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国際特許分類[B05C15/00]の内容

国際特許分類[B05C15/00]に分類される特許

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【課題】気密室8の設備の製造コスト及び置換ガスGのランニングコストを低減できると共に、シート上に位置ズレさせることなく正確に重ね塗りできること。
【解決手段】シートの巻出装置2と、エンドレス状のシート搬送用外周面3aを所定シート走行速度で走行するシート搬送装置3と、シートの巻取装置4と、シート案内用ガイドロール5と、シート搬送装置3の外周面3aより外側に、シート走行方向Eへ間隔を開けて配置した複数台の塗工装置6と、シート搬送装置3の外周面3aの外側で、塗工装置6から離れて塗工装置6よりもシート走行方向下流側に配置した定着装置7と、外部Fと気密状態に区画した室内8aにこれら巻出装置2乃至定着装置7を収納配置して置換ガスGを充満させる密封室8とを備えている。 (もっと読む)


【課題】ジェットエンジンシャフト等のように径に対して長い長さを有する筒体の特に内表面に一定膜厚の塗装膜を安定して形成できるようにする。
【解決手段】防爆ブース5内の支持台2上に水平に支持した筒体1を内面塗装機3及び外面塗装機4により塗装する筒体の塗装設備であって、筒体1の一端延長上における防爆ブース5の天井部に外部の空気を供給する給気口28を設け、防爆ブース5における筒体1の他端延長上に吸引口29を備えた隔壁30を介して吸引室31を形成すると共に、吸引室31に吸引ファン32を設け、吸引ファン32の駆動により防爆ブース5内に吸引口29に向かうガス流れを形成する。 (もっと読む)


【課題】 塗装室に供給する空気の加熱及び乾燥炉に供給する乾燥用空気の加熱に対する熱源供給方式を改良することで省エネルギーを図った塗装装置を提供する。
【解決手段】 塗装室3と、乾燥炉5と、塗装室3に温度と湿度を調整した空気を供給する給気装置8と、乾燥炉5に高温の乾燥用空気を供給する乾燥用空気循環供給装置10とを備え、乾燥用空気循環供給装置10は、乾燥炉5から吸引した乾燥用空気をバーナーユニット13の燃焼ガスにて加熱し、加熱された乾燥用空気を熱交換器15に通して温度調整した後乾燥炉5内に供給し、給気装置8は、外気を冷水と熱交換する冷却用熱交換器20に通して冷却した後、乾燥用空気循環供給装置10の熱交換器15に通して加熱し、その後蒸気源31から水蒸気が供給される加湿器29にて加湿して塗装室3内に供給するようにした。 (もっと読む)


【課題】吐出ヘッドにより液体を吐出する方法を用いて、半導体デバイスの配線を適切に形成する。
【解決手段】導電性の配線が形成される半導体デバイス52の製造工程において、配線の少なくとも一部を形成する配線形成装置10であって、導線性物質を含む液体を吐出するノズルを有し、半導体デバイス52において配線が形成される領域へ当該ノズルから液体を吐出する吐出ヘッド18と、吐出ヘッド18及び半導体デバイス52を内部に収容するチャンバ部12と、チャンバ部12内の気圧を大気圧よりも低い圧力に減圧する減圧手段である真空ポンプ16とを備え、吐出ヘッド18は、チャンバ部12内が減圧された状態で、半導体デバイス52へ液体を吐出する。 (もっと読む)


【課題】大型基板の塗布処理において低コストで適切なダウンフローを形成する技術を提供する。
【解決手段】FFU61の外側周囲に第1板状部材62を設置する。また、ステージ3の周囲に排気容器71を配置するとともに、当該排気容器71の外側周囲に第2板状部材を配置する。また、大型基板90を搬送するハンド901の基板搬送経路と干渉しないように、搬送側(−Y側)に設けられる第1板状部材62の下端の位置を搬送経路よりも上方となるように設定する。このような基板処理装置1において、大型基板90の塗布処理を行う際には、FFU61から供給するエアの気流(ダウンフローDF)の勢いが載置面でほぼ消失するように、エアの供給量を調整する。この勢いが消失したエアは、下方に設置された排気容器71に導かれて排気される。 (もっと読む)


