基板の処理装置
【課題】流体ナイフのスリット部の清掃を、均一な深さで容易に行うことが可能な基板の処理装置を提供すること。
【解決手段】処理槽３内を搬送装置４により搬送される基板１００の表面に流体を噴射して処理を行う処理装置１であって、処理槽３内を搬送させる基板１００の表面に対向して配置され、基板１００の上面又は下面の少なくとも一方に流体を噴射するスリット部４１を有する流体ナイフ５は、流体ナイフ５の長手方向に沿って延設された案内レール３６と、流体ナイフ５のスリット部４１にその先端が挿入可能に形成された清掃体４７を有し、案内レール４４に沿って移動可能に形成された清掃部材と３７とを備える構成とする。
【解決手段】処理槽３内を搬送装置４により搬送される基板１００の表面に流体を噴射して処理を行う処理装置１であって、処理槽３内を搬送させる基板１００の表面に対向して配置され、基板１００の上面又は下面の少なくとも一方に流体を噴射するスリット部４１を有する流体ナイフ５は、流体ナイフ５の長手方向に沿って延設された案内レール３６と、流体ナイフ５のスリット部４１にその先端が挿入可能に形成された清掃体４７を有し、案内レール４４に沿って移動可能に形成された清掃部材と３７とを備える構成とする。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
この発明は流体ナイフから噴射される流体によって基板上を処理する基板の処理装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
たとえば、液晶表示装置や半導体装置の製造工程においては、これら装置の処理対象物であるガラス基板や半導体ウエハ等の基板にレジストを塗布し、この基板を現像処理してからエッチング処理することで、表面に回路パターンを精密に形成する。基板に回路パターンを形成したならば、その基板の表面に付着しているレジスト膜やレジスト残渣などの有機物を洗浄液によって除去する洗浄処理及び洗浄した基板を乾燥させる乾燥処理が行われる。
【０００３】
なお、これら洗浄処理及び乾燥処理においては、基板の処理装置の処理槽内に設けられた流体ナイフにより基板の洗浄処理が行われる。具体的には、洗浄処理において、薬液や洗浄液等の液体と気体とを混合させ噴出させる流体ナイフにより、基板の表面を予め均一に濡らす。その後、シャワー等により基板を洗浄する。
【０００４】
このように、基板洗浄の前に基板上を均一に濡らすことで、高い洗浄効果を得る技術が知られている。
【０００５】
また、洗浄処理された基板に洗浄液が残留するとウォータマーク等の汚れの原因になる。そこで、洗浄液によって洗浄された基板の上下面に気体を噴射する流体ナイフ（エアーナイフ）から気体を噴射し、基板に付着残留した洗浄液を除去する乾燥処理が行われる（例えば、特許文献１参照）。
【０００６】
上記乾燥処理は、基板を処理装置の処理槽内へ水平搬送し、この基板の上下面に上下一対の流体ナイフによって気体を噴射し、その気体によって基板に付着した洗浄液を除去する。
【０００７】
これら基板の処理を行う流体ナイフは、処理槽内に延設され、その長手方向に沿って設けられたスリット部から、液体や気体等の流体を噴射する構成である。このような流体ナイフは、噴射する薬液の析出や、除去により洗浄液が飛散することで、スリット部に薬液や洗浄液等からなる不純物が付着することがある。
【０００８】
この不純物が付着した流体ナイフでは、処理時において、噴射する流体に不純物が混在する恐れがあり、基板を汚染する虞がある。このため、流体ナイフのスリット部を定期的に清掃冶具により清掃することが行われている。
【０００９】
具体的には、清掃作業者が、薄板状の清掃冶具をスリット部に挿入し、スリット部の長手方向に沿って、挿入状態を維持して移動させることで、スリット部に付着した不純物を除去している。
【先行技術文献】
【特許文献】
【００１０】
【特許文献１】特開平１０−２１１４７３号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１１】
上述した基板の処理装置では、以下の問題があった。即ち、基板の処理装置は、処理槽内に、流体ナイフを有し、さらに、流体ナイフの周囲に基板の搬送ローラや基板の処理に用いられる他の構成要素が配置されている。
【００１２】
このため、流体ナイフの周囲の各構成要素により、流体ナイフの清掃を行う作業スペースが限られている。また、搬送ローラ上を搬送する基板の上面を処理する流体ナイフは、処理する基板が大きくなると、それに伴って流体ナイフの長さも長くなる。
【００１３】
しかし、流体ナイフが長くなると、作業スペースがさらに限られることから、さらに作業性が悪くなるという問題がある。また、清掃作業者の作業体勢（姿勢）も不安定となる。さらには、流体ナイフの清掃は、清掃作業者が、薄板状の清掃冶具をスリット部に挿入してスリット部の長手方向に沿って清掃冶具を移動させるため、清掃作業者の姿勢等により、清掃冶具の挿入深さ等が異なり、均一な深さでスリット部を清掃することが困難である。このため、部分的に不純物が残存する虞もある。
【００１４】
そこで本発明は、流体を噴射するスリット部の清掃が均一な深さ、且つ、容易に行うことが可能な流体ナイフを有する基板の処理装置を提供することを目的としている。
【課題を解決するための手段】
【００１５】
前記課題を解決し目的を達成するために、次のように構成された基板の処理装置が提供される。
【００１６】
本発明の一態様として、処理槽内を搬送装置により搬送される基板の表面に流体を噴射して処理を行う処理装置であって、前記処理槽内を搬送させる前記基板の表面に対向して配置され、前記基板の上面又は下面の少なくとも一方に前記流体を噴射するスリット部を有する流体ナイフと、前記スリット部の長手方向に沿って延設された案内レールと、前記流体ナイフのスリット部にその先端が挿入可能に形成された清掃体を有し、前記案内レールに沿って移動可能に形成された清掃部材と、を備えることを特徴とする基板の処理装置が提供される。
