【課題】共通の体積流量計を用いて種類の異なるシールドガスの流量を制御することのできるシールドガス流量制御装置を提供する。
【解決手段】種類が異なるシールドガス３Ａ，３Ｂを供給する複数のシールドガス供給源３と、レーザ溶接加工位置へシールドガスを噴射するガス噴射ノズル１３と、当該ガス噴射ノズル１３と前記シールドガス供給源３とを接続した接続管路１４中に配置され、前記ガス噴射ノズル１３へのシールドガスの流量を制御するための体積流量計１１と、当該体積流量計１１に流入されるシールドガスの圧力を所望の圧力に制御自在の圧力制御弁９とを備え、前記体積流量計１１に対してシールドガスの流量を指令する流量指令制御部２９に、前記圧力制御弁９の設定圧とシールドガスのガス種とガス流量とを関連付けして格納した流量・圧力データテーブル３５を備えている。 （もっと読む）

【課題】制御弁のスライド弁体の動作を安定させる流量制御弁を提供する。
【解決手段】
第１スライド部３と第２スライド部４を有する弁体２を弁軸方向に摺動可能に収納し、圧力流体源１０からの圧力流体を両スライド部間に供給する圧力流体供給路５と、弁体２の作動により圧力流体を制御しつつ出力する圧力流体出力路６を備え、圧力流体供給路５を第２スライド部４と弁箱１端間で形成される第２外方室Ｋ２に連通させる連通路、５Ｐを設けた制御弁である。これら各連通路に第２のオリフィスＯＦ２を介設したものである。 （もっと読む）

【課題】半導体製造装置のガスの流量制御は、マスフローコントローラによって行われている。ここで使用される流量調整バルブは、流量を調整することに重点が置かれているため、閉鎖時にも微小ながらガスが流出する。このため、流量調整バルブの出力側に閉鎖特性の良好な開閉バルブが挿入されている。しかし、流量調整バルブと開閉バルブ間の流路系には、一定の容量を有するため、流量調整バルブが閉鎖されている間に、この流路系の圧力が流量調整バルブのリークを介して、上昇するという問題がある。このような出力側バルブ間空間の圧力上昇は、次に、開閉バルブが開いたときに、ガス被供給系への余剰のガス供給の原因となる。
【解決手段】本願発明は、マスフローコントローラのガス排出側の流量制御バルブと開閉バルブ間の圧力を計測することで、流量制御バルブの閉鎖時のリークガス流量を検知可能とした半導体製造装置である。 （もっと読む）

【課題】応答性に優れ、かつ高精度・広範囲に流量を制御することができる流量制御装置を提供する。
【解決手段】流量制御装置１０は、圧力調整手段としてのパイロットレギュレータ２０とその下流側に配置されたエアオペレートバルブ４０とを備えている。エアオペレートバルブ４０は、カバー４１、シリンダ４２、ボディ４３からなる。ボディ４３には吸入通路５８と、排出通路５９と、各通路５８，５９を連通する円形溝６７と、吸入通路５８と円形溝６７とを連通する固定オリフィス６４とが形成されている。吸入通路５８の円形溝６７側端部は弁座オリフィス５８ａとなっており、その開口部周囲は弁座６３となっている。ダイアフラム弁体５５は圧縮コイルバネ４８の付勢力により常時弁座６３に着座されており、圧力制御室５１が操作エアにより加圧されると弁座６３から離れる。 （もっと読む）

【課題】燃料ガスタンクに貯蔵された燃料ガスの使用量を増加させることを目的とする。
【解決手段】本発明は、燃料ガスを貯蔵する燃料ガス貯蔵容器と、燃料ガス貯蔵容器から流出する燃料ガスの圧力を減圧し、燃料ガス貯蔵容器の圧力が一定圧力まで低下すると通過する燃料ガスの流量が減少するレギュレータと、レギュレータの下流に配設され、通過する燃料ガスの流量を任意の流量に設定する流量制御弁と、を備える燃料ガス供給装置であって、燃料ガス貯蔵容器の圧力値を検出する圧力検出手段と、圧力値が第１所定圧力より小さくなったときは、流量制御弁を通過する燃料ガスの流量が、その圧力値が第１所定圧力より大きいときの流量と比べて減少しないように、その流量制御弁を制御する第１の流量制御弁制御手段（Ｓ５）と、を備えることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】経済的に過流防止を行なうことができるとともに、上流側流体圧の高低によって生じる質量流量に対する閉作動特性の変動を抑制可能な電磁弁を提供する。
【解決手段】弁体１７が電磁的に駆動されて流路が開閉される遮断弁（電磁弁）３において、流体圧に抗して弁体１７を開状態に保持するソレノイドのコイル１８の保持電流値を、遮断弁３の上流側流体圧（一次圧）に応じて選択する制御部を備えた。台座の弁座に対する相対位置を上流側の流体圧によって調整可能にしてもよい。 （もっと読む）

