【課題】 低コストかつ簡便な透明導電膜の製造方法である塗布法によって形成される、優れた透明性と高い導電性を兼ね備え、かつ導電性の経時安定性に優れる透明導電膜、及びこの透明導電膜の製造方法を提供する。
【解決手段】 本発明に係る透明導電膜は、酸化インジウムを主成分とする導電性酸化物微粒子の結合により形成された開空孔（オープンポア）を有する導電性酸化物微粒子層の空隙部分に、前記導電性酸化物微粒子層に存在する酸化インジウムを主成分とする物質が層内移動により充填されて形成される緻密な導電性酸化物層を有することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】基材上に配置して乾燥後、２５０℃以下の比較的低温で焼成しても導電性に優れ、不純物の少ない導電部材を得ることが可能な分散性の高い銅微粒子分散水溶液を提供する。金属微粒子分散液を基板上に塗布して、加熱焼成方法により導電性の高い導電回路を形成する方法を提供する。
【解決手段】一次粒子の平均粒径が１〜５００ｎｍである銅微粒子が２〜７０質量％の濃度となるように溶媒（Ｓ）に分散させた銅微粒子分散溶液（Ｌ）を基材（Ｓ）に塗布し、次に該銅微粒子分散溶液（Ｌ）が塗布された基材を１６０〜５００℃に加熱された炉内に挿入して不活性ガス雰囲気中で急速加熱することにより銅微粒子を焼結して、空隙率が４０〜７０％である焼結膜を基材上に形成することを特徴とする、多孔質銅焼結膜の製造方法。多孔質銅焼結膜の１例である多孔質銅焼結膜を示す。 （もっと読む）

【課題】この酸化亜鉛焼結体をスパッタリングターゲットに用いて抵抗率が低く、かつ耐候性の高い電極を得る。
【解決手段】この電極の耐候性として、６０℃で９０％ＲＨの湿度下に晒した場合の、抵抗率の変化を測定した。前記と同様のスパッタリングターゲットを用いた場合の（ａ）膜厚が２００ｎｍの場合、（ｂ）膜厚が１００ｎｍの場合と、（ｃ）ＣｅＯ_２添加が無い場合で膜厚が１００ｎｍの場合、の３種類についての測定結果を図６に示す。初期値は６〜７×１０^−４Ω・ｃｍ程度であり、充分に小さいが、ＣｅＯ_２が無添加の場合（ｃ）には、徐々に抵抗率が上昇し、２００時間経過後には２０Ω・ｃｍ以上にまで上昇する。これに対して、ＣｅＯ_２が添加された（ａ）（ｂ）の場合にはその上昇は大きく抑制され、特に膜厚が２００ｎｍの場合には１０００時間経過後にも１０^−３Ω・ｃｍ以下の小さな抵抗率が維持されている。 （もっと読む）

【課題】 金属の網目状構造により導電性を付与させた透明導電膜を、従来よりも高透過率で、かつ廃棄物の少ないプロセスで提供することを目的とする。
【解決手段】 透明基板（Ａ）上に形成された透明導電膜であって、導電性を付与するために透明基板上に形成された金属細線（Ｂ）の網目状構造（Ｃ）が、少なくともリング状のパターンを含むことを特徴とする透明導電膜（Ｄ）、透明基板（Ａ）の表面上に単分散度２０％以下の微粒子（Ｐ）を配列固定した後、微粒子（Ｐ）と透明基板（Ａ）の間隙に金属ナノ粒子（Ｑ）の分散液を導入し、さらに金属ナノ粒子（Ｑ）の分散液の分散媒を蒸発させることにより、金属ナノ粒子が凝集した網目状構造（Ｃ）を自己組織的に形成させ、次いで微粒子（Ｐ）を除去することで透明導電膜（Ｄ）を得る透明導電膜の製造方法である。 （もっと読む）

【課題】ガラスフリットの侵食に対して強い耐性を持ち、ガラスフリット接触した状態で焼成しても電気抵抗が増加することのない透明導電膜およびその製造方法の提供。
【解決手段】酸化スズを主成分とする透明導電膜であって、前記透明導電膜は、タングステン、タンタル、ニオブ、モリブデンおよびビスマスからなる群から選択される少なくとも一つ以上の元素をドーパントとして含み、アンチモンおよびインジウムを実質的に含まず、 前記透明導電膜中にドーパントとして含まれる前記元素の総量をＭ_A、前記透明導電膜に含まれるスズ元素の量をＳｎとした場合に、下記式（１），（２）を満たすことを特徴とする透明導電膜。
０．８ ＜ （Ｓｎ）／（Ｓｎ＋Ｍ_A） ＜ １．０ ・・・（１）
０．０１ ＜ （Ｍ_A）／（Ｓｎ＋Ｍ_A） ＜ ０．２ ・・・（２） （もっと読む）