【発明の効果】
【００１７】
この発明によれば、流体ナイフの流体を噴射するスリット部の清掃を、均一な深さで容易に行うことが可能な基板の処理装置を提供することが可能となる。
【図面の簡単な説明】
【００１８】
【図１】本発明の一実施の形態に係る基板の処理装置の構成を示す説明図。
【図２】同処理装置に用いられる流体ナイフの構成を一部省略して示す正面図。
【図３】同流体ナイフの要部構成を模式的に示す側面図。
【図４】同流体ナイフの要部構成を模式的に示す側面図。
【図５】本発明の変形例に係る基板処理装置に用いられる流体ナイフの要部構成を模式的に示す側面図。
【発明を実施するための形態】
【００１９】
以下、本発明の一実施の形態に係る基板１００の処理装置１を、図１乃至図４を用いて説明する。
図１は、本発明の一実施の形態に係る基板１００の処理装置１の構成を上方から模式的に示す説明図、図２は、処理装置１の流体ナイフ５の構成を一部省略して模式的に示す正面図、図３は、流体ナイフ５に用いられる清掃部材３７の使用の一例を模式的に示す側面図、図４は、流体ナイフ５の清掃部材３７の使用の一例を模式的に示すに側面図である。
【００２０】
図１に示すように、基板１００の処理装置１は、基板１００の処理工程の一である洗浄工程又は基板１００の乾燥工程等に用いられる。処理装置１は、基板１００を搬送し、且つ、基板１００上に、液体又は気体等の流体を噴射可能に形成されている。具体的に説明すると、処理装置１は、処理槽３と、搬送装置４と、流体ナイフ５と、を備えている。
【００２１】
処理槽３は、箱型状に形成され、その内部に搬送装置４及び流体ナイフ５を配置可能に形成されている。処理槽３は、所定の方向の一端面に搬入口１０が、他端面に搬出口１１が、形成されている。なお、所定の方向とは、基板１００の搬送方向であり、図１中矢印で示す。これら搬入口１０及び搬出口１１は、基板１００を処理槽３内に搬入及び搬出可能な形状に形成されている。
【００２２】
搬送装置４は、図１中矢印で示す所定の方向に沿って一定間隔に配置された複数の搬送ローラ１３と、搬送ローラ１３を駆動させる駆動手段１４と、を備えている。この搬送装置４は、駆動手段１４により駆動された搬送ローラ１３の回転により、搬送ローラ１３上の基板１００を搬送可能に形成されている。
【００２３】
複数の搬送ローラ１３は、少なくともその一が流体ナイフ５と対向しないで、処理槽３内に設けられる。複数の搬送ローラ１３は、所定の方向と交差する方向（以下「左右方向」）を連続させる連続ローラ軸１６と、その一部が左右方向で分断する一対の分断ローラ軸１７、１８と、左右方向の一方に設けられた分断ローラ軸１７、１８のいずれか一方により構成される。
【００２４】
また、搬送ローラ１３は、各ローラ軸１６，１７，１８の一部に、基板１００と接触し、且つ、その回転により基板１００を搬送可能な一以上の接触ローラ１９を備えている。
【００２５】
例えば、図１に示す構成では、搬送ローラ１３は、所定の方向の方向であって、搬入口１０から搬出口１１に向って、連続ローラ軸１６、一本の分断ローラ軸１７、複数の一対の分断ローラ軸１７、１８、及び、２本の分断ローラ軸１８が順次配置される。
【００２６】
なお、連続ローラ軸１６は、流体ナイフ５の一次側、具体的には流体ナイフ５と搬入口１０との間に設けられる。分断ローラ軸１７，１８は、例えば、流体ナイフ５が設けられた範囲であって、且つ、流体ナイフ５と対向しないように配置される。
【００２７】
即ち、図１に示すように、搬送ローラ１３は、流体ナイフ５に重なる部位には、一対又は一方の分断ローラ軸１７、１８が配置されることで、流体ナイフ５から噴射される流体を干渉しないように配置されている。このため、搬送ローラ１３の配置は、図１に示す配置に限定されず、流体ナイフ５の配置等によって、適宜設定される。
【００２８】
駆動手段１４は、その回転軸が回転駆動する駆動源２１と、連続ローラ軸１６の一方の端側に設けられた第１プーリ２２と、駆動源２１の回転軸２１ａ及び第１プーリ２２を接続する第１ベルト２３と、を備えている。
【００２９】
駆動手段１４は、連続ローラ軸１６の一方の端側、及び、分断ローラ軸１７の端側にそれぞれ設けられた第２プーリ２４と、これら第２プーリ２４を接続する第２ベルト２５と、を備えている。
【００３０】
駆動手段１４は、連続ローラ軸１６の他方の端側及び分断ローラ軸１８の端側にそれぞれ設けられた第３プーリ２６と、これら第３プーリ２６を接続する第３ベルト２７と、を備えている。
【００３１】
即ち、駆動手段１４は、駆動源２１の回転を第１ベルト２３及び第１プーリ２２を介して連続ローラ軸１６に伝達する。また、駆動手段１４は、連続ローラ軸１６の回転を、連続ローラ軸１６の両端に設けられた第２、第３プーリ２４、２６から第２、第３ベルト２５、２７を解して第２、第３ベルト２５，２７の分断ローラ軸１７、１８にそれぞれ設けられた第２、第３プーリ２４、２６に伝達する。
【００３２】
このように、駆動手段１４は、駆動源２１の回転を第２、第３プーリ２４，２６に伝達させることで、搬送ローラ１３を回転可能に形成されている。
【００３３】
流体ナイフ５は、例えば、処理装置１を洗浄工程に用いる場合には、薬液及び気体を混合させた流体を噴射可能に形成されたものが用いられる。また、流体ナイフ５は、処理装置１を乾燥工程に用いる場合には、気体を噴射可能に形成されたものが用いられる。
【００３４】
図１に示すように、流体ナイフ５は、その長手方向が、前記所定の方向に対して所定の角度、例えば４５度の角度で傾斜して、処理槽３に固定される。図４に示すように、流体ナイフ５は、上部流体ナイフ３０及び下部流体ナイフ３１を備えている。
【００３５】
なお、流体ナイフ５は、搬送ローラ１３と対向しないように配置され、これにより、上部流体ナイフ３０及び下部流体ナイフ３１が対向し、搬送される基板１００の上下面とそれぞれ対向可能に形成されている。
【００３６】
