層にチャネルが形成されるトランジスタを用いることによって、第1の容量素子に保持された信号は長期間にわたり保たれる。こうして、記憶素子は電源電圧の供給が停止した間も記憶内容(データ)を保持することが可能である。また、第1の容量素子によって保持された信号を、第2のトランジスタの状態(オン状態、またはオフ状態)に変換して、第2の記憶回路から読み出すため、元の信号を正確に読み出すことが可能である。 (もっと読む)


【課題】スタンバイ状態からの復帰後、電圧制御発振器に入力される電圧信号が短時間で一定となる、消費電力の低減された位相同期回路を提供することを課題とする。
【解決手段】電圧制御発振器の入力端子とループフィルタを構成する容量素子の間に、酸化物半導体材料を用いて半導体層を形成したトランジスタを設け、通常動作状態の時には当該トランジスタをオン状態に、スタンバイ状態の時には当該トランジスタをオフ状態とする。 (もっと読む)


【課題】チャネル形成領域に対しトランジスタの電流駆動能力を向上させる方向に応力をかけ、さらに電流駆動能力が向上し、性能が向上された半導体装置を提供する。
【解決手段】半導体基板(1a,1b)の活性領域(1c,1d)が素子分離絶縁膜(2,6a)で区画され、チャネル形成領域、ゲート絶縁膜、ゲート電極(8a,8b)、ソース・ドレイン領域及び被覆応力膜を有するNTrとPTrを有し、活性領域におけるゲート長方向が<100>方向であり、素子分離絶縁膜としてNTrにおけるソース・ドレイン領域の両端部に第1の引張応力膜6aが形成され、ソース・ドレイン領域の両端部以外に第1の圧縮応力膜2が形成され、PTrの素子分離絶縁膜は第1の圧縮応力膜2が形成され、被覆応力膜としてNTrに第2の引張応力膜が形成され、PTrに第2の圧縮応力膜が形成されている構成とする。 (もっと読む)


【課題】電源電圧の供給を停止しても、論理回路部間の接続関係、又は各論理回路部内の回路構成を維持できる半導体装置を提供する。また、論理回路部間の接続関係の変更、又は各論理回路部内の回路構成の変更を高速で行うことができる半導体装置を提供する。
【解決手段】再構成可能な回路において、回路構成や接続関係等のデータを記憶する半導体素子に酸化物半導体を用いる。特に、半導体素子のチャネル形成領域に、酸化物半導体が用いられている。 (もっと読む)


【課題】新たなロジックインメモリ構造を提供する。また、より消費電力の低い信号処理回路を提供する。また、より消費電力の低い電子機器を提供する。
【解決手段】オフ電流の低いトランジスタを用いて記憶素子を構成することで、記憶機能と演算機能を組み合わせた回路を提供する。オフ電流の低いトランジスタを用いることで、オフ電流の低いトランジスタのソースまたはドレインの一方と、他のトランジスタのゲートとの間などに電荷を保持することができる。そのため、オフ電流の低いトランジスタのソース又はドレインの一方と、他のトランジスタのゲートと、の間のノード等を記憶素子として用いることができる。また、加算器の動作に伴うリーク電流を著しく低減することができる。これにより、消費電力の低い信号処理回路を構築することが可能である。 (もっと読む)


【課題】高性能なIII−V族MISFETの実現を可能にする、より効果的なIII−V族化合物半導体表面のパッシベーション技術を提供する。
【解決手段】エピタキシャル成長により化合物半導体層をベース基板上に形成するステップと、前記化合物半導体層の表面をセレン化合物を含む洗浄液で洗浄するステップと、前記化合物半導体層の上に絶縁層を形成するステップと、を有する半導体基板の製造方法を提供する。前記セレン化合物として、セレン酸化物が挙げられる。前記セレン酸化物として、HSeOが挙げられる。前記洗浄液が、水、アンモニアおよびエタノールからなる群から選択された1以上の物質をさらに含んでもよい。前記化合物半導体層の表面がInGa1−xAs(0≦x≦1)からなる場合、前記絶縁層がAlからなるものであることが好ましく、Alは、ALD法により形成されることが好ましい。 (もっと読む)