【課題】 ガラス等の基板にパターン塗布した場合に膜反射率が基材の反射率と同程度となってパターンが見えにくくなる低屈折率透明導電膜を得ることができる低屈折率透明導電膜形成用塗布液、及びこの塗布液を用いて形成された低屈折率透明導電膜を提供する。
【解決手段】 本発明に係る低屈折率透明導電膜形成用塗布液は、少なくとも有機インジウム化合物、ドーパント用有機金属化合物、及び溶剤を含有する低屈折率透明導電膜形成用塗布液であって、前記有機インジウム化合物とドーパント用有機金属化合物との合計含有量が１〜３０重量％であり、且つ前記塗布液中には更に低屈折率透明微粒子が含有していることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】酸化インジウムスズターゲットおよびこの製造方法、酸化インジウムスズ透明導電膜およびこの製造方法を提供する。
【解決手段】酸化インジウムスズターゲットは、酸化サマリウムおよび酸化イッテルビウムからなる群から選択された少なくとも１つの酸化物を含み、酸化物の含量がターゲットの重量対比０．５〜１０重量％である。 （もっと読む）

【課題】透明性が高く、また抵抗が低いとともに、表面硬度が高く、耐酸性に優れた透明導電膜をインクジェット法で容易に形成し得るＩＴＯインクを提供すること。
【解決手段】本発明のＩＴＯインクは、分散媒にＩＴＯ粒子を分散させてなり、チタンカップリング剤、及びオキサゾリン基を有しかつ三次元架橋が可能なアクリル樹脂を含むことを特徴とする。チタンカップリング剤は、塩を含まないものであることが好ましい。また、チタンカップリング剤は、アルコキシド、キレート又はアシレートからなることが好ましい。 （もっと読む）

【課題】 良好な導電性を発現しうる透明導電性基板を簡便な塗布法にて製造する、透明導電性基板の製造方法を提供する。
【解決手段】 （Ａ）チタン化合物に過酸化水素を反応させた反応生成物と（Ｂ）ニオブ化合物またはタンタル化合物に過酸化水素を反応させた反応生成物とを含む前駆体液を、透明基材上に塗布し、焼成した後、還元雰囲気下にて加熱によるアニール処理を施して、ニオブまたはタンタルがドープされた酸化チタンからなる透明導電性膜を透明基材上に形成することにより、比抵抗が９×１０^-3Ω・ｃｍ以下の透明導電性基板を得る。 （もっと読む）

【課題】透明導電膜と、導電性反射膜の２層により構成されるスーパーストレート型太陽電池に適する複合膜を提供する。
【解決手段】スーパーストレート型薄膜太陽電池の光電変換層１２上に透明導電膜１１ｂが形成され、この透明導電膜１１ｂ上に導電性反射膜１１ａが形成された２層からなる複合膜１１において、透明導電膜１１ｂが導電性酸化物微粒子を含む透明導電膜用組成物を湿式塗工法を用いて塗布することにより形成され、導電性反射膜１１ａが金属ナノ粒子を含む導電性反射膜用組成物を湿式塗工法を用いて塗布することにより形成され、導電性反射膜１１ａの基材１４側の接触面に出現する気孔の平均直径が１００ｎｍ以下、気孔が位置する平均深さが１００ｎｍ以下、気孔の数密度が３０個／μｍ²以下であることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】導電性が良好な金属酸化物膜およびこれを簡便な方法で形成できる金属酸化物膜の形成方法を提供すること。
【解決手段】基板１上に金属酸化物の結晶粒が結晶成長してなる結晶膜２と、該結晶膜２内に分散した導電性ファイバ３とを有してなることを特徴とする金属酸化物膜。 （もっと読む）

【課題】透明導電層を形成するために用いる出発原料溶液の濃度管理が容易な透明導電層の製造方法を提供する。
【解決手段】スプレー熱分解法を用いた透明導電層１２の製造方法であって、有機スズ化合物と、有機溶媒、水、又は有機溶媒−水混合溶液と、界面活性材とを少なくとも含む原料溶液を用いて透明導電層１２を形成することを特徴とする透明導電層１２の製造方法を提供する。 （もっと読む）