図２，３に示すように、上部流体ナイフ３０は、ナイフ本体３５と、案内レール３６と、清掃部材３７と、を備えている。ナイフ本体３５は、長方形状の一対の板状部材３８、３９を接合してなる。これら板状部材３８、３９間には、その内部に圧縮流体が供給される導入部４０と、この導入部４０に連続され、流体を噴射するスリット部４１が形成されている。なお、スリット部４１は、上部流体ナイフ３０の延設方向に沿って設けられ、基板１００上に流体を噴射可能な長さに形成されている。
【００３７】
案内レール３６は、ナイフ本体３５の一の外面、具体的には、所定の方向の搬入口１０側に位置する板状部材３８の外面であって、その両端側に固定された固定部４３と、これら固定部４３間に渡って設けられたレール部４４と、を備えている。
【００３８】
レール部４４は、例えば、その断面形状が円環状の円柱棒状に形成されている。このレール部４４は、固定部４３間に渡って設けられることで、ナイフ本体３５のスリット部４１の延設方向に沿って延設されることとなる。
【００３９】
清掃部材３７は、レール部４４に着脱自在に設けられる。具体的には、清掃部材３７は、レール部４４に沿って移動可能な本体部４６と、本体部４６に設けられた清掃体４７と、この清掃体４７を本体部４６に固定させる固定部４８と、を備えている。
【００４０】
本体部４６は、例えば、図３，４に示すように、その一端が半円状に湾曲して形成され、レール部４４上に載置可能に形成されている。また、本体部４６は、その他端側に、固定部４８とともに、清掃体４７を狭持し固定可能に形成されている。
【００４１】
なお、本体部４６と固定部４８とによる清掃体４７の固定は、例えば、図示しないボルト及びナット等の締結部材によりなされる。
【００４２】
清掃体４７は、例えば、ＳＵＳ材料で形成され、板厚が０．１〜０．１５ｍｍ程度の薄板である。なお、清掃体４７は、その板厚がスリット部４１に挿入可能な厚さであればよい。
【００４３】
清掃体４７は、その一部、具体的には、図３に示すように、その２箇所に設けられ、レール部４４の延設方向と平行に塑性変形した曲折部４９を備えている。清掃体４７は、曲折部４９の曲折により、レール部４４に本体部４６を載置した際に、その端部が、スリット部４１に近接するように形成されている。
【００４４】
図３，４に示すように、下部流体ナイフ３１は、ナイフ本体５１を備えている。ナイフ本体５１は、長方形状の一対の板状部材５２、５３を接合してなる。これら板状部材５２、５３間には、その内部に圧縮流体が供給される導入部５４と、この導入部５４に連続され、流体を噴射するスリット部５５が形成されている。なお、スリット部５５は、下部流体ナイフ３１の延設方向に沿って設けられ、基板１００の下面上に流体を噴射可能な長さに形成されている。
【００４５】
このように構成された処理装置１は、基板１００の洗浄工程や乾燥工程において、処理装置１内に搬送された基板１００を流体ナイフ５により処理することとなる。具体的には、処理装置１を洗浄工程に用いる際には、流体ナイフ５は、搬送装置４により搬送された基板１００の上面及び下面に、薬液及び気体を混合させた流体を噴射し、基板１００の表面を薬液で濡らす。
【００４６】
また、処理装置１を乾燥工程に用いる際には、流体ナイフ５は、搬送装置４により搬送された基板１００の上面１００ａ及び下面１００ｂにエアー（気体）を噴射し、洗浄工程で付着した流体を吹き飛ばす。
【００４７】
処理装置１は、このような基板１００の処理に用いられると、流体ナイフ５から噴射する薬液や、基板１００上から吹き飛ばした洗浄液等の不純物が、その流体が噴射されるスリット部４１に付着する。この付着した不純物を、清掃部材３７により清掃する。次に、処理装置１の、流体ナイフ５の清掃について説明する。
【００４８】
流体ナイフ５の清掃を行う場合には、先ず、案内レール３６に清掃部材３７を装着する。具体的には、上部流体ナイフ３０の清掃を行う場合には、図３に示すように、上部流体ナイフ３０のレール部４４に、本体部４６の湾曲する一端を引き掛けることで、清掃部材３７を案内レール３６に載置させる。また、清掃部材３７は、例えば案内レール３６の一端側に配置させる。
【００４９】
次に、清掃部材３７の清掃体４７の先端を上部流体ナイフ３０のスリット部４１挿入させる。スリット部４１に清掃体４７を挿入させた状態で、清掃部材３７を案内レール３６に沿って移動させる。これにより、清掃体４７は、その先端がスリット部４１の延設方向に沿ってスリット部４１内を移動し、スリット部４１に付着した不純物を除去することが可能となる。
【００５０】
このように、付着した不純物が除去できるまで、レール部４４に沿って清掃部材３７を往復動させて、スリット部４１内を清掃体４７により清掃する。
【００５１】
次に、下部流体ナイフ３１の清掃を行う場合には、図４に示すように、上部流体ナイフ３０の案内レール３６に清掃部材３７を装着した状態で、清掃体４７の先端を、下部流体ナイフ３１のスリット部５５に挿入させる。この状態で、清掃部材３７を案内レール３６に沿って移動させることで、スリット部５５内を清掃体４７の先端が移動し、スリット部５５に付着した不純物を除去することが可能となる。
【００５２】
このように構成された処理装置１によれば、案内レール３６により案内されて移動した清掃部材３７の清掃体４７により、スリット部４１，５５の清掃ができるため、スリット部４１，５５に挿入される清掃体４７の先端の長さは、各位置において略同一長さとなる。これにより、流体ナイフ５のスリット部４１，５５は、均一に清掃することができることとなる。
【００５３】
また、処理装置１は、処理槽３内に、搬送装置４及び流体ナイフ５が設けられる構成であり、流体ナイフ５は、搬送装置４の左右方向に渡って設けられる構成であるため、その清掃のための作業スペースは限られる。しかし、処理装置１は、スリット部４１，５５の清掃において、清掃体４７をスリット部４１，５５に挿入した状態で清掃部材３７を案内レール３６に沿って移動させるだけで良い。
