【課題】より高い平坦性を有する平坦化物が得られる平坦化物の製造方法、平坦化物、及び被処理面の平坦化方法を提供する。
【解決手段】少なくとも基材１を有する平坦化物の製造方法であって、近接場光４ａ，４ｂ，４ｃを用いて被処理面をエッチングする近接場エッチング処理工程を有する平坦化物の製造方法とする。また、平坦化物は、この平坦化物の製造方法で製造される。さらに、被処理面の平坦化方法は、近接場光を用いて被処理面をエッチングすることにより、この被処理面２の最大突起５ａ，５ｂ，５ｃ長（Ｒｍａｘ）を１０ｎｍ以下とする。 （もっと読む）

【課題】基板と、前記基板上に形成された透明電極膜とを備える透明電極膜付基板における透明電極膜の改質方法において、基板の熱劣化や熱ひずみを十分に抑制しつつ、透明電極膜の抵抗率を短時間で効率よく且つ十分に低下させることが可能な透明電極膜の改質方法を提供すること。
【解決手段】基板と、該基板上に形成された透明電極膜とを備える透明電極膜付基板における透明電極膜の改質方法であって、前記透明電極膜にフラッシュランプを用いて光パルス持続時間が０．１〜１０ｍｓｅｃのフラッシュ光を照射して前記透明電極膜を加熱することによりアニール処理を施すことを特徴とする透明電極膜の改質方法。 （もっと読む）

【課題】ＭＯＣＶＤ装置の噴射孔の閉塞を防ぎ、酸化亜鉛（ＺｎＯ）系透明導電膜の連続的な製膜を可能とする方法を提供する。
【解決手段】有機金属化学気相蒸着法に基づき、基板上に製膜原料を噴射する噴射孔２５ａを備えたＭＯＣＶＤ装置２を用いて、一定量の不純物を含有するジエチル亜鉛（Ｚｎ（Ｃ_２Ｈ_５）_２）と、ジボラン（Ｂ_２Ｈ_６）と、水（Ｈ_２Ｏ）とからなる製膜原料を、気相で反応させると共に、上記噴射孔２５ａから基板に向けて噴射させることにより、ｎ型の酸化亜鉛（ＺｎＯ）系透明導電膜を上記基板上に製膜する透明導電膜の製造方法であって、上記不純物として含まれるアルミニウム（Ａｌ）の含有量が、１０ｗｔｐｐｍ未満であるジエチル亜鉛（Ｚｎ（Ｃ_２Ｈ_５）_２）により製膜する。 （もっと読む）

【課題】酸化亜鉛透明導電酸化物層上に低屈折率のカーボン膜を形成することで、光線透過率は向上するが、水分や空気に対する耐久性は向上しない。また、有機珪素化合物層を酸化亜鉛透明導電酸化物層上に直接形成しようとしても、大面積では均一に形成することが困難であったが，それを解決する透明導電膜の製造方法を提供する。
【解決手段】透明基板１上に透明導電酸化物層２／カーボン層３のさらにその上に、有機珪素化合物層４を形成することで、水分や空気に対する耐久性の向上が可能となり、さらに大面積にした場合も均一に作製することができる。 （もっと読む）

【課題】ガラス基板を用いた透明導電性基板等のように、透明基板の破損が容易に生じないように、透明基板の破壊強度を向上させる透明基板の成膜方法を提供する。
【解決手段】透明基板に成膜を行う際、少なくとも対向する２辺のエッジ部分が面取りされている透明基板に対して、５００℃以上の温度条件下、形成される膜が他方の面と接続されるエッジ部分の面取り領域の接続部分まで延在するようにＣＶＤ処理を行う。 （もっと読む）

【課題】透明基板上に透明導電酸化物層を有する透明導電膜において、導電性を低下させずに光線透過率が向上する透明導電膜を提供する。
【解決手段】少なくとも１層からなる透明導電酸化物層１上に、該透明導電酸化物の片面または両面にはカーボン層２が形成され、該カーボン層が、メタン・二酸化炭素・水素のうちから選択した１種類以上のガスを用いて高周波プラズマＣＶＤ法により製膜され、且つ各ガスの体積が下式のいずれか１つを満たすことを特徴とする透明導電膜の製造方法。
０．７≦メタン／（メタン＋水素）≦１．０
０．６≦メタン／（メタン＋二酸化炭素）≦１．０
０．０４≦二酸化炭素／（水素＋二酸化炭素）≦０．１０ （もっと読む）