【課題】 低コストかつ簡便なインク塗布法によって、優れた透明性と高い導電性を兼ね備え、かつ導電性の経時安定性に優れた透明導電膜を形成できる透明導電膜形成用塗布液を提供する。
【解決手段】 本発明に係る透明導電膜形成用塗布液は、少なくとも有機インジウム化合物、ドーパント用有機金属化合物として有機チタン化合物、有機ゲルマニウム化合物、有機亜鉛化合物、有機タングステン化合物、有機ジルコニウム化合物、有機タンタル化合物、有機ニオブ化合物、有機ハフニウム化合物、有機バナジウム化合物のいずれか一種以上、及び溶剤を含有する透明導電膜形成用塗布液であって、該有機インジウム化合物とドーパント用有機金属化合物との合計含有量が１〜３０重量％であることを特徴とする。 （もっと読む）

本発明は、小さいミクロな伝導性構造体を表面に製造することを可能にする方法を記述している。これは、ミクロチャネルを（ホット）スタンピングおよび／またはナノスケールのインプリンティングによって製造すること、次のこのようにして作り出されたチャネルへの毛細管現象および好適な伝導性材料の後処理を用いる伝導性材料の的を絞った導入によって達成される。
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【課題】
凹凸部を有する透明電極は、デバイス形成時に電流の短絡の原因となる可能性があるが、平坦化処理には非常に高い精度の技術が必要であった。
【解決手段】
「透明基板上に少なくとも２層以上の酸化亜鉛を主成分とする透明導電層を有する透明導電膜であって、透明基板に最も近い第１の透明導電層が透明基板と反対側に凹凸構造を有するものであり、第１の透明導電層上に上記凹凸構造を埋めるようにして形成された第２の透明導電層を有する透明導電膜」を提供する。 （もっと読む）

【課題】低温でも焼結可能であり、かつ、低抵抗で高透過率の透明導電膜、該透明導電膜を形成することのできる酸化インジウム微粒子および、該酸化インジウム微粒子の製造方法を提供すること。
【解決手段】酸化インジウムを主成分する酸化インジウム微粒子であって、該酸化インジウム微粒子が、立方体形状を有する単結晶であり、かつ該立方体の一辺の長さが１ｎｍ〜２０ｎｍであることを特徴とする酸化インジウム微粒子。 （もっと読む）

【課題】新規な透明導電膜の製造方法を提供する。
【解決手段】透明導電膜の製造方法は、チタン化合物と遷移元素化合物とを含有する溶液又は分散液を基材上にコートするコーティングステップと、コーティングステップで基材上にコートした溶液又は分散液を加熱して焼成することにより遷移元素がドープされたチタン酸化物の透明被膜を形成する焼成ステップと、焼成ステップで形成した透明被膜を酸素濃度が１ｖｏｌ％未満のガス雰囲気下で加熱処理する加熱ステップと、を備える。 （もっと読む）

【課題】安価で、導電性に優れると共に、高硬度の透明導電膜を安定して形成することが可能な透明導電性材料、透明導電膜及び透明導電膜の形成方法を提供すること。
【解決手段】本発明の透明導電性材料は、電気伝導性を有し、かつ可視域で透明性を有する無機酸化物（Ａ成分）と、ガラス転移温度Ｔｇが６００℃以下であり、かつ可視域で透明性を有する膜形成物（Ｂ成分）と、を構成成分とすることを特徴とする。又、無機酸化物は、トリルチル型結晶構造をなす酸化物、特にアンチモンを含むトリルチル型結晶構造をなす複酸化物であること、又、膜形成物は、屈折率ｎｄが１．５５以上であり、６００℃以下で前記無機酸化物の表面を濡らす状態の粘性となるガラス粉末、或いは、光照射により硬化する樹脂であることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】光学特性に優れ、表面抵抗の低い透明導電膜の形成方法及び透明電極の提供。
【解決手段】金属酸化物の微粒子を含む塗布液を基材上に塗布して乾燥し、酸化性雰囲気ガス中で焼成し、得られた塗膜を還元性ガス雰囲気中で焼成し、次いで酸化性ガス雰囲気中で焼成して、透明導電膜を形成する。この透明導電膜から透明電極を得る。 （もっと読む）

【課題】導電性に優れた透明導電膜の形成方法及び透明電極の提供。
【解決手段】インジウム、スズ、アンチモン、アルミニウム、及び亜鉛から選ばれた少なくとも１種の金属の微粒子、これらの金属から選ばれた２種以上の金属からなる合金の少なくとも１種の微粒子、又はこれらの微粒子の混合物を含有する塗布液を基材上に塗布し、形成される塗膜を１×１０^−２Ｐａ以上１×１０^２Ｐａ以下の減圧下で焼成して、透明導電膜を得る。この透明導電膜から透明電極を得る。 （もっと読む）