【００５４】
このため、スリット部４１，５５の清掃作業は、作業スペースが狭い処理装置１であっても、作業者が無理な姿勢をとる必要がなく、確実にスリット部４１，５５の清掃を行なうことが可能となる。このように、処理装置１は、流体ナイフ５のスリット部４１，５５の清掃の作業性が向上することとなる。
【００５５】
特に、このような清掃部材３７は、大きな基板１００に用いられる等のその長さが長い流体ナイフ５に有効である。例えば、このような長い流体ナイフ５を清掃する場合には、搬送装置４の左右の一方から、先ず流体ナイフ５の中途部まで清掃部材３７を移動させる。
【００５６】
次に、作業者が搬送装置４の左右の他方から、流体ナイフ５の中途部から清掃部材３７を移動させれば、流体ナイフ５のスリット部４１，５５に沿って、均一に清掃が可能となる。このように、その長さが長い流体ナイフ５であっても、作業者の負担を増大させることなく、容易に流体ナイフ５のスリット部４１，５５を清掃可能な処理装置１を提供できる。
【００５７】
また、清掃体４７は、スリット部４１にその先端が案内される（近接する）ように、曲折部４９を設けることで、清掃部材３７をレール部４４に沿って移動させる際に、スリット部４１への清掃体４７の挿入状態を維持するために、清掃部材３７を常時押さえる必要がない。
【００５８】
即ち、清掃体４７は、曲折部４９によりスリット部４１へ近接するように案内されるため、清掃体４７のスリット部４１への挿入を容易とし、且つ、スリット部４１からの脱離を防止することが可能となる。これにより、作業者の作業性を向上させることが可能となる。また、上述したようなスリット部４１を均一な深さで清掃することができ、清掃をより確実に行なうことが可能となる。
【００５９】
上述したように本実施の形態に係る処理装置１によれば、流体ナイフ５に、そのスリット部４１，５５に沿って延設されたレール部４４に案内されて移動可能なスリット部４１，５５を清掃する清掃部材３７を備えることで、容易、且つ、均一にスリット部４１，５５を清掃することができる。
【００６０】
また、処理装置１によれば、清掃部材３７及び案内レール３６を用いることで、大判の基板１００に用いる大型の流体ナイフ５や、作業スペースが狭い処理装置１であっても、作業性を向上させ、作業者の負担を軽減できる。
【００６１】
なお、本発明は前記実施の形態に限定されるものではない。例えば、上述した例では、清掃体４７は、曲折部４９を有する構成としたがこれに限定されない。例えば、図５に示すように、曲折部４９を有さない構成の清掃体４７Ａであっても良い。このように曲折部４９を有さない清掃体４７Ａとすることで、上述したスリット部４１へのその先端の案内の効果は有さない。
【００６２】
しかし、清掃部材３７をレール部４４に装着した際に、清掃体４７がスリット部４１へ近接しないため、清掃部材３７をレール部４４に装着した状態で流体ナイフ５を使用しても、スリット部４１から噴射する流体に清掃体４７が干渉することを防止できる。このため、清掃部材３７を常時装着することも可能となる。
【００６３】
また、上述した例では、案内レール３６は、上部流体ナイフ３０の側面に設ける構成を説明したが、これに限定されない。例えば、上部流体ナイフ３０だけでなく、下部流体ナイフ３１に設けても良い。また、案内レール３６は、流体ナイフ５の側面でなく、例えば、流体ナイフ５を処理槽３上に固定する固定部に設けてもよく、搬送装置４上に流体ナイフ５に沿って設ける構成であってもよい。
【００６４】
即ち、案内レール３６は、清掃部材３７を案内して移動させた際に、流体ナイフ５のスリット部４１，５５に均一に清掃体４７を挿入可能、且つ、スリット部４１に沿って設けられていればよい。
【００６５】
さらに、上述した例では、流体ナイフ５は、上部流体ナイフ３０及び下部流体ナイフ３１を有する構成としたがこれに限定されない。例えば、流体ナイフ５は、図５に示すように、上部流体ナイフ３０のみを有する構成であってもよく、また、図示しないが、下部流体ナイフ３１のみを有する構成であってもよい。この他、本発明の要旨を逸脱しない範囲で種々変形実施可能である。
【符号の説明】
【００６６】
１…処理装置、３…処理槽、４…搬送装置、５…流体ナイフ、１０…搬入口、１１…搬出口、１３…搬送ローラ、１４…駆動手段、１６…連続ローラ軸、１７、１８…分断ローラ軸、１９…接触ローラ、２１…駆動源、２１ａ…回転軸、２２…第１プーリ、２３…第１ベルト、２４…第２プーリ、２５…第２ベルト、２６…第３プーリ、２７…第３ベルト、３０…上部流体ナイフ、３１…下部流体ナイフ、３５…ナイフ本体、３６…案内レール、３７…清掃部材、３８、３９…板状部材、４０…導入部、４１…スリット部、４３…固定部、４４…レール部、４６…本体部、４７…清掃体、４７Ａ…清掃体、４８…固定部、４９…曲折部、５１…ナイフ本体、５２、５３…板状部材、５４…導入部、５５…スリット部、１００…基板。
【技術分野】
【０００１】
この発明は流体ナイフから噴射される流体によって基板上を処理する基板の処理装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
たとえば、液晶表示装置や半導体装置の製造工程においては、これら装置の処理対象物であるガラス基板や半導体ウエハ等の基板にレジストを塗布し、この基板を現像処理してからエッチング処理することで、表面に回路パターンを精密に形成する。基板に回路パターンを形成したならば、その基板の表面に付着しているレジスト膜やレジスト残渣などの有機物を洗浄液によって除去する洗浄処理及び洗浄した基板を乾燥させる乾燥処理が行われる。
【０００３】
なお、これら洗浄処理及び乾燥処理においては、基板の処理装置の処理槽内に設けられた流体ナイフにより基板の洗浄処理が行われる。具体的には、洗浄処理において、薬液や洗浄液等の液体と気体とを混合させ噴出させる流体ナイフにより、基板の表面を予め均一に濡らす。その後、シャワー等により基板を洗浄する。
