【課題】広いダイナミックレンジで、高速かつ高精度なレーザエネルギー制御を行う。
【解決手段】シングルまたはマルチ縦モードレーザ光を出力する再生増幅器９、プリアンプＰＡおよびメインアンプＭＡと、再生増幅器９、プリアンプＰＡおよびメインアンプＭＡの増幅ラインの範囲において、シングルまたはマルチ縦モードレーザ光が発振可能で該シングルまたはマルチ縦モードレーザ光を再生増幅器９、プリアンプＰＡおよびメインアンプＭＡに入力する半導体レーザ４であるマスタオシレータと、半導体レーザ４から出射されるシングルまたはマルチ縦モードレーザ光の波長が再生増幅器９、プリアンプＰＡおよびメインアンプＭＡの増幅ラインに一致するようにマスタオシレータを波長制御するとともに、シングルまたはマルチ縦モードレーザ光のパルス波形および／またはパルス出力タイミングを調整する波形制御を行う半導体レーザシステム８と、を備える。 （もっと読む）

【課題】パルス発振する固体レーザのパルス列を任意の周波数で変調可能であり、且つジャイアントパルスの発生やレーザダイオードの短寿命化を防止する固体レーザ発振装置及び固体レーザ出力パルスの変調方法を提供する。
【解決手段】レーザダイオード電源２と、Ｑスイッチ６をオンオフ制御するＱスイッチドライバ５と、レーザダイオード電源２による電力供給とＱスイッチドライバ５によるＱスイッチドライブ信号の生成とを制御する電源制御器１ａとを備え、電源制御器１ａは、出力パルスを変調させる際に、変調周波数に応じてＱスイッチドライバ５によるＱスイッチドライブ信号の生成を所定期間毎に停止させるとともに、Ｑスイッチドライブ信号の生成停止期間にレーザダイオード電源２からレーザダイオード３に供給される電流の値が０より大きな第１所定値に下がるようにレーザダイオード電源２を制御する。 （もっと読む）

【課題】ＰＩ制御による遅れ動作を解消し、高速なレーザ光の制御を可能とする。
【解決手段】電源１、励起ランプ７、スイッチング素子３、スイッチング素子の駆動回路１６、駆動回路を制御する電力制御回路３０、レーザ出力検出部１１と、電圧及び電流の検出部１２、電力制御回路３０に電力基準信号Ｐ^＊を供給する電力基準信号生成回路を備える。電力基準信号生成回路は、レーザ出力基準回路３２、フィードフォワード信号ＰＦとエラー信号ｅとを加算して電力基準信号Ｐ^＊を求める加算器３５を備える。ＰＩ制御増幅器３６は、レーザ基準信号Ｌ^＊とレーザ光信号ＳＬに基づいてエラー信号ｅを生成する。積分回路３７はエラー信号ｅを積分し、積分回路４０はフィードフォワード信号ＰＦを積分する。演算回路３８は補正分の比率を演算し、演算した補正分の比率が０になるようにフィードフォワード信号ＰＦを補正する。 （もっと読む）

【課題】安定度がすぐれ、高品質で、従来のものにくらべ格段に強度の高い強光電磁場を発生することができる強光電磁場発生器を提供する。
【解決手段】チャープパルス増幅を利用した光発振器内に設けた強光電磁場発生器は、光発振器が、広帯域あるいは複数の帯域に対する光エネルギー変換能を有し、光共振器から発振する発振光への光エネルギー変換を行う光増幅媒体１と、前記発振光であるパルス光に対して負の分散を与える負の分散素子２と、前記パルス光に対してモード同期作用を与えるモードロック部３と、前記パルス光に対して正の分散を与える正の分散素子４と、光学系と、少なくとも負の分散素子２、モードロック部３、および正の分散素子４を内部に収容する真空チャンバー１１とを備え、負の分散素子２または正の分散素子４からのパルス光を取り込み、強光電磁場発生点（マイクロフォーカスポイント）２８を真空チャンバー１１内に形成させる。 （もっと読む）

