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Fターム[5J500AQ02]の内容

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Fターム[5J500AQ02]に分類される特許

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【課題】低容量でオン抵抗が低いMOSトランジスタを実現する。
【解決手段】MOSトランジスタに、半導体基板に対して外部から任意の電位を印加するためのバックゲート端子を設け、MOSトランジスタの動作状態やそのときのドレイン電位やソース電位に応じた電位をバックゲート端子から半導体基板に対して任意の電位を印加する。 (もっと読む)


【課題】 複数の受光素子からそれぞれ得られる光電流の一つ以上を選択的に増幅し、かつ小規模に実現可能な光電流増幅回路を提供する。
【解決手段】 複数の受光素子351、352と、入力及び出力の間がゲイン抵抗360で接続されている増幅回路364と、受光素子ごとに設けられ、対応する受光素子と前記増幅回路の入力との間に接続される素子選択スイッチ353、354とを備え、前記ゲイン抵抗360はオンされる素子選択スイッチを介して対応する受光素子の光電流を供給し、前記増幅回路364は前記ゲイン抵抗360に流れる光電流を電圧信号に増幅する。 (もっと読む)


【課題】 外部から受ける入力電位に基づいて行なう処理に影響を与えることなく静電耐圧を向上させる半導体装置、そのような半導体装置を複数備えるモジュール、およびそのようなモジュールを備える電子機器を提供する。
【解決手段】 スイッチSW2に含まれるMOSトランジスタのゲート幅を大きくすることにより端子T2の電位と接地電位(あるいは電源電位)との間の耐圧が向上する。これにより端子T2にサージが印加された場合にもスイッチSW1等が保護される。また、スイッチSW2に含まれるMOSトランジスタのゲート幅を大きくすることにより、スイッチSW1のサイズを大きくしなくてもよいので、スイッチSW1が導通状態から非導通状態に変化したときのノードN3での電位の変動を抑えることができる。 (もっと読む)


スイッチモード電力増幅器及びスイッチモード電力増幅器で使用するのに特に適した電界効果トランジスタが開示される。トランジスタは、ソース端子とドレイン端子とを有し、ゲート端子がそれらの端子の間の誘電体材料の上に位置付けされている化合物高電子移動度トランジスタ(HEMT)であることが好ましい。フィールドプレートは、少なくとも2つの層の誘電体材料上でゲート端子からドレインの方に延びている。誘電体層は、好ましくは、シリコン酸化物及びシリコン窒化物を含んでいる。シリコン酸化物の第3の層が設けられ、シリコン窒化物の層がシリコン酸化物の層の間に位置付けされてもよい。ゲート端子の凹部をエッチングする際に、エッチング選択性が使用される。
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【課題】広い周波数範囲に亘って狭帯域システムの利点を有する受信増幅器を提示する。
【解決手段】受信増幅器が、接続接点6と接続接点7とを有する半導体基板2、および、増幅回路1を含んでいる。増幅回路1は、少なくとも1つの電界効果トランジスタと、第1入力部12と、第2入力部13とを備えている。増幅回路1の入力部同士の間には、容量素子Cinが配置されている。増幅回路の上流には、共振周波数が調整可能な同調回路が設けられている。この同調回路は、半導体基板2に集積された、可変容量素子CTを含み、増幅回路1の容量素子Cinに対して並列に接続されている。さらに、2つの誘導素子L1´、L1が設けられている。第1誘導素子L1´は、接続接点6に接続されており、第2誘導素子L1は、接続接点7に接続されている。これにより、共振周波数での電圧が高い直列同調回路が形成され、受信増幅器の入力信号の信号対雑音比が改善される。 (もっと読む)


【課題】Bi−CMOSプロセスを必要とせず、バイポーラトランジスタのみで実現できるのでプロセスコストを比較的安くできる増幅装置を提供する。
【解決手段】増幅装置内のバッファの入力部(トランジスタQ5のベース)に、直列接続した抵抗とコンデンサからなる位相補償回路を複数パターン設ける。そして、位相補償回路の容量を形成するコンデンサC2と正の電源ラインの間にバイポーラトランジスタQ6を挿入し、スイッチ信号となるベース電流(Isw)が増幅装置に影響を及ぼさないようにする。 (もっと読む)


【課題】 回路規模を増大させることなく、低消費電力で、安定して出力電圧の範囲を拡大させる演算増幅器、駆動回路及び電気光学装置を提供する。
【解決手段】 演算増幅器100は、入力電圧及び出力電圧がゲートに供給される差動トランジスタ対と、差動トランジスタ対のドレイン電流の和を生成する電流源トランジスタとを有し、入力電圧及び出力電圧の差分を増幅する差動増幅器110と、差動増幅器の出力ノードの電圧に基づいてゲート制御され出力電圧として生成する駆動トランジスタとを含む。電流源トランジスタのチャネル領域が形成される不純物層の電位が、他のトランジスタのチャネル領域が形成される不純物層の電位とは独立に設定される。電流源トランジスタのゲート電圧が固定され、不純物層の電位及びそのソース領域の電位の少なくとも1つが変更されることで、演算増幅器100の電流駆動能力が制御される。 (もっと読む)