【０００４】
このように、基板洗浄の前に基板上を均一に濡らすことで、高い洗浄効果を得る技術が知られている。
【０００５】
また、洗浄処理された基板に洗浄液が残留するとウォータマーク等の汚れの原因になる。そこで、洗浄液によって洗浄された基板の上下面に気体を噴射する流体ナイフ（エアーナイフ）から気体を噴射し、基板に付着残留した洗浄液を除去する乾燥処理が行われる（例えば、特許文献１参照）。
【０００６】
上記乾燥処理は、基板を処理装置の処理槽内へ水平搬送し、この基板の上下面に上下一対の流体ナイフによって気体を噴射し、その気体によって基板に付着した洗浄液を除去する。
【０００７】
これら基板の処理を行う流体ナイフは、処理槽内に延設され、その長手方向に沿って設けられたスリット部から、液体や気体等の流体を噴射する構成である。このような流体ナイフは、噴射する薬液の析出や、除去により洗浄液が飛散することで、スリット部に薬液や洗浄液等からなる不純物が付着することがある。
【０００８】
この不純物が付着した流体ナイフでは、処理時において、噴射する流体に不純物が混在する恐れがあり、基板を汚染する虞がある。このため、流体ナイフのスリット部を定期的に清掃冶具により清掃することが行われている。
【０００９】
具体的には、清掃作業者が、薄板状の清掃冶具をスリット部に挿入し、スリット部の長手方向に沿って、挿入状態を維持して移動させることで、スリット部に付着した不純物を除去している。
【先行技術文献】
【特許文献】
【００１０】
【特許文献１】特開平１０−２１１４７３号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１１】
上述した基板の処理装置では、以下の問題があった。即ち、基板の処理装置は、処理槽内に、流体ナイフを有し、さらに、流体ナイフの周囲に基板の搬送ローラや基板の処理に用いられる他の構成要素が配置されている。
【００１２】
このため、流体ナイフの周囲の各構成要素により、流体ナイフの清掃を行う作業スペースが限られている。また、搬送ローラ上を搬送する基板の上面を処理する流体ナイフは、処理する基板が大きくなると、それに伴って流体ナイフの長さも長くなる。
【００１３】
しかし、流体ナイフが長くなると、作業スペースがさらに限られることから、さらに作業性が悪くなるという問題がある。また、清掃作業者の作業体勢（姿勢）も不安定となる。さらには、流体ナイフの清掃は、清掃作業者が、薄板状の清掃冶具をスリット部に挿入してスリット部の長手方向に沿って清掃冶具を移動させるため、清掃作業者の姿勢等により、清掃冶具の挿入深さ等が異なり、均一な深さでスリット部を清掃することが困難である。このため、部分的に不純物が残存する虞もある。
【００１４】
そこで本発明は、流体を噴射するスリット部の清掃が均一な深さ、且つ、容易に行うことが可能な流体ナイフを有する基板の処理装置を提供することを目的としている。
【課題を解決するための手段】
【００１５】
前記課題を解決し目的を達成するために、次のように構成された基板の処理装置が提供される。
【００１６】
本発明の一態様として、処理槽内を搬送装置により搬送される基板の表面に流体を噴射して処理を行う処理装置であって、前記処理槽内を搬送させる前記基板の表面に対向して配置され、前記基板の上面又は下面の少なくとも一方に前記流体を噴射するスリット部を有する流体ナイフと、前記スリット部の長手方向に沿って延設された案内レールと、前記流体ナイフのスリット部にその先端が挿入可能に形成された清掃体を有し、前記案内レールに沿って移動可能に形成された清掃部材と、を備えることを特徴とする基板の処理装置が提供される。
【発明の効果】
【００１７】
この発明によれば、流体ナイフの流体を噴射するスリット部の清掃を、均一な深さで容易に行うことが可能な基板の処理装置を提供することが可能となる。
【図面の簡単な説明】
【００１８】
【図１】本発明の一実施の形態に係る基板の処理装置の構成を示す説明図。
【図２】同処理装置に用いられる流体ナイフの構成を一部省略して示す正面図。
【図３】同流体ナイフの要部構成を模式的に示す側面図。
【図４】同流体ナイフの要部構成を模式的に示す側面図。
【図５】本発明の変形例に係る基板処理装置に用いられる流体ナイフの要部構成を模式的に示す側面図。
【発明を実施するための形態】
【００１９】
以下、本発明の一実施の形態に係る基板１００の処理装置１を、図１乃至図４を用いて説明する。
図１は、本発明の一実施の形態に係る基板１００の処理装置１の構成を上方から模式的に示す説明図、図２は、処理装置１の流体ナイフ５の構成を一部省略して模式的に示す正面図、図３は、流体ナイフ５に用いられる清掃部材３７の使用の一例を模式的に示す側面図、図４は、流体ナイフ５の清掃部材３７の使用の一例を模式的に示すに側面図である。
【００２０】
図１に示すように、基板１００の処理装置１は、基板１００の処理工程の一である洗浄工程又は基板１００の乾燥工程等に用いられる。処理装置１は、基板１００を搬送し、且つ、基板１００上に、液体又は気体等の流体を噴射可能に形成されている。具体的に説明すると、処理装置１は、処理槽３と、搬送装置４と、流体ナイフ５と、を備えている。
【００２１】
処理槽３は、箱型状に形成され、その内部に搬送装置４及び流体ナイフ５を配置可能に形成されている。処理槽３は、所定の方向の一端面に搬入口１０が、他端面に搬出口１１が、形成されている。なお、所定の方向とは、基板１００の搬送方向であり、図１中矢印で示す。これら搬入口１０及び搬出口１１は、基板１００を処理槽３内に搬入及び搬出可能な形状に形成されている。
【００２２】
搬送装置４は、図１中矢印で示す所定の方向に沿って一定間隔に配置された複数の搬送ローラ１３と、搬送ローラ１３を駆動させる駆動手段１４と、を備えている。この搬送装置４は、駆動手段１４により駆動された搬送ローラ１３の回転により、搬送ローラ１３上の基板１００を搬送可能に形成されている。
【００２３】