【課題】レーザ加工を行わない待機中はレーザ発振を止めておきながらパルス状のファイバレーザ光の立ち上がりでの異常な高ピークパルスの発生を効果的に防止する。
【解決手段】このファイバレーザ加工装置では、ファイバレーザ光ＦＢの出力が、実質的に零またはその近辺の値からレーザ加工に実質的に影響しない程度の前置レベルまで立ち上がり、該前置レベルまでへの立ち上がりを開始した時(図３の時点ｔ₁）から第１の時間（前置パルス幅Ｔ_B）を経過した後（図３の時点ｔ₂）に前置レベルＰ_Bからレーザ加工用の所望レベル（Ｐ_A）まで立ち上がるように、パワーフィードバック制御方式でＬＤ駆動電流Ｉ_LDを制御し（図３の（ｅ））、これによってファイバレーザ光ＦＢの立ち上がりに際して高ピークパルスＨＰの発生を効果的に防止する（図３の（ｆ））。 （もっと読む）

本発明は、原子ガスが充填されるガスセル４００と、前記ガスセル４００に入り、前記原子ガスの第１エネルギ遷移を引き起こすレーザビームを放射するレーザ光源１００と、前記原子ガスのＨＦＳ遷移の周波数を含む周波数レンジ内の発振器周波数を生成するための局部発振器７００と、前記発振器周波数で変調されたレーザ光線を放射するように前記レーザ光源１００を変調する変調器６００とを有する原子周波数取得装置に関する。前記ガスセル４００の後ろには、前記レーザビームを、前記原子ガス通過後に、前記レーザキャビティに再び入るように反射するよう、光学反射器５００が配設される。光検出器２００は、前記レーザキャビティ内の自己混合干渉によってもたらされるうなり周波数を検出する。制御ユニット７５０、８００は、前記発振周波数を２つの周波数マージンの間で周期的に変化させるように前記局部発振器を制御し、前記２つの周波数マージンは、前記光検出器２００の出力信号における最大うなり周波数が前記２つの周波数マージン内にあるように適合される。提案装置は、一体化されたフォトダイオードを備えるＶＣＳＥＬを用いることによって、小型化及びコスト削減を可能にし、検出の問題のより少ない動作を達成する。
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【課題】励起半導体レーザ、ファイバーレーザ、ＳＨＧ結晶（光波長変換素子）からなるＳＨＧレーザをパルス駆動する際、立ち上がり時にファイバーレーザで発生するサージによりＳＨＧ結晶が破損するのを防止すること。
【解決手段】ＳＨＧレーザ２を駆動するＰＷＭ信号の立ち上がりエッジにおいて、半導体レーザ２１が発光を始めるしきい値の前後に相当する信号レベルの区間の立ち上がりに傾斜をつけ、この傾斜の値を立ち上がり制御手段６で調整できるようにする。立ち上がり制御手段６は、光出力検出手段３の光出力を受けて、サージ検出手段４でサージが検出されない時は、調整信号発生手段５で一定周期、一定割合で大きくしていく傾斜値を生成し、サージが検出されるとサージ検出直前の傾斜値を出力するように動作する。 （もっと読む）

【課題】レーザ出力を基準波形に一致させることが出来るレーザ発振器の出力補正方法を提供することを目的とする。
【解決手段】励起用ランプ（１）を駆動する投入電流駆動回路（１３）に入力する電流信号：Ｉ（ｎ）を、基準光量値：Ｌｓ（ｎ）とレーザ出力光量値：Ｌｂ（ｎ）との差に応じた量：ΔＰ（ｎ）と、積算基準光量値：ΣＬｂ（ｎ）と積算レーザ出力光量値：ΣＬｓ（ｎ）の差に応じた量：ΔＪ（ｎ）と、あらかじめ定めた形状の基準電流値：Ｉｓ（ｎ＋１）に基づいて演算することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】ディスプレイ用の光源にレーザーを用いることが提案されているが、緑色光源に用いられる内部共振器型のＳＨＧレーザーにおける出力変動を抑える手段としては高精度な温度制御やエタロンなどの光学デバイスを用いるのが一般的であり、光源装置としての大きさの増大と高コスト化というデメリットが生じていた。
【解決手段】ディスプレイ装置内に具備された画像変換デバイスに与えられる映像信号のフレームレートの整数倍のタイミングで内部共振器型ＳＨＧレーザーの出力低下時間を挿入することで内部共振器型ＳＨＧレーザーの出力安定化が実現される。 （もっと読む）