【課題】圧力及び質量流量の両方を反映させるとともにタンク容積の変化も考慮した高精度の検定を行う質量流量制御装置を提供する。
【解決手段】流路6の最上流に設けられた検定用バルブ42と、質量流量制御バルブ機構10と、質量流量制御バルブ機構10より上流側の流路6に設けられたタンク44と、質量流量検出手段8と、圧力検出手段46と、質量流量制御バルブ機構10を制御する手段18と、質量流量検定制御手段48とを有する質量流量制御装置を検定する方法であって、(1) 流路6に設定質量流量の流体を流し、(2) 流体の質量流量が設定質量流量と一致するように質量流量制御バルブ機構10の開度を保持し、(3) 検定用バルブ42を閉じ、(4) タンク44から流出する流体の流れが安定化した後で流体の圧力及び質量流量を測定し、(5) 初期状態において同じ手順で測定しておいた基準の圧力及び質量流量に対する圧力及び質量流量の変化率を求め、(6) 変化率に応じて検定を行う方法。 （もっと読む）

【課題】微少な吐出量を制御可能な液体流量制御装置を提供すること。
【解決手段】電気制御装置２００は、第２バルブ４を閉弁状態に維持しながら第１バルブ３を開弁することによって第１通路１３をダイアフラムポンプ２に連通し、ダイアフラムポンプ２に通電することによって第１通路１３内の液体をダイアフラムポンプ２内に吸引し、その後、第１バルブ３を閉弁することによって第１通路１３を遮断するとともにダイアフラムポンプ２への通電を停止することによってダイアフラムポンプ２を原状へ復帰可能な停止状態に維持し、第２バルブ４を開弁開始することによってダイアフラムポンプ２を原状へ復帰開始させ、ダイアフラムポンプ２の原状への復帰途中で第２バルブ４を閉弁する制御を行う。 （もっと読む）

【課題】各ラインの流体を任意の比率で混合させ、脈動した流体も流量制御することができ、コンパクトな構成で狭いスペースに設置可能であり、設置における配管及び配線接続が容易である流体混合装置の提供。
【解決手段】２つの供給ラインがそれぞれ第一、第二流体制御弁と、各ラインの実流量を計測し信号を出力する各流量計測器と、各流体制御弁を制御するための指令信号を出力する各制御部とを具備し、２つの供給ラインに流れる各々の流体を任意の比率で混合させる。第一流体制御弁は制御用流体の圧力操作により流体の圧力を制御し、第２流体制御弁は流路の開口面積を変化させて流体の流量を制御する。例えば、半導体製造用の洗浄液を得るためにフッ化水素酸または塩酸が１に対して純水が１０〜２００の比率で混合される。 （もっと読む）

【課題】 圧力式流量制御装置を分解、組立なしに、そのオリフィスを簡単に取り換えできるようにして、制御流量の切換を容易にする。
【解決手段】 コントロール弁２のバルブボディ２３の流体入口側と前記入口側取付用ブロック３９とを、並びに前記バルブボディ２３の流体出口側と前記出口側取付用ブロック４３とを、夫々解離可能に気密状に連結することにより、前記コントロール弁２を通して気体が流通する流路を形成すると共に、前記バルブボディ２３の出口側に設けたガスケット型オリフィス挿入孔４２ｃと出口側取付用ブロック４３のガスケット型オリフィス挿入孔４３ｂとの間に、圧力式流量制御装置Ａのガスケット型オリフィス３８を着脱自在に挿着する構成とする。 （もっと読む）