複数の搬送ローラ１３は、少なくともその一が流体ナイフ５と対向しないで、処理槽３内に設けられる。複数の搬送ローラ１３は、所定の方向と交差する方向（以下「左右方向」）を連続させる連続ローラ軸１６と、その一部が左右方向で分断する一対の分断ローラ軸１７、１８と、左右方向の一方に設けられた分断ローラ軸１７、１８のいずれか一方により構成される。
【００２４】
また、搬送ローラ１３は、各ローラ軸１６，１７，１８の一部に、基板１００と接触し、且つ、その回転により基板１００を搬送可能な一以上の接触ローラ１９を備えている。
【００２５】
例えば、図１に示す構成では、搬送ローラ１３は、所定の方向の方向であって、搬入口１０から搬出口１１に向って、連続ローラ軸１６、一本の分断ローラ軸１７、複数の一対の分断ローラ軸１７、１８、及び、２本の分断ローラ軸１８が順次配置される。
【００２６】
なお、連続ローラ軸１６は、流体ナイフ５の一次側、具体的には流体ナイフ５と搬入口１０との間に設けられる。分断ローラ軸１７，１８は、例えば、流体ナイフ５が設けられた範囲であって、且つ、流体ナイフ５と対向しないように配置される。
【００２７】
即ち、図１に示すように、搬送ローラ１３は、流体ナイフ５に重なる部位には、一対又は一方の分断ローラ軸１７、１８が配置されることで、流体ナイフ５から噴射される流体を干渉しないように配置されている。このため、搬送ローラ１３の配置は、図１に示す配置に限定されず、流体ナイフ５の配置等によって、適宜設定される。
【００２８】
駆動手段１４は、その回転軸が回転駆動する駆動源２１と、連続ローラ軸１６の一方の端側に設けられた第１プーリ２２と、駆動源２１の回転軸２１ａ及び第１プーリ２２を接続する第１ベルト２３と、を備えている。
【００２９】
駆動手段１４は、連続ローラ軸１６の一方の端側、及び、分断ローラ軸１７の端側にそれぞれ設けられた第２プーリ２４と、これら第２プーリ２４を接続する第２ベルト２５と、を備えている。
【００３０】
駆動手段１４は、連続ローラ軸１６の他方の端側及び分断ローラ軸１８の端側にそれぞれ設けられた第３プーリ２６と、これら第３プーリ２６を接続する第３ベルト２７と、を備えている。
【００３１】
即ち、駆動手段１４は、駆動源２１の回転を第１ベルト２３及び第１プーリ２２を介して連続ローラ軸１６に伝達する。また、駆動手段１４は、連続ローラ軸１６の回転を、連続ローラ軸１６の両端に設けられた第２、第３プーリ２４、２６から第２、第３ベルト２５、２７を解して第２、第３ベルト２５，２７の分断ローラ軸１７、１８にそれぞれ設けられた第２、第３プーリ２４、２６に伝達する。
【００３２】
このように、駆動手段１４は、駆動源２１の回転を第２、第３プーリ２４，２６に伝達させることで、搬送ローラ１３を回転可能に形成されている。
【００３３】
流体ナイフ５は、例えば、処理装置１を洗浄工程に用いる場合には、薬液及び気体を混合させた流体を噴射可能に形成されたものが用いられる。また、流体ナイフ５は、処理装置１を乾燥工程に用いる場合には、気体を噴射可能に形成されたものが用いられる。
【００３４】
図１に示すように、流体ナイフ５は、その長手方向が、前記所定の方向に対して所定の角度、例えば４５度の角度で傾斜して、処理槽３に固定される。図４に示すように、流体ナイフ５は、上部流体ナイフ３０及び下部流体ナイフ３１を備えている。
【００３５】
なお、流体ナイフ５は、搬送ローラ１３と対向しないように配置され、これにより、上部流体ナイフ３０及び下部流体ナイフ３１が対向し、搬送される基板１００の上下面とそれぞれ対向可能に形成されている。
【００３６】
図２，３に示すように、上部流体ナイフ３０は、ナイフ本体３５と、案内レール３６と、清掃部材３７と、を備えている。ナイフ本体３５は、長方形状の一対の板状部材３８、３９を接合してなる。これら板状部材３８、３９間には、その内部に圧縮流体が供給される導入部４０と、この導入部４０に連続され、流体を噴射するスリット部４１が形成されている。なお、スリット部４１は、上部流体ナイフ３０の延設方向に沿って設けられ、基板１００上に流体を噴射可能な長さに形成されている。
【００３７】
案内レール３６は、ナイフ本体３５の一の外面、具体的には、所定の方向の搬入口１０側に位置する板状部材３８の外面であって、その両端側に固定された固定部４３と、これら固定部４３間に渡って設けられたレール部４４と、を備えている。
【００３８】
レール部４４は、例えば、その断面形状が円環状の円柱棒状に形成されている。このレール部４４は、固定部４３間に渡って設けられることで、ナイフ本体３５のスリット部４１の延設方向に沿って延設されることとなる。
【００３９】
清掃部材３７は、レール部４４に着脱自在に設けられる。具体的には、清掃部材３７は、レール部４４に沿って移動可能な本体部４６と、本体部４６に設けられた清掃体４７と、この清掃体４７を本体部４６に固定させる固定部４８と、を備えている。
【００４０】
本体部４６は、例えば、図３，４に示すように、その一端が半円状に湾曲して形成され、レール部４４上に載置可能に形成されている。また、本体部４６は、その他端側に、固定部４８とともに、清掃体４７を狭持し固定可能に形成されている。
【００４１】
なお、本体部４６と固定部４８とによる清掃体４７の固定は、例えば、図示しないボルト及びナット等の締結部材によりなされる。
【００４２】
清掃体４７は、例えば、ＳＵＳ材料で形成され、板厚が０．１〜０．１５ｍｍ程度の薄板である。なお、清掃体４７は、その板厚がスリット部４１に挿入可能な厚さであればよい。
【００４３】
清掃体４７は、その一部、具体的には、図３に示すように、その２箇所に設けられ、レール部４４の延設方向と平行に塑性変形した曲折部４９を備えている。清掃体４７は、曲折部４９の曲折により、レール部４４に本体部４６を載置した際に、その端部が、スリット部４１に近接するように形成されている。
【００４４】