システムおよび方法は、異なるパルス繰り返し周波数（ＰＲＦ）でレーザパルス均等化を提供する。初めにレーザ媒質を第１ポンピングレベルからピークポンピングレベルへポンピングした後、コントローラはポンプ源にレーザ媒質のポンピングをパルス均等化ポンピング曲線に基づき継続させることができる。均等化ポンピング曲線は、異なるＰＲＦにおいてレーザパルスパラメータをテストすることに基づき定めることができ、これによりパルスパラメータの最適な均等化結果を得ることができる。様々な均等化ポンピング曲線を評価するために用いる最適化指標には、異なるＰＲＦの下におけるパルスエネルギーレベルの一貫性、ピークパワーレベル、および／またはレーザのパルス幅が含まれる。均等化ポンピング曲線は、ピークポンピングレベルから第１ポンピングレベルに降下する曲線であってもよい。均等化ポンピング曲線は、線形に減少する曲線、実質的に指数的に減少する曲線、パラメトリックに減少する曲線、またはその他任意種類の曲線であってもよい。 （もっと読む）

【課題】 光ネットワークの適用範囲の拡大や複雑化に伴い、バースト信号入力に対して過渡応答の小さな高速光増幅器が必要とされている。従来の技術では、応答速度が十分でないため、入力光の波形を保てないことが課題となっていた。
【解決手段】 本発明の光増幅器は、第一の入力モニタ手段５５０と、第二の入力モニタ手段５６０と、光増幅媒体３００を含む光増幅手段３１０と、光遅延手段９００と、フィードフォワード制御を行うための制御手段４００と、高速出力可変手段６１０とを含み、入力モニタ手段５００の信号に応じて前記光増幅手段を前記フィードフォワード制御により制御する際に、制御信号をオーバシュート信号にすることで、前記光増幅媒の応答性能を改善し、高速応答性能を実現した。さらに光出力モニタ７００の信号を利用して、高速出力可変手段６１０の高速フィードバック制御を同時に行うことにより、高速かつ安定な光増幅器を実現した。 （もっと読む）

【課題】ユーザにとっての利用価値を高めることが可能なレーザマーキング装置を提供する。
【解決手段】レーザマーカ制御部２０Ａは入力部２５を介して印字設定情報を受けるとともに、その情報に基づいてパルス駆動部３０を制御することによりパルス駆動部３０から出力される電流パルスのパルス幅および繰返し周波数を制御する。これにより半導体レーザ２から発せられるシード光（光パルス）の繰返し周波数およびパルス幅が制御される。光ファイバ８から出力される光パルスの繰返し周波数およびパルス幅は、半導体レーザ２から発せられる光パルスの繰返し周波数およびパルス幅にそれぞれ依存する。すなわちレーザマーカ制御部２０Ａは印字設定情報に基づいて光ファイバ８から出力される光パルスの繰返し周波数およびパルス幅を制御する。 （もっと読む）

【課題】レーザ装置やミラー、レンズ等の光学素子の過大なコスト増を抑制しながら、Ｘ線輝度の増大（すなわちＸ線出力の増大）を図ることのできる高輝度Ｘ線発生装置および方法を提供する。
【解決手段】電子ビームとパルスレーザ光とを衝突させて逆コンプトン散乱によりＸ線を発生させる高輝度Ｘ線発生装置。それぞれパルスレーザ光３ａ，３ｂを所定の周期で出射する複数のパルスレーザ装置３２Ａ，３２Ｂと、複数のパルスレーザ光の光路を一致させる光路整合装置３４と、パルスレーザ装置と光路整合装置のタイミングを制御するタイミング制御装置４０とを備え、複数のパルスレーザ光を同一の光路からタイミングをずらして出射する。 （もっと読む）

【課題】
レーザの高出力化及び高繰り返し化を実現する２ステージレーザのパルスエネルギー制御を高精度に行い、パルスエネルギーを安定化させる。
【解決手段】
制御部は、今回パルスで動作させる増幅段の励起強度（充電電圧）を、今回パルスで目標とするパルスエネルギーと、前回パルスまでにその増幅段を動作させて出力したパルスエネルギーと、そのパルスエネルギーを出力したときにその増幅段に供給された励起強度と、を用いて求め、求めた励起強度が今回パルスで動作させる増幅段に供給されるように制御する。 （もっと読む）