【課題】トランジスタ特性のバラツキが低減された半導体装置を提供する。
【解決手段】SOI基板101は、P型半導体層102の上にN型半導体層104が形成された半導体基板12、その上に形成されたBOX層106、及びBOX層上に形成されたSOI層108を有する。第1素子分離絶縁層110bは、SOI基板101に埋め込まれ、下端16がP型半導体層102に達し、第1素子領域(NFET領域30)と第2素子領域(PFET領域40)とを分離する。P型トランジスタ130bは、第1素子領域40に位置し、チャネル領域120bを有し、N型トランジスタ130aは、NFET領域30に位置し、チャネル領域120aを有する。第1バックゲートコンタクト134bは、第1素子領域40に位置する第2導電型層層104に、第2バックゲートコンタクト134aは、第2素子領域30に位置する第2導電型層104に接続される。 (もっと読む)


【課題】消費電力を抑えることができる信号処理装置を提供する。
【解決手段】信号処理装置が有する記憶回路に、酸化物半導体にチャネルが形成されるトランジスタを適用することで、電力の供給を停止している間もデータの保持(記憶)を可能とする。記憶回路に記憶されているデータは、信号処理装置への電力の供給を停止している間も、破壊すること無く読み出すことができる。 (もっと読む)


【課題】電力の供給が停止した後もデータを保持することができる、新たな構成の記憶素子を提供することを目的の一とする。
【解決手段】記憶素子は、ラッチ回路と、第1の選択回路と、第2の選択回路と、第1の不揮発性記憶回路と、第2の不揮発性記憶回路と、を有する。また、第1の不揮発性記憶回路及び第2の不揮発性記憶回路は、それぞれトランジスタ及び容量素子を有する。第1及び第2の不揮発性記憶回路のそれぞれが有するトランジスタは、チャネルが酸化物半導体膜に形成されるトランジスタである。当該トランジスタは、オフ電流が極めて低いため、トランジスタと容量素子の接続点であるノードにデータが入力された後、トランジスタがオフ状態となり、電源電圧の供給が停止しても、長期間にわたりデータを保持することができる。 (もっと読む)


【課題】新たな構成の不揮発性の記憶回路を用いた信号処理回路を提供する。
【解決手段】演算部と、メモリと、演算部及びメモリを制御する制御部と、を有し、制御部は、揮発性の記憶回路と揮発性の記憶回路に保持されたデータを記憶するための第1の不揮発性の記憶回路との組を複数有し、メモリは、第2の不揮発性の記憶回路を複数有し、第1の不揮発性の記憶回路及び第2の不揮発性の記憶回路は、チャネルが酸化物半導体層に形成されるトランジスタと、トランジスタがオフ状態となることによってフローティングとなるノードに一対の電極のうちの一方が電気的に接続された容量素子とを有する。 (もっと読む)


【課題】新たな構成の不揮発性の記憶回路を用いた信号処理回路を提供する。
【解決手段】信号処理回路は、電源電圧が選択的に供給され、第1の高電源電位が選択的に与えられる第1のノードを有する回路と、第1のノードの電位を保持する不揮発性の記憶回路とを有する。不揮発性の記憶回路は、チャネルが酸化物半導体層に形成されるトランジスタと、トランジスタがオフ状態となることによってフローティングとなる第2のノードとを有する。トランジスタはエンハンスメント型のnチャネル型のトランジスタである。トランジスタのゲートには、第2の高電源電位または接地電位が入力される。電源電圧が供給されないとき、トランジスタはゲートに接地電位が入力されてオフ状態を維持する。第2の高電源電位は、第1の高電源電位よりも高い。 (もっと読む)


【課題】新たな構成の不揮発性の記憶回路を提供する。
【解決手段】第1の記憶回路と、第2の記憶回路と、第1のスイッチと、第2のスイッチと、位相反転回路と、を有し、第1の記憶回路は、酸化物半導体膜により形成された第1のトランジスタと、第2のトランジスタと、第3のトランジスタと、容量素子と、を有する。酸化物半導体膜により形成された第1のトランジスタと、容量素子と、を用い不揮発性の記憶回路を構成する。また、記憶回路に接続する電源線、及び信号線を少なくし、当該記憶回路に用いるトランジスタ数を減少させることで、回路規模の小さい不揮発性の記憶回路を実現することができる。 (もっと読む)


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