【課題】引火性の溶媒を用いた基材表面への成膜において、基材表面へのゴミの付着を抑制する成膜方法および成膜装置を提供する。また、検出欠陥を少なくする放射線検出器の製造方法を提供する。
【解決手段】成膜装置600は、膜成分および引火性の溶媒を含む溶液を基材601の表面に塗布し、基材表面に膜を形成する。この成膜装置600では、基材表面に溶液を塗布する塗布室602が略密閉され、クリーンエア供給手段613から塗布室602にクリーンエアが供給される。そして、塗布室内の溶媒の蒸気濃度が燃焼下限値未満の状態で、コロナ放電器611により生成されるイオンが基材表面に吹き付けられて基材表面が除塵され、除塵された基材表面に溶液が塗布される。 (もっと読む)


【課題】本発明は、インクジェット法を用いて基板上にレジスト薄膜を形成するフォトレジスト塗布装置及びフォトレジスト塗布方法並びにこれにより薄膜構造体を製造する方法を提供することを目的とするものである。
【解決手段】本発明は、溶液容器から供給したレジスト溶液を下方へ吐出するノズルを一定間隔で複数設けたインクジェット・ヘッドを2列互い違いに配置したインクジェット吐出機構と、前記インクジェット吐出機構の吐出対象であるウエハを載置した搬送テーブルを水平に移動させる基板搬送機構と、前記インクジェット吐出機構の吐出と前記基板搬送機構の移動を制御する制御機構とからなり、前記ウエハの特定の回路部分にのみ1回の塗布動作でレジスト薄膜を形成することを特徴とするフォトレジスト塗布装置の構成とした。 (もっと読む)


【課題】閉空間内に流れる気流の影響を受けて、塗装ムラが発生したり、前記気流中の異物が被塗工物に混入したり、また、塗料中における固形分の凝集によって発生した異物が被塗工物に付着したりすることを防止した、局所クリーン方式による塗膜形成装置を低コストで供給する。
【解決手段】塗膜を形成するエリアとその外部とを遮断して閉空間1Aをつくり出す横断面矩形の筺体1で構成される、無端状ベルト形状の被塗工物の外周に塗料で塗膜を形成する、塗膜形成装置100において、前記筺体1の上壁の中央部分から前記閉空間1A内にクリーンな空気を給気するファンフィルタユニット3と、前記ファンフィルタユニット3から給気された空気を前記筺体1Aの側壁の内側へ流すように配置された第1の整流板18aと、前記第1の閉空間1A内の空気を外部に排気する排気ファン4と、が設けられているものとする。 (もっと読む)


【課題】サブキャリッジの交換作業開始から各キャリッジを描画位置に配置するまでに要する時間を短縮するとともに、チャンバ内を効率よく温度調節できるパターン形成装置を提供する。
【解決手段】液滴吐出装置1の部屋2を第1室Z1と第2室Z2とに区画する隔壁3を設けた。隔壁3は、第1室Z1と第2室Z2との間を各キャリッジが往復移動可能に、且つ、重量測定ユニット54と第1キャッピングユニットCU1とを第2室Z2に配置させる位置に設けた。第1ドアD1が解錠状態のとき、第1室に位置しているキャリッジと、第2〜第6キャッピングユニットCU2〜CU6と停止状態にした。従って、第2室Z2における機能液の初期充填などの描画準備と第1室Z1における作業者によるサブキャリッジの交換作業とを同時期に行うことができる。また、温度調節を行う空間が第2室Z2だけで済むので温度調節を効率よく行うことができる。 (もっと読む)


【課題】 ノズルの詰まりが低減された微細液滴塗布装置を提供することを目的とする。
【解決手段】 容器と、容器内に設けられ、溶質と溶媒とを含む塗布液を微細液滴に加工して前記容器内に置かれた基板上に塗布する微細液滴塗布手段と、容器内を、溶媒の蒸発を抑制する雰囲気に保持する雰囲気調整手段とを具備する。 (もっと読む)


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