【課題】光信号源の変調帯域が光信号のビットレートよりも小さい場合でも、直接変調方式により伝送を行うことを可能にする。
【解決手段】光変調光源は、多値の信号強度を有する電気信号により駆動され、多値の周波数で光周波数変調された光信号を生成する光信号源１０２と、光周波数変調された光信号を２値の振幅変調された光信号に変換する光弁別器１０３とを備えた。光変調光源は、２値の信号強度を有する電気信号を、多値の信号強度を有する電気信号に変換し、光信号源１０２を駆動する変換手段１０１をさらに備えることもできる。 （もっと読む）

【課題】アルミ系金属材料に対して、スパッタやクラック等の溶接欠陥なく深い溶け込みを実現でき、高速にパルスシーム溶接できるレーザ装置を提供する。
【解決手段】当該レーザ装置は、ＹＡＧパルスレーザ発振器１に所望のパルス幅のパルスレーザ光を発振させるための電流信号を生成するとともに、その電流信号に含まれる変動成分をマスクするためのマスク信号を生成して、そのマスク信号により変動成分がマスクされた電流信号をＹＡＧパルスレーザ発振器１へ供給するパルス電源５を備える。また、ＣＷレーザ発振器６において発振したＣＷレーザ光のスポット形状を菱形流線形状にし、そのＣＷレーザ光の集光スポットに、パルスレーザ光の円形状の集光スポットを内包させる。 （もっと読む）

【課題】出力パルスのパルス幅が狭くなり、より加工等に適したレーザ光を発生させることが可能なパルス発生装置の提供。
【解決手段】Ｑスイッチにより光パルスを発生する装置であって、共振器内に、発生する光パルスの出力がピークを超えた後に、共振器内の損失を増加させる機構と、共振器内の利得を減少させる機構とのいずれか一方又は両方を有することを特徴とする光パルス発生装置。 （もっと読む）

【課題】パルス出力を１ｓｔパルスから一定とし得るファイバ・パルスレーザ装置のパルス出力制御方法の提供。
【解決手段】ＭＯ部とＰＡ部とを連結したＭＯ−ＰＡ方式のファイバ・パルスレーザ装置におけるパルス出力を制御する方法であって、ＰＡ部の起動よりもＭＯ部の起動を先に行う起動シーケンスを含むことを特徴とするファイバ・パルスレーザ装置のパルス出力制御方法。 （もっと読む）

システム及び方法は、材料加工のためのレーザパルス列を生成する。一実施の形態においては、連続波（ＣＷ）又は準ＣＷレーザビームから、高い繰返し速度の安定したレーザパルス列が生成される。レーザパルス列の１つ以上のレーザパルスを整形して、ターゲット材料に供給されるエネルギーを制御してもよい。他の実施の形態においては、単一のレーザパルス、ＣＷレーザビーム又は準ＣＷレーザビームから、複数のレーザビームが複数の加工ヘッドに分配される。このような実施の形態の１つでは、単一の光偏向器が、各加工ヘッドに亘って複数のレーザビームを分配する。 （もっと読む）

【課題】発振段レーザ（ＭＯ）から出力されたビームを効率よく増幅段レーザ（ＰＯ）に注入することができるようにすること。
【解決手段】狭帯域発振段レーザ（ＭＯ）１０と共振器を配置した増幅段レーザ（ＰＯ）２０とからなる注入同期式放電励起レーザ装置において、狭帯域発振段レーザ（ＭＯ）１０と増幅段レーザ（ＰＯ）２０の間にＭＯビーム転写器５を設ける。ＭＯビーム転写器５は、狭帯域発振段レーザ（ＭＯ）１０のＭＯレーザ光の出口近傍におけるビームを転写して、このビーム転写像を増幅段レーザ（ＰＯ）２０の共振器の注入部に結像させる。これにより、発振段レーザ（ＭＯ）からのシード光を効率よく増幅段レーザ（ＰＯ）に注入することができ、また、上記シード光の方向に変動があっても注入効率は変動を少なくすることができる。 （もっと読む）