【課題】
光閉じ込め効果に優れたテクスチャが形成された透明導電層付き基板を提供する。
【解決手段】
導電性基板上に酸化亜鉛を主成分とする透明導電層が形成されてなる透明導電層付き導電性基板であって、 当該透明導電層は、酸化亜鉛を主成分とする第一の透明導電層と、酸化亜鉛を主成分とする第二の透明導電層とが順次積層されてなり、前記第一の透明導電層は、ＳＩＭＳで測定した原子濃度として、５×１０^１８個／ｃｍ^３以上、５×１０^２１個／ｃｍ^３以下の窒素原子を含み、前記第二の透明導電層は、ＳＩＭＳで測定した原子濃度として、２×１０^１９個／ｃｍ^３以上、２×１０^２１個／ｃｍ^３以下のホウ素原子を含み、かつ、２×１０^２０個／ｃｍ^３以上、８×１０^２１個／ｃｍ^３以下の水素原子を含む、透明導電層付き導電性基板、によって解決する。 （もっと読む）

【課題】透明導電膜のヘイズ率を高くしても、その表面の表面粗さの上昇を抑制できる透明導電膜付きガラス板を提供する。
【解決手段】ガラス板１１と、ガラス板１１上に形成された透明導電膜１５と、を備え、透明導電膜１５が透明導電層（透明導電層Ａ）１３と透明導電層（透明導電層Ｂ）１４を有し、透明導電層Ｂ１４が透明導電層Ａ１３の上に形成され、透明導電膜１５が複数の空孔１３ａ（１３ｂ）を含み、複数の空孔１３ａ（１３ｂ）の各々が、透明導電層Ａ１３の表面における凹部１３ｈを透明導電層Ｂ１４塞いだものである、透明導電膜付きガラス板１０、を提供する。透明導電膜ガラス板１０は、透明導電層Ａ１３の表面の一部の領域をエッチングによって膜厚方向に後退させるとともに、当該一部の領域を塞ぐように透明導電層Ａ１３の上に透明導電層Ｂ１４を形成することで得ることができる。 （もっと読む）

【課題】成膜中のストリーマの発生を抑制して、ストリーマ発生に起因する膜中へのパーティクルの混入を減少させ、抵抗率の劣化を好適に防止した低い抵抗率および良好な光学特性を有し、しかも、成膜面に適正な凹凸が無い場合でも、表面に好適なテクスチャ（凹凸）が形成された透明導電膜を、高い生産性で成膜することができる透明導電膜の製造方法を提供する。
【解決手段】電極対２２にプラズマ生成用電力を供給する電源回路として、単一周波数の正弦波を発振する電源、および、パルス制御素子３６を有する電源回路を用いる。 （もっと読む）

【課題】高真空容器を使用しない簡便な方法によって透明導電性非晶質膜を製造する方法、および導電性、透明性、及び表面平滑性が従来のスパッタリング法によって得られる膜と同等以上である透明導電性非晶質膜の提供。
【解決手段】亜鉛元素および錫元素を含む透明導電性非晶質膜の製造方法であって、加熱した基板に、亜鉛化合物および錫化合物を含有する霧状の溶液又は分散液を吹き付けて成膜することを特徴とする透明導電性非晶質膜の製造方法。 （もっと読む）

【課題】 低抵抗でかつ高透過率な透明電極膜を簡易な工程で製造する方法を提供すること。
【解決手段】 基体上に透明導電膜を形成する熱ＣＶＤ（化学気相成長）法であって、固体原料（Ｒ）を直接加熱により気化させる工程（Ｓ１）と発生した原料ガスを加熱基体に堆積させる工程（Ｓ２）により透明導電性酸化スズ（ＳｎＯ_２）膜（Ｐ）を得ることができる。この方法は、スプレーノズルや真空設備等を必要とせず大気下で成膜可能であり、簡易設備での高品位な導電性酸化スズ膜の製造を可能にする。 （もっと読む）

【課題】 基板と、前記基板上に形成された亜鉛と錫との複合酸化物からなる透明導電膜とを備える透明導電膜付基板における透明導電膜の改質方法において、基板の熱劣化や熱ひずみを十分に抑制しつつ、透明導電膜の抵抗率を短時間で効率よく且つ十分に低下させることが可能な透明導電膜の改質方法を提供すること。
【解決手段】 基板と、該基板上に形成された亜鉛と錫との複合酸化物からなる透明導電膜とを備える透明導電膜付基板における透明導電膜の改質方法であって、前記透明導電膜にフラッシュランプを用いて光照射量が２〜２５Ｊ／ｃｍ^２であるフラッシュ光を照射して前記透明導電膜を加熱することによりアニール処理を施すことを特徴とする透明導電膜の改質方法。 （もっと読む）

