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Fターム[5F157BA04]の内容

Fターム[5F157BA04]に分類される特許

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【課題】流体ナイフのスリット部の清掃を、均一な深さで容易に行うことが可能な基板の処理装置を提供すること。
【解決手段】処理槽3内を搬送装置4により搬送される基板100の表面に流体を噴射して処理を行う処理装置1であって、処理槽3内を搬送させる基板100の表面に対向して配置され、基板100の上面又は下面の少なくとも一方に流体を噴射するスリット部41を有する流体ナイフ5は、流体ナイフ5の長手方向に沿って延設された案内レール36と、流体ナイフ5のスリット部41にその先端が挿入可能に形成された清掃体47を有し、案内レール44に沿って移動可能に形成された清掃部材と37とを備える構成とする。 (もっと読む)


【課題】ブラシの回転により残渣を除去する方法において、柔らかい材質で構成されたブラシ用いて残渣を十分に除去できる残渣除去装置及び残渣除去方法を提供する。
【解決手段】基板に残存した異方性導電膜の残渣を除去する残渣除去装置であって、残渣に当接して所定の駆動力を受けて回転し、残渣に当接する部分が植物樹脂で構成されるブラシと、残渣を除去するための圧力を、ブラシと残渣との当接部分に加える加圧手段と、を有する。 (もっと読む)


【課題】使用済みスチームを拡散させることなく効率よく回収することができる半導体製造装置の洗浄装置を提供する。
【解決手段】純水スチーム生成容器12と、スチーム供給管17及びスチーム回収管18からなる洗浄ノズル16を有する半導体製造装置の洗浄装置10のスチーム供給管17の先端部に、スチーム供給口19から噴射され、洗浄対象物30に衝突した使用済み純水スチームが、スチーム供給管17の先端部の外形表面に沿った流れを形成するような凸状の湾曲面17aが形成される。 (もっと読む)


【課題】洗浄部材の摩耗・汚染の状態をモニターすることで、その交換時期を判断して、常に洗浄部材を清浄で摩耗していない状態に保つ基板洗浄装置の洗浄部材交換時期判定方法及び基板洗浄装置を提供する。
【解決手段】洗浄部材と基板の少なくとも一方を回転させた状態でこれらを当接させて洗浄部材と基板の相対運動により基板をスクラブ洗浄する際に、回転測定手段により洗浄部材の回転状態又は基板の回転状態を測定し、回転状態の変化から洗浄部材の表面状態を検知し、検知した表面状態の変化から洗浄部材の交換時期を判定する。 (もっと読む)


【課題】テープかすなどの付着物の再付着を招くことなく、付着物を効率良く除去することができ、薄片化された半導体ウェーハの割れを確実に防止することができる付着物排出機構付きクリーナ及びそれを用いたチャックテーブルクリーニング方法を提供する。
【解決手段】ウェーハを吸着するチャックテーブル15の吸着面16a上に付着している不要な付着物20を除去する付着物排出機構付きクリーナ1であって、付着物20を削り取る刃部7a及び削り取った付着物20を捕捉する捕捉部6とを有するクリーナ本体2と、捕捉した付着物20を吸引して排出する排出手段10と、を備え、クリーナ本体2内には、チャックテーブル15の吸着面16a上に付着している付着物20をクリーナ本体2内に進入させるための開口部8が設けられている。 (もっと読む)


【課題】半導体ウエハの表面に貼り付けられた保護テープをウエハ外形に沿って切り抜く半導体ウエハの保護テープ切断方法において、保護テープ切断処理によって発生した塵埃を適切に除去する。
【解決手段】半導体ウエハWの外周に沿ってカッタ刃12を相対移動させるとともに、カッタ刃12によるテープ切断部位に発生して保護テープTの上面に付着した塵埃を、半導体ウエハWに対してカッタ刃12とともに相対移動する集塵部材56で掃き集め、テープ切断終了後に、所定箇所に掃き集めた塵埃を吸引ノズル61で吸引除去する。 (もっと読む)


【課題】パーティクルの発生を抑制することができる薄膜形成装置の洗浄方法を提供する。
【解決手段】薄膜形成装置の洗浄方法は、薄膜形成装置から洗浄する部品を取り外す部品取り外し工程(S1)と、取り外した部品をウエット洗浄を行う位置まで搬送する洗浄位置搬送工程(S2)と、搬送された部品の外表面に付着したアルミニウムを除去するアルミニウム除去工程(S3)と、アルミニウムが除去された部品を洗浄液を用いてウエット洗浄し、当該部品を洗浄する洗浄工程(S4)と、を備えている。 (もっと読む)


対象物の表面の少なくとも一部を処理するための流体メニスカスを利用する湿式処理装置および方法である。対象物の表面の1つが処理された後に、対象物の他の側面または表面が同様に処理されうる。いくつかの例を挙げれば、この処理はコーティング、エッチング、めっきでありうる。この装置と方法の用途は、半導体処理産業、特にウェハおよび基板の処理にある。この方法と装置は、電子構成部品の多数の表面の処理をも可能にする。 (もっと読む)


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