【課題】 従来のドハティ型増幅器においては、高効率特性と低歪み特性との両立が困難であった。
【解決手段】 ドハティ型増幅器1は、入力端子72と出力端子74との間の経路P1(第1の経路)中に設けられ、第1の級にバイアスされるメインアンプ10(第1の増幅器)と、経路P1と並列する経路P2(第2の経路)中に設けられ、第1の級とは異なる第2の級にバイアスされるピークアンプ20(第2の増幅器)と、経路P1におけるメインアンプ10の出力側に設けられた波長線路32と、を備えている。ここで、AB級バイアス時のFET12(第1のトランジスタ)のアイソレーションは、C級バイアス時のFET22(第2のトランジスタ)のアイソレーションよりも大きい。 (もっと読む)


【課題】 回路規模を増大させることなく、低消費電力で、出力電圧範囲を拡大させる演算増幅器、駆動回路及び電気光学装置を提供する。
【解決手段】 演算増幅器100は、入力電圧Vin及び出力電圧Voutがゲートに供給されるN型の差動トランジスタ対DIF1と、差動トランジスタ対DIF1のトランジスタQN1、QN2のドレイン電流の和を生成するN型の電流源トランジスタCS1とを有し、入力電圧及び出力電圧の差分を増幅する差動増幅器110と、高電位電源側に設けられ、差動増幅器110の出力ノードの電圧に基づいてゲート制御されドレイン電圧を出力電圧Voutとして生成するP型の駆動トランジスタDQP1とを含む。電流源トランジスタCS1は、そのチャネル領域が形成される不純物層の電位が、他のトランジスタのチャネル領域が形成される不純物層の電位とは独立に設定されるトランジスタである。 (もっと読む)


【課題】増幅特性の劣化なしにインダクタで発生する逆起電力による破壊を防止することが可能な電力増幅器及び電力増幅器用バイアス回路を実現することができる半導体装置を提供する。
【解決手段】バイポーラトランジスタ2のコレクタ端子と電源端子6とを接続しているバイアス線路5に、アノードがコレクタ端子側になるように並列にダイオード9aを接続することにより、あるセルで暴走が始まったときは、ダイオード9aによりその逆起電圧をクリップして下げるため、バイポーラトランジスタ2に大きな電圧がかかるのを抑制するとともに、暴走の起こっていない段階では、ベース端子に供給される経路で抵抗成分等によるロスを無くし、結果的に従来のような高出力時の出力電力の低下を抑制する。 (もっと読む)


【課題】高周波増幅器に用いる増幅トランジスタの異常発振と熱暴走とを防止して高性能動作を安定に維持できると共に小型化を図れるようにする。
【解決手段】高周波信号を増幅する増幅トランジスタ1と、一方の端子(アノード)が増幅トランジスタ1のベース端子と接続され、他方の端子(カソード)が高周波信号を受けるダイオード2Aとを有している。ダイオード2Aの抵抗成分を利用して増幅トランジスタ1の安定化が図られ、且つダイオード2AのPN接合容量により、所望の高周波信号を通過させることができる。また、ダイオード2AのPN接合容量は、MIMキャパシタと同一の面積であっても、MIMキャパシタと比べて約10倍の容量を確保できるため、高周波増幅器の小型が可能となる。 (もっと読む)


【課題】高周波増幅回路に悪影響を与えること無く、バイポーラトランジスタの熱暴走を防止することが可能なバイポーラトランジスタおよび高周波増幅回路の提供を目的とする。
【解決手段】直流バイアスが供給される直流バイアス(DC)端子3と、DC端子3に接続されたDC用ベース電極6と、高周波信号が供給される高周波電力(RF)端子4と、RF端子4に接続されたRF用ベース電極7と、DC用ベース電極6とRF用ベース電極7とに接続されているベース層8とを有する。 (もっと読む)


【課題】 新たな回路を追加することなく、製造価格の増大を抑え、電力損失を発生させることなく、かつ、大振幅動作における印加電圧の歪みを抑制することができる信号歪み抑制装置を提供すること。
【解決手段】 パワーアンプ108に含まれる本発明の信号歪み抑制装置は、p-型半導体基板(p型半導体)205とn+型サブコレクタ領域(n型半導体)204から形成されるpn接合間に逆方向のバイアス電圧及び交流信号を重畳して動作させる信号歪み抑制装置であって、前記バイアス電圧のみの印加時における前記pn接合の前記p-型半導体基板(p型半導体)205及び前記n+型サブコレクタ領域(n型半導体)204の空乏層端の少なくとも一方の近傍に不純物濃度が当該近傍の周辺部と比較して同一伝導型でかつ高濃度である高不純物濃度領域を具備する。
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【課題】半導体基板上に形成した高周波増幅器のベース端子およびエミッタ端子から基板方向への信号漏洩による雑音指数の劣化を防止する。
【解決手段】インピーダンス素子60とインピーダンス素子61はアルミニウムや銅などの低抵抗率の金属配線を使用して配線長と配線幅と配線形状を変化させ、拡散容量50は面積を変化させることにより高周波信号に対する交流的インピーダンスを可変できる。インピーダンス素子60と拡散容量50とインピーダンス素子61により高周波信号に対する交流的インピーダンスを低減し、第1のトランジスタ15のベース端子からエミッタ端子を介し外部の接地端子への信号経路を作ることでベース端子用パッド20に外部より入力した高周波信号のうち、半導体基板の絶縁膜における絶縁膜容量を介し基板裏面方向に通過しようとする信号成分を低減あるいは遮断し、基板裏面方向への信号漏洩をなくし雑音指数の劣化を防止する。 (もっと読む)