【課題】 金属酸化物を用いた透明導電膜では、光学設計の為に低屈折率材料を中間にはさんで使用する技術があったが、従来の低屈折率材料は絶縁体であり、低抵抗透明導電膜の形成に課題があった。また低屈折率のカーボン層は厚膜とすると耐衝撃性に課題があった。
【解決手段】 屈折率が１．４０〜１．８０を示す、低屈折率のカーボン層と酸化亜鉛透明導電酸化物層とを交互積層した透明導電性中間層を透明金属酸化物層の中間層に使用することで、導電性・透明性・耐衝撃性に優れた透明導電膜を作製することができる。 （もっと読む）

【課題】タッチパネルやＰＤＰ，ＬＣＤやエレクトロルミネッセンス（ＥＬ）ディスプレイ材料等に用いられる透明電極の材料において、高い耐環境変動と高い光線透過率を同時に達成可能な透明導電膜とその製造方法を提供する。
【解決手段】屈折率が１．３５〜１．７０を示す、低屈折率のカーボン層３を透明金属酸化物層４の中間層に使用し、さらにその上に極薄膜厚の透明金属酸化物層を形成することで、「導電性」「透明性」という課題を解決することが可能な透明導電膜を作製することができる。 （もっと読む）

【課題】ペン書き耐久性を高めるとともに、ペンでの書き心地を改善する透明導電性フィルム、透明導電性フィルムの製造方法、タッチパネル及びその製造方法を提供することである。
【解決手段】透明基材と、透明基材上の一方の面に形成されたクッション層と、クッション層上に形成されたハードコート層と、透明基材上のもう一方の面に形成された第１の透明導電膜と、を備え、クッション層の弾性係数は１０^４Ｎ／ｍ^２以上１０^６Ｎ／ｍ^２以下であり、クッション層の層厚は１μｍ以上５０μｍ以下であることを特徴とする請求項１に記載の透明導電性フィルム。 （もっと読む）

【課題】優れた導電性を有する導電層を高精細なパターンにて形成し、高性能な抵抗膜式のタッチパネルを得る。
【解決手段】酸化物セラミックス、非酸化物セラミックス及び金属からなる群から選ばれる少なくとも１種を主成分として含有する透明多孔質層を備えた透明性樹脂基材の該透明多孔質層面に、体積平均粒子径が１ｎｍ〜２μｍである導電性粒子の表面に界面活性剤が吸着された粉末を含む導電性ペーストを用いて幾何学パターンを形成する印刷工程と、
該透明性樹脂基材上に形成された導電性ペーストを加熱処理して該透明多孔質層面に幾何学パターンの導電部を形成する工程により、透明導電性フィルムを製造する。 （もっと読む）

【課題】高い耐環境変動性と高い光線透過率とを同時に達成可能な透明導電膜とその製造方法を提供する。
【解決手段】透明導電膜は、透明基板（１）上において１層以上の透明導電層（２）と、その上の複数層の水素含有カーボン層（３、４）とを含み、透明導電層の少なくとも１層は酸化亜鉛を含み、水素含有カーボン層の少なくとも２層はその構造と組成との少なくともいずれかにおいて互いに異なっており、１層以上の透明導電層が堆積された透明基板の光線透過率をＴ₀としかつ複数層の水素含有カーボン層まで堆積された透明基板の光線透過率をＴ₁とした場合に波長５５０ｎｍの光に関してＴ₁／Ｔ₀≧１．０２の関係が成り立つことを特徴としている。 （もっと読む）

【課題】光透過性、電気伝導度、機械的特性などの性能において優れた電極、透明導電膜、及びそれらの製造方法を提供する。
【解決手段】線径が０．１〜２００ｎｍである導電線材のネットワーク構造を有する電極であって、前記導電線材の結合箇所の電気抵抗が、前記導電線材の電気抵抗の１〜１００倍である。また、前記導電線材の面密度が１〜１０００本／μｍ2であり、かつ前記導電線材の結合箇所の数が１〜１０００個／μｍ2であることを特徴とする電極。線材として利用可能な材料の具体例としては金属ナノワイヤー、カーボンナノチューブ、導電性高分子、このほか、導電性を示し、かつ概ね一次元的な構造を形成できる物質であれば、どのようなものであっても適用できる。 （もっと読む）

【課題】１×１０^-4Ωｃｍ未満の抵抗率を有する低抵抗ＩＴＯ薄膜とその製造方法等を提供する。
【解決手段】低電圧スパッタリング法、酸素クラスタービーム援用蒸着法、ＣＶＤ法、有機金属ＣＶＤ法、有機金属ＣＶＤ−原子層積層法、及びＭＢＥ（分子線エピタキシー）法のうちから選ばれる成膜法を用いて結晶性基板上に形成する低抵抗ＩＴＯ薄膜の製造方法であって、
結晶性基板の最表面の結晶性配列が、Ｉｎ₂Ｏ₃の結晶構造と適合するものであることを特徴とする低抵抗ＩＴＯ薄膜の製造方法。 （もっと読む）