図３，４に示すように、下部流体ナイフ３１は、ナイフ本体５１を備えている。ナイフ本体５１は、長方形状の一対の板状部材５２、５３を接合してなる。これら板状部材５２、５３間には、その内部に圧縮流体が供給される導入部５４と、この導入部５４に連続され、流体を噴射するスリット部５５が形成されている。なお、スリット部５５は、下部流体ナイフ３１の延設方向に沿って設けられ、基板１００の下面上に流体を噴射可能な長さに形成されている。
【００４５】
このように構成された処理装置１は、基板１００の洗浄工程や乾燥工程において、処理装置１内に搬送された基板１００を流体ナイフ５により処理することとなる。具体的には、処理装置１を洗浄工程に用いる際には、流体ナイフ５は、搬送装置４により搬送された基板１００の上面及び下面に、薬液及び気体を混合させた流体を噴射し、基板１００の表面を薬液で濡らす。
【００４６】
また、処理装置１を乾燥工程に用いる際には、流体ナイフ５は、搬送装置４により搬送された基板１００の上面１００ａ及び下面１００ｂにエアー（気体）を噴射し、洗浄工程で付着した流体を吹き飛ばす。
【００４７】
処理装置１は、このような基板１００の処理に用いられると、流体ナイフ５から噴射する薬液や、基板１００上から吹き飛ばした洗浄液等の不純物が、その流体が噴射されるスリット部４１に付着する。この付着した不純物を、清掃部材３７により清掃する。次に、処理装置１の、流体ナイフ５の清掃について説明する。
【００４８】
流体ナイフ５の清掃を行う場合には、先ず、案内レール３６に清掃部材３７を装着する。具体的には、上部流体ナイフ３０の清掃を行う場合には、図３に示すように、上部流体ナイフ３０のレール部４４に、本体部４６の湾曲する一端を引き掛けることで、清掃部材３７を案内レール３６に載置させる。また、清掃部材３７は、例えば案内レール３６の一端側に配置させる。
【００４９】
次に、清掃部材３７の清掃体４７の先端を上部流体ナイフ３０のスリット部４１挿入させる。スリット部４１に清掃体４７を挿入させた状態で、清掃部材３７を案内レール３６に沿って移動させる。これにより、清掃体４７は、その先端がスリット部４１の延設方向に沿ってスリット部４１内を移動し、スリット部４１に付着した不純物を除去することが可能となる。
【００５０】
このように、付着した不純物が除去できるまで、レール部４４に沿って清掃部材３７を往復動させて、スリット部４１内を清掃体４７により清掃する。
【００５１】
次に、下部流体ナイフ３１の清掃を行う場合には、図４に示すように、上部流体ナイフ３０の案内レール３６に清掃部材３７を装着した状態で、清掃体４７の先端を、下部流体ナイフ３１のスリット部５５に挿入させる。この状態で、清掃部材３７を案内レール３６に沿って移動させることで、スリット部５５内を清掃体４７の先端が移動し、スリット部５５に付着した不純物を除去することが可能となる。
【００５２】
このように構成された処理装置１によれば、案内レール３６により案内されて移動した清掃部材３７の清掃体４７により、スリット部４１，５５の清掃ができるため、スリット部４１，５５に挿入される清掃体４７の先端の長さは、各位置において略同一長さとなる。これにより、流体ナイフ５のスリット部４１，５５は、均一に清掃することができることとなる。
【００５３】
また、処理装置１は、処理槽３内に、搬送装置４及び流体ナイフ５が設けられる構成であり、流体ナイフ５は、搬送装置４の左右方向に渡って設けられる構成であるため、その清掃のための作業スペースは限られる。しかし、処理装置１は、スリット部４１，５５の清掃において、清掃体４７をスリット部４１，５５に挿入した状態で清掃部材３７を案内レール３６に沿って移動させるだけで良い。
【００５４】
このため、スリット部４１，５５の清掃作業は、作業スペースが狭い処理装置１であっても、作業者が無理な姿勢をとる必要がなく、確実にスリット部４１，５５の清掃を行なうことが可能となる。このように、処理装置１は、流体ナイフ５のスリット部４１，５５の清掃の作業性が向上することとなる。
【００５５】
特に、このような清掃部材３７は、大きな基板１００に用いられる等のその長さが長い流体ナイフ５に有効である。例えば、このような長い流体ナイフ５を清掃する場合には、搬送装置４の左右の一方から、先ず流体ナイフ５の中途部まで清掃部材３７を移動させる。
【００５６】
次に、作業者が搬送装置４の左右の他方から、流体ナイフ５の中途部から清掃部材３７を移動させれば、流体ナイフ５のスリット部４１，５５に沿って、均一に清掃が可能となる。このように、その長さが長い流体ナイフ５であっても、作業者の負担を増大させることなく、容易に流体ナイフ５のスリット部４１，５５を清掃可能な処理装置１を提供できる。
【００５７】
また、清掃体４７は、スリット部４１にその先端が案内される（近接する）ように、曲折部４９を設けることで、清掃部材３７をレール部４４に沿って移動させる際に、スリット部４１への清掃体４７の挿入状態を維持するために、清掃部材３７を常時押さえる必要がない。
【００５８】
即ち、清掃体４７は、曲折部４９によりスリット部４１へ近接するように案内されるため、清掃体４７のスリット部４１への挿入を容易とし、且つ、スリット部４１からの脱離を防止することが可能となる。これにより、作業者の作業性を向上させることが可能となる。また、上述したようなスリット部４１を均一な深さで清掃することができ、清掃をより確実に行なうことが可能となる。
【００５９】
上述したように本実施の形態に係る処理装置１によれば、流体ナイフ５に、そのスリット部４１，５５に沿って延設されたレール部４４に案内されて移動可能なスリット部４１，５５を清掃する清掃部材３７を備えることで、容易、且つ、均一にスリット部４１，５５を清掃することができる。
【００６０】
また、処理装置１によれば、清掃部材３７及び案内レール３６を用いることで、大判の基板１００に用いる大型の流体ナイフ５や、作業スペースが狭い処理装置１であっても、作業性を向上させ、作業者の負担を軽減できる。
【００６１】