【課題】光透過率が高く、かつ電気抵抗が低い低抵抗透明導電性フィルム、この低抵抗透明導電性フィルムを安価にて製造することができ、しかも生産性に優れた低抵抗透明導電性フィルムの製造方法、及び、この低抵抗透明導電性フィルムを備えた太陽電池並びに電子機器を提供する。
【解決手段】本発明の低抵抗透明導電性フィルム１は、柔軟性を有する透明基材１１と、この透明基材１１上に設けられ金属細線を網目状に形成してなる金属細線層１４と、この金属細線層１４の開口部１７及びその周縁部を覆うように設けられた透明樹脂層１５と、これら金属細線層１４及び透明樹脂層１５を覆うように設けられた透明導電膜１６とを備え、金属細線層１４は、断面方向の厚みが外側に向かって減少する形状を有する。 （もっと読む）

本発明は、ドープした酸化物からなり、光起電モジュールの電極を形成することができる透明な電気伝導性層と組み合わされた透明ガラス基材であって、前記ガラス基材と前記透明電気伝導性層との間に、当該ガラスに対する付着特性が良好である少なくとも１種の第１の窒化物又は酸窒化物、あるいは酸化物又は酸炭化物の層が挿入され、次いで当該ガラスに対する付着特性が良好である少なくとも１種の第２の窒化物又は酸窒化物、あるいは酸化物又は酸炭化物と、透明電気伝導性層を、任意選択的にドープされた状態でもって、形成することができる少なくとも１種の第３の窒化物又は酸窒化物、あるいは酸化物又は酸炭化物との混成層が挿入されていることを特徴とする透明ガラス基材に関する。本発明はまた、そのような基材を含む光起電モジュールのため、付形した加熱ガラスのため、プラズマスクリーンのため、フラットランプ電極のため、低輻射率ガラスのために、そのような基材を製造するための方法にも関する。 （もっと読む）

【課題】シート抵抗が十分低く、巨大結晶粒の形成を防止し表面の平滑性を確保し、高い
生産性を維持しながら、有機ＥＬガラス基板用薄板ガラス表面への透明導電膜等の薄膜、
特に酸化スズ膜の成膜された薄板ガラス条を製造方法を提供する。
【解決手段】ガラス板２０をリドロー加熱炉１にて加熱延伸し、延伸後のガラス条２１表
面に熱ＣＶＤ法により無機材料からなる薄膜を成膜させ、その後、ガラス条２１を成膜用
予熱炉６にて再加熱して最初の成膜時よりも高温で表面に熱ＣＶＤ法により無機材料から
なる薄膜を成膜させる。 （もっと読む）

【課題】高い可視光透過率、低い抵抗率、高いヘイズを同時に満足する透明電極膜を製膜可能な透明電極膜の製膜方法を提供することを目的とする。また、高い可視光透過率、低い抵抗率、高いヘイズを同時に満足する透明電極膜を用いた高効率な太陽電池を製造可能な太陽電池の製造方法を提供することを目的とする。
【解決手段】（ａ）ＳｉＨ_４とＯ_２とをＯ／Ｓｉ第１比で含む第４原料ガスを供給し、基板上にアルカリバリア膜を形成する工程を具備し、Ｏ／Ｓｉ第１比は、４０以上２００以下であり、アルカリバリア膜の膜厚は、２０ｎｍ以上６０ｎｍ以下である透明導電膜及びアルカリバリア膜から構成される透明電極膜の製膜方法である。 （もっと読む）

【課題】基体温度が高温（例えば、５９０℃以上）のみならず低温（例えば、４５０〜５５０℃）であっても膜中に残留する塩素濃度を効率よく低減することができ、かつ、酸化錫の結晶粒が大きく成長した膜を成膜することができる酸化錫膜付き基体の製造方法の提供。
【解決手段】加熱した基体上に、気化した塩化錫、酸化ガスおよび気化したアンモニア類を含有する原料ガスを吹き付けて酸化錫を成膜する、酸化錫膜付き基体の製造方法。 （もっと読む）

【課題】高品質の酸化亜鉛系の薄膜を低コストで得ることができる技術を提供する。
【解決手段】第一原料ガス精製装置３は、成膜チャンバーに導入される亜鉛原料ガスをジエチル亜鉛から生成させるものであり、減圧可能な液体原料気化容器２１ａ，２１ｂとヒータ２２ａ，２２ｂを主要構成としている。ヒータ２２ａ，２２ｂにより液体原料気化容器２１ａ，２１ｂ内のジエチル亜鉛を減圧下で加熱することができ、ジエチル亜鉛が減圧蒸留に供される形となる。そのため、純度９６．０〜９９．８％の低純度ジエチル亜鉛を用いても、高純度ジエチル亜鉛の使用時と変わりなく、低コストで酸化亜鉛系の薄膜を製造することができる。また当該薄膜は、特に光の散乱性能の点で高い性能を有し、太陽電池の透明導電膜として有用である。 （もっと読む）

【課題】寸法が大きく、コストが低い導電板及びその製造方法を提供する。
【解決手段】導電板の製造方法は、少なくとも一回の引張処理を行った導電膜を提供するステップと、基板１００を提供するステップと、前記導電膜２００を前記基板に被覆するステップと、を含む。前記導電膜は、複数のナノユニットビームを有し、各々のナノユニットビームは、複数のナノユニットがそれぞれに端と端とが連接して形成される。また、前記複数のナノユニットビームは、所定方向に沿って配列されて特定の配列配向を形成する。 （もっと読む）

