【課題】新たな高価な酸性ガス測定装置を導入する必要のないフィードバック形式において、出口の酸性ガス濃度のピーク発生が少ない安定した酸性ガス処理を行うと共にアルカリ剤の過剰添加を削減するための新たな制御方式による酸性ガス処理方法を提供すること。
【解決手段】本発明の酸性ガスの処理方法は、酸性ガスが含まれる燃焼排ガスにアルカリ剤を添加し、粉塵を集塵した後の酸性ガス濃度を測定する酸性ガス濃度測定機器の測定信号に基づいてアルカリ剤の添加量をフィードバック制御する酸性ガスの処理方法であって、少なくとも平均時間（例えば、後述する１時間等）に応じた平均添加量に１倍以下の係数（例えば、後述する８０％等）を乗じた基礎添加量を算出する工程と、算出した基礎添加量に基づいてアルカリ剤の添加量出力値をフィードバック演算により算出する工程と、を有する。 （もっと読む）

【課題】酸性ガス濃度測定信号に基づいてアルカリ剤の添加量を制御するフィードバック形式において、現状のフィードバック制御が抱える計測遅れによる酸性ガスの処理不良並びにアルカリ剤の過剰添加を削減する酸性ガスの処理方法を提供すること。
【解決手段】酸性ガスが含まれる燃焼排ガスにアルカリ剤を添加し、粉塵を集塵した後の酸性ガス濃度を測定するように設置された酸性ガス濃度測定機器の測定信号に基づいてアルカリ剤の添加量をフィードバック制御する酸性ガスの処理方法において、計測遅延時間がそれぞれ異なるＨＣｌ濃度測定機器（低速）１４及びＨＣｌ濃度測定機器（高速）１５により同一種の酸性ガス濃度を測定する工程と、複数の酸性ガス濃度測定機器の測定信号に基づいてアルカリ剤の添加量出力値をフィードバック演算により算出する工程と、を有する。 （もっと読む）

【課題】マルチ・チャンバ・ツールとの関係でオゾン濃度を制御する改良されたシステム及び方法を提供する。
【解決手段】オゾン発生器２０と組み合わされた第１及び第２の濃度コントローラ２５、３５を含む。第１の濃度コントローラ２５は、イベントを検出し、それに応答して、予測制御アルゴリズムに従いオゾン発生器２０に電力指示を提供する。第１の濃度コントローラ２５は、高速（すなわち、約１秒）の応答時間を有する。第２の濃度コントローラ３５は、イベントの間はオゾン発生器２０からマスクされているが、それ以外の場合には、イベントの発生からある時間間隔が経過した後で発生器２０を制御する。第２の濃度コントローラ３５は、第１の濃度コントローラ２５よりも低速の応答時間を有するが、システムに長期的な安定性を提供し、予測制御アルゴリズムに更新されたデータを提供するのに用いられる。 （もっと読む）

【課題】単位時間内に供給されるＣ４混合物に含まれる有効成分の供給量を精度よく管理することができる供給量管理システムを提供する。
【解決手段】供給量管理システム１は、プラント内において、発生装置Ｍ１から処理装置Ｍ２に供給されるＣ４混合物に含まれる有効成分の供給量を管理するシステムであり、発生装置Ｍ１から処理装置Ｍ２に供給されるＣ４混合物の流量を連続的に計測する流量計測部２と、発生装置Ｍ１から処理装置Ｍ２に供給されるＣ４混合物に含まれる有効成分の濃度を連続的に計測する濃度計測部３と、流量計測部２によって計測されるＣ４混合物の流量データ及び濃度計測部３によって計測されるＣ４混合物に含まれる有効成分の濃度データを用いて、発生装置Ｍ１から処理装置Ｍ２に単位時間内に供給される有効成分の供給量を算出する算出部７と、を備えている。 （もっと読む）