なお、本発明は前記実施の形態に限定されるものではない。例えば、上述した例では、清掃体４７は、曲折部４９を有する構成としたがこれに限定されない。例えば、図５に示すように、曲折部４９を有さない構成の清掃体４７Ａであっても良い。このように曲折部４９を有さない清掃体４７Ａとすることで、上述したスリット部４１へのその先端の案内の効果は有さない。
【００６２】
しかし、清掃部材３７をレール部４４に装着した際に、清掃体４７がスリット部４１へ近接しないため、清掃部材３７をレール部４４に装着した状態で流体ナイフ５を使用しても、スリット部４１から噴射する流体に清掃体４７が干渉することを防止できる。このため、清掃部材３７を常時装着することも可能となる。
【００６３】
また、上述した例では、案内レール３６は、上部流体ナイフ３０の側面に設ける構成を説明したが、これに限定されない。例えば、上部流体ナイフ３０だけでなく、下部流体ナイフ３１に設けても良い。また、案内レール３６は、流体ナイフ５の側面でなく、例えば、流体ナイフ５を処理槽３上に固定する固定部に設けてもよく、搬送装置４上に流体ナイフ５に沿って設ける構成であってもよい。
【００６４】
即ち、案内レール３６は、清掃部材３７を案内して移動させた際に、流体ナイフ５のスリット部４１，５５に均一に清掃体４７を挿入可能、且つ、スリット部４１に沿って設けられていればよい。
【００６５】
さらに、上述した例では、流体ナイフ５は、上部流体ナイフ３０及び下部流体ナイフ３１を有する構成としたがこれに限定されない。例えば、流体ナイフ５は、図５に示すように、上部流体ナイフ３０のみを有する構成であってもよく、また、図示しないが、下部流体ナイフ３１のみを有する構成であってもよい。この他、本発明の要旨を逸脱しない範囲で種々変形実施可能である。
【符号の説明】
【００６６】
１…処理装置、３…処理槽、４…搬送装置、５…流体ナイフ、１０…搬入口、１１…搬出口、１３…搬送ローラ、１４…駆動手段、１６…連続ローラ軸、１７、１８…分断ローラ軸、１９…接触ローラ、２１…駆動源、２１ａ…回転軸、２２…第１プーリ、２３…第１ベルト、２４…第２プーリ、２５…第２ベルト、２６…第３プーリ、２７…第３ベルト、３０…上部流体ナイフ、３１…下部流体ナイフ、３５…ナイフ本体、３６…案内レール、３７…清掃部材、３８、３９…板状部材、４０…導入部、４１…スリット部、４３…固定部、４４…レール部、４６…本体部、４７…清掃体、４７Ａ…清掃体、４８…固定部、４９…曲折部、５１…ナイフ本体、５２、５３…板状部材、５４…導入部、５５…スリット部、１００…基板。
【特許請求の範囲】
【請求項１】
処理槽内を搬送装置により搬送される基板の表面に流体を噴射して処理を行う処理装置であって、
前記処理槽内を搬送させる前記基板の表面に対向して配置され、前記基板の上面又は下面の少なくとも一方に前記流体を噴射するスリット部を有する流体ナイフと、
前記スリット部の長手方向に沿って延設された案内レールと、
前記流体ナイフのスリット部にその先端が挿入可能に形成された清掃体を有し、前記案内レールに沿って移動可能に形成された清掃部材と、
を備えることを特徴とする基板の処理装置。
【請求項２】
前記清掃体は、その先端を前記スリット部に近接させる曲折部を有することを特徴とする請求項１に記載の基板の処理装置。
【請求項３】
前記流体ナイフは、前記基板の上面に前記流体を噴射する上部流体ナイフ及び前記基板の下面に前記流体を噴射する下部流体ナイフを具備し、
前記案内レールは、前記上部流体ナイフ又は前記下部流体ナイフの一方に固定され、
前記清掃部材は、前記清掃体の先端が、前記上部流体ナイフ及び前記下部流体ナイフにそれぞれ設けられた前記スリット部に挿入可能に形成されていることを特徴とする請求項１に記載の基板の処理装置。
【請求項１】
処理槽内を搬送装置により搬送される基板の表面に流体を噴射して処理を行う処理装置であって、
前記処理槽内を搬送させる前記基板の表面に対向して配置され、前記基板の上面又は下面の少なくとも一方に前記流体を噴射するスリット部を有する流体ナイフと、
前記スリット部の長手方向に沿って延設された案内レールと、
前記流体ナイフのスリット部にその先端が挿入可能に形成された清掃体を有し、前記案内レールに沿って移動可能に形成された清掃部材と、
を備えることを特徴とする基板の処理装置。
【請求項２】
前記清掃体は、その先端を前記スリット部に近接させる曲折部を有することを特徴とする請求項１に記載の基板の処理装置。
【請求項３】
前記流体ナイフは、前記基板の上面に前記流体を噴射する上部流体ナイフ及び前記基板の下面に前記流体を噴射する下部流体ナイフを具備し、
前記案内レールは、前記上部流体ナイフ又は前記下部流体ナイフの一方に固定され、
前記清掃部材は、前記清掃体の先端が、前記上部流体ナイフ及び前記下部流体ナイフにそれぞれ設けられた前記スリット部に挿入可能に形成されていることを特徴とする請求項１に記載の基板の処理装置。
【図１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【公開番号】特開２０１２−６１３９１（Ｐ２０１２−６１３９１Ａ）
【公開日】平成２４年３月２９日（２０１２．３．２９）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２０１０−２０６０１０（Ｐ２０１０−２０６０１０）
【出願日】平成２２年９月１４日（２０１０．９．１４）
【出願人】（０００００２４２８）芝浦メカトロニクス株式会社 (907)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２４年３月２９日（２０１２．３．２９）
【国際特許分類】
【出願日】平成２２年９月１４日（２０１０．９．１４）
【出願人】（０００００２４２８）芝浦メカトロニクス株式会社 (907)
【Ｆターム（参考）】
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