【課題】可撓性及び耐薬品性を具備して、フレキシブルディスプレイ装置に好適な透明導電膜を提案する。
【解決手段】可撓性の基板２上に設ける透明導電膜３であって、前記基板側に設けた非結晶性の第１透明導電層３−１と、該第１透明導電層上に設けた結晶性の第２透明導電層３−２とを含んで形成してある。第１透明導電層３−１はＳｎＯ_２含有割合が１０質量％以上のＩＴＯ層（インジウムスズ酸化物の透明膜）またはＩＺＯ層（インジウム亜鉛酸化物の透明膜）であり、第２透明導電層３−２はＳｎＯ_２含有割合が１質量％以上１０質量％未満のＩＴＯ層とするのが望ましい。 （もっと読む）

【課題】
高透明のインジウム複合酸化物薄膜の導電性、耐久性、またはリニアリティを向上させたタッチパネル用透明電極を提供することにある。
【解決手段】
透明基板の少なくとも一方の面に、酸化インジウムを主成分とした透明導電膜およびカーボン膜が積層された透明電極の製造方法であって、酸化インジウムを主成分とした透明導電膜が１０〜４０ｎｍの膜厚であり、カーボン膜が０．５〜５．０ｎｍの膜厚であるように製膜され、上記カーボン膜が水素を５０〜１００体積％含むガスを用いたスパッタリング法によって製膜され、かつ製膜後の透明電極が７０℃以上１７０℃以下の温度で熱アニール処理して透明電極を製造することにより、課題を解決する。 （もっと読む）

【課題】酸化インジウムを主成分とする透明導電性酸化物層の導電性を向上させ、透明導電性酸化物層の膜厚を大きくせず、透過率を向上させる透明電極付き基板を提供する。
【解決手段】透明導電性酸化物層(2-1,2-n,2-（n+1）)を水素プラズマ処理または水素化カーボン層製膜(3-1,3-n)することで、透明導電性酸化物層のキャリア濃度を向上し、且つ多層構造とすることで増加したキャリアの失活を防ぐことが可能となり、従来よりも薄膜で導電性を確保し透過率を向上させる。 （もっと読む）

【課題】基板上に透明電極層を設け、さらにその上に導電性ペーストを原料とした金属配線を形成した透明電極付き基板において、当該透明電極層と当該金属配線の接着性に優れた透明電極付き基板を提供する。
【解決手段】透明電極層と金属配線の間にカーボン膜などの実質炭素を含有する層を形成することで、金属配線の剥離のない、耐久性に優れた透明電極付き基板を作製することができる。これらのカーボン層はスパッタリング法やプラズマＣＶＤ法により形成することができる。 （もっと読む）

【課題】光学機能および導電機能に優れた多層フィルムを作製し、供給する。
【解決手段】透明な樹脂基板１１の少なくとも一方の面に該樹脂基板とは屈折率の異なる光学膜１３、１４を形成し、最外層１５に透明導電膜１５を有する多層フィルムにおいて、該多層フィルムの40℃90%Rhにおける水蒸気透過速度を1.0g/m2・day以下とする。前記光学膜は透明な樹脂基板に近い層から順に、屈折率n1が1.50〜2.20で膜厚d1が1〜10nmである第１の薄膜層１３と、屈折率n2が1.35〜1.50で膜厚ｄ2が10〜40nmの第２の薄膜層１４からなり、また、透明導電膜１５は、屈折率n3が1.90〜2.20で膜厚d3が10〜30nmの第３の薄膜層からなる。 （もっと読む）

【課題】高導電率と高透明性を有するカーボンナノチューブフィルムを製造する方法を提供する。
【解決手段】本発明は、透明導電性カーボンナノチューブフィルムの製造方法、前記方法により製造されるカーボンナノチューブフィルム、および該カーボンナノチューブフィルムを含むカーボンナノチューブ素子を提供する。通常の濾過法により得られたカーボンナノチューブフィルムに比べ、本発明の方法で得られたカーボンナノチューブフィルムは透明性が高く、シート抵抗が著しく低くなる。 （もっと読む）

【課題】ＺｎＯ原料粉末に添加される、希土類元素を１種含む希土類元素酸化物粉末の偏析を抑制し、組成均一性に優れたＺｎＯ蒸着材を製造するとともに、膜組成が均一なＺｎＯ膜が得られるＺｎＯ蒸着材を製造する。
【解決手段】ＺｎＯ原料粉末１２と希土類元素を１種含む希土類元素酸化物粉末１３との原料混合粉末１４を用い、ドクターブレード法により得られたグリーンシートから、グリーン単層体１９或いはグリーン積層体２０又は２９を作製し、これを焼成後に粉砕して混成粉末２５又は３１を作製する。この混成粉末を用いて造粒粉末を作製し、成形、焼結を経て、希土類元素を含むＺｎＯ焼結体からなるＺｎＯ蒸着材３４を作製する。 （もっと読む）