【課題】 可変インダクタを利用して外部から利得を高精度で調節でき、かつ入力信号の変動に関わらず入力インピーダンスを安定に維持できる増幅器、を提供する。
【解決手段】 LNA(1)は主回路(1A)と補助回路(1B)とを含む。主回路(1A)と補助回路(1B)とは絶縁されている。主回路(1A)は、アンテナにより受信された無線周波信号(Vin)を増幅して出力する(Vout)。主インダクタ(Lm)と補助インダクタ(La)とは同軸の薄膜インダクタであり、磁気的に結合する。利得制御信号(GC)はRSSI装置により生成され、そのレベルが増幅された無線周波信号(Vout)の強度を示す。可変電流源(11)は利得制御信号(GC)に従い、補助インダクタ(La)の電流量を調節する。 (もっと読む)


【課題】高周波特性の良好な差動増幅回路を提供する。
【解決手段】半導体チップ上に再配線層が形成されるチップサイズパッケージを備える半導体基板上に形成する差動増幅回路において、差動対をトランジスタQ1とトランジスタQ2により構成し、ペアのトランジスタQ1,Q2のエミッタを夫々別のボンディングパッド201,202及びCSP出力端子205,206に接続して接地することにより、エミッタ部での共通インピーダンスを無くすようにする。 (もっと読む)


【課題】 出力電力を検出してフィードバック制御を行なう無線通信システムにおいて、製造ばらつきにより増幅素子の特性がばらついても安定した高周波電力増幅特性を得ることができる高周波電力増幅回路を提供する。
【解決手段】 少なくとも最終段の電力増幅用素子(211)を直列形態の2つの電界効果トランジスタにより構成し、該2つの電界効果トランジスタの一方の制御端子に増幅されるべき高周波信号を入力して共通ソース・ドレイン端子から出力信号を取り出すとともに、該出力信号を抵抗素子(Ri)を介して前記出力電力検出回路(220)の検波用トランジスタの制御端子に入力させるように構成した。 (もっと読む)


【課題】 GSMシステム(非線形動作)とEDGEシステム(線形動作)を同一回路内で共存できる高周波電力増幅モジュール及び無線通信装置の提供。
【解決手段】 多段増幅構成の高周波電力増幅モジュールであって、外部端子は入力端子,出力端子,コントロール端子,第1基準電位Vdd,第2基準電位Vss(グランド)及びモード切替端子とし、1段目半導体増幅素子をデュアルゲートFETで構成し、ドレイン寄りの第1ゲートGには抵抗を介してコントロール端子からの信号を印加し、第2ゲートGには入力端子から供給される高周波信号を印加するとともにコントロール端子からの信号電圧をバイアス回路で分圧した電位を印加し、モード切替端子からの信号によってモード切替え用トランジスタをON,OFFする。ON時GSM用増幅系(非線形動作:最大出力36dBm)とし、OFF時EDGE用(線形動作:最大出力29dBm)とする。 (もっと読む)


【課題】 線型の電力増幅器において、高周波特性に影響を及ぼす帰還容量のドレイン電圧依存性を抑えて歪み特性の劣化を防ぐことができる技術を提供する。
【解決手段】 半導体基板40上にゲート絶縁膜44を介してゲート電極45を形成する。このゲート電極45のドレイン領域側の側壁を覆うようにフィールドプレート電極59aを形成する。そして、このフィールドプレート電極59aの電位をフローティング状態にする。フィールドプレート電極59aは、例えばポリシリコン膜より形成される。 (もっと読む)


【課題】 D級アンプのS/N比や歪率を改善する。
【解決手段】 電源ラインVdd1と接地ラインGND1間に直列に接続されるPチャンネルMOSトランジスタおよびNチャンネルMOSトランジスタを含むP型半導体基板のシリコン基板300上に形成されたD級アンプにおいて、NチャンネルMOSトランジスタが形成される領域にN型ウェル302を形成し、かつ当該N型ウェル302を、固定電位が供給される電源ラインVdd1に接続した。N型ウェル302は、NチャンネルMOSトランジスタの単位ユニットごとに形成される。 (もっと読む)


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