【課題】発光体パターニング工程で、印刷精度が低下せず歩留まり良好で、薄型ＥＬ発光素子を提供できる透明導電フィルム積層体。
【解決手段】透明電極層を有する透明フィルム３からなる透明導電フィルム１２が、微粘着層２を有する基材フィルム１からなる微粘着フィルム１１により貼合されている透明導電フィルム積層体であり、該積層体の厚さが５０〜２００μｍで、該透明フィルムの厚さが５〜５０μｍで、かつ、該積層体を無加重下１３０℃・６時間加熱したときの該微粘着層中に存在する面積０．０１ｍｍ^２以上の気泡の数が０〜５００個／ｍ^２。該積層体は、該透明フィルムと、該基材フィルムとを、該微粘着層で貼合せた後に、ロール状あるいは加重下で、３０〜１００℃で、６〜７２時間熱処理を行うことにより、該微粘着層中の気泡を脱気して製造する。電界発光素子は、該積層体の透明導電フィルム層を剥がして得られる透明導電フィルムで構成されている。 （もっと読む）

【課題】酸化亜鉛膜の作製コストを低減させ、且つ低抵抗な透明導電膜を形成する方法を提供することを目的とする。
【解決手段】少なくとも支持基板１１と酸化亜鉛透明導電膜１２とを備える酸化亜鉛透明導電膜付き支持基板の製造方法であって、少なくとも、該支持基板上１１にＭＯＣＶＤ（有機金属化学蒸着）法により酸化亜鉛透明導電膜１２を形成する酸化亜鉛透明導電膜形成工程と、該酸化亜鉛透明導電膜形成工程の後に該酸化亜鉛透明導電膜１２に対して２００℃未満で光照射処理を施す光照射工程とを備、酸化亜鉛透明導電膜付き支持基板の製造方法。 （もっと読む）

【課題】ＩＴＯ膜に迫る高い導電率の膜を高速成膜することができる。
【解決手段】透明導電膜を成膜するために用いられるＺｎＯ蒸着材において、ＺｎＯを主成分としたペレットからなり、ペレットがＣｅとＢの双方の元素を含み、ＣｅがＢよりも含有割合が高く、Ｃｅの含有割合が０．１〜１４．９質量％、Ｂの含有割合が０．１〜１０質量％の範囲内であることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】ＩＴＯ膜に迫る高い導電率の膜を高速成膜することができる。
【解決手段】透明導電膜を成膜するために用いられるＺｎＯ蒸着材において、ＺｎＯを主成分としたペレットからなり、ペレットがＰｒ、Ｎｄ、Ｐｍ及びＳｍからなる群より選ばれた１種又は２種以上の第１元素と、Ｂ、Ａｌ、Ｇａ及びＳｃからなる群より選ばれた１種又は２種以上の第２元素の双方を含み、第１元素が第２元素よりも含有割合が高く、第１元素の含有割合が０．１〜１４．９質量％、第２元素の含有割合が０．１〜１０質量％の範囲内であることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 透明導電膜は空気中に放置すると表面抵抗が上昇する傾向が有り、必要な特性を達成することが困難であった。
【解決手段】 「ガラス基板上に少なくとも１層以上からなる酸化亜鉛を主成分とする透明導電層を有する透明導電膜の製造方法において、該透明導電層は気相結晶成長法により作製され、該透明導電層の気相成長法による製膜時間の経過に伴いキャリアガス中の酸素濃度を増大させていくことを特徴とする透明導電膜の製造方法。」によって解決する。 （もっと読む）

【課題】 透明導電膜に用いる基板上に凹凸構造を形成するには、エッチングによるものや、スタンパを利用するものであるが、そのいずれも製造には高い技術とコストが必要であった。
【解決手段】 母材表面上にシリカよりなる微粒子が分散され付着されてなる母型または母材表面上にシリカよりなる微粒子が分散され付着されてなる原型を用いて製造されてなる母型とを用いて、該母型と基板前駆体の片面または両面とを互いにプレスする工程により、前記母型の表面形状を前記基板前駆体に転写して形成されてなる片面または両面に前記母型からの転写による凹凸構造を備える前記基板を製造することができ、容易に基板上に凹凸構造を形成することが可能となる。 （もっと読む）

【課題】 透明タッチパネル表面および透明導電膜について入力ペン等によって繰り返される摺動に対する耐久性を向上させ、また製造工程中の組立時や搬送時の歩留まり低下を抑えることのできる透明タッチパネルを提供する。
【解決手段】 片面に透明導電膜がそれぞれ形成された固定側および可動側の透明基板を透明導電膜どうしがスペーサーを介して対向するように配置させた透明タッチパネルが、可動側の透明基板の透明導電膜が形成された面と反対側に自己治癒性コート層を有する。 （もっと読む）