【課題】複数種類の原料を配合する原料配合プロセスにおいて、配合すべき原料の質量を、容器や袋等に梱包された質量に対応する離散的な数値で扱うことができる原料配合方法を提供する。
【解決手段】原料配合方法は、複数の成分を互いに異なる比率で含有する複数種類の原料であって、所定の質量でそれぞれ梱包されている複数種類の原料の内から、１つ又は複数種類の原料を梱包されている質量の単位で選択することにより、配合後の原料において所望の質量及び所望の範囲の成分比となるように原料を配合する方法において、配合後の原料において要求される要求質量及び成分比の要求範囲に関する条件を設定する条件設定ステップＳ１と、該条件設定ステップにおいて設定された条件に基づいて、配合に使用可能な種類及び質量の組み合わせを梱包されている質量の単位で表す組合せテーブルを作成するテーブル作成ステップＳ２とを含むことを特徴とする。 （もっと読む）

本発明は、圧送可能な少なくとも二種類の液状の成分（ｋ１，ｋ２）から成る液体製品（Ｐ）を連続的に製造するための設備（３０）であって、該設備（３０）が、各成分（ｋ１，ｋ２）に対する２つの貯蔵タンク（１ａ，１ｂ）と、両貯蔵タンク（１ａ，１ｂ）に対する、成分（ｋ１，ｋ２）の目標質量流量を調整するための２つの質量流量調整回路（２ａ，１ｂ）と、液体製品（Ｐ）の成分（ｋ１，ｋ２）が供給される第１の管路（９ａ）と、二酸化炭素を供給するための第２の管路（９ｂ）と、充填タンク（１ｃ）とを備えており、第１の管路（９ａ）が、二酸化炭素と混合された液体製品（Ｐ）を充填タンク（１ｃ）内に供給するようになっている設備に関する。本発明によれば、貯蔵タンク（１ａ，１ｂ）と充填タンク（１ｃ）とが、圧力タンクとして形成されていて、貯蔵タンク（１ａ，１ｂ）と充填タンク（１ｃ）との間で圧力補償を行うための少なくとも１つの圧力補償管路（１）によって互いに接続されている。
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【課題】半導体、液晶などの製造工程に使用される現像液などの薬剤を高濃度の原液を超純水などで希釈し、所望の濃度に調整するにあたり、不純物の混入を防ぐことができ、かつ設備がコンパクトな希釈装置を提供する。
【解決手段】薬剤及び希釈液が導入される希釈タンク１を備えている薬剤の希釈装置であって、希釈タンク１に、希釈タンク１内の液体を撹拌するための磁気浮上ポンプ２を設けるとともに、薬剤の濃度を測定する濃度計３を備え、薬剤の所望の濃度に基づいて、上記測定値を上記所望の濃度に近づけるように薬剤の量と希釈液の量を制御する。 （もっと読む）

【課題】各流体の混合比が“１対１”であるときでも、十分な流量の混合流体を確保させるとともに、流量調節弁の使用数を低減させて、設置コスト、メンテナンスコストを低減させる。
【解決手段】混合流体流量演算系（流量設定器１１、流量ＰＩＤ演算部１２、乗算器１３）によって、ＰＩＤ演算、２倍演算を行い、混合流体操作量を演算するとともに、混合比演算系（別要素設定器１４、別要素ＰＩＤ演算部１５）によって、ＰＩＤ演算を行い、第１流体、第２流体の混合比を示す別要素操作量（混合比操作量）、補数値を演算し、流体流量演算系（減算器１６、ハイセレクタ１７、除算器１８、リミッタ１９，除算器２０，２１）によって、混合比演算系で得られた混合比に応じて、混合流体流量演算系で得られた混合流体操作量を第１流体、第２流体に分配し、これら第１流体、第２流体の流量操作量を演算する。 （もっと読む）

化学溶液浴を所望の濃度で維持するブレンダーシステムを提供する。ブレンダーシステムは、少なくとも２つの化合物（例えば、アンモニアおよび過酸化水素）を受けて、ブレンドし、化合物の混合物を選択された濃度で含む溶液を、化学溶液浴の選択された体積を維持するタンク（２）に送達するように構成されたブレンダーユニット（１００）を含む。さらに、ブレンダーシステムは、化学溶液浴中で少なくとも１つの化合物を選択された濃度範囲内に維持するように構成されたコントローラー（１１０）を含む。コントローラーは、タンクに送達される溶液内で、化合物の濃度を選択された濃度範囲内に維持するようにブレンダーユニットの少なくとも１つの動作、および、化学浴内の化合物の濃度が目標範囲から外れる場合は、タンクに入る溶液およびタンクから出る溶液の流速の変更を制御する。 （もっと読む）