説明

国際特許分類[B05C15/00]の内容

国際特許分類[B05C15/00]に分類される特許

11 - 20 / 100


【課題】 粉体塗装用塗料等の各種塗料が付着したハンガーの再生処理を能率よく行うことができ、しかも処理作業の安全性を十分に確保できる塗装用ハンガーの再生用熱処理装置の提供。
【解決手段】 塗装用塗料が付着したハンガーを筒形炉内に吊り下げた状態で加熱し塗装用塗料を気化させる熱処理装置であって、筒形炉の内部に、外周面に多数の燃焼用空気の噴射孔を有する通風管が垂設され、炉体内壁に沿うように吊架した多数の金属製の棒状フックを介して吊り下げたハンガー群を、前記筒形炉内に供給される燃焼用空気と燃料により加熱する構成となしたことを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】チャンバー内の温度のバラツキの影響を低減させるための温度測定方法および温度補正方法を有する高精度の液滴吐出装置を提供する。
【解決手段】ワークWに対し、インクジェット方式の機能液滴吐出ヘッド30を相対的に移動させながら、機能液滴吐出ヘッド30を駆動して描画を行なう描画装置と、描画装置を収容するチャンバールーム4およびチャンバールーム4内の雰囲気温度を調整する雰囲気調整部5を有するチャンバー装置3と、描画装置2の相互に離間した複数箇所の温度を検出する複数の温度センサー51と、複数の温度センサー51の検出温度を平均化して平均検出温度を求め、平均検出温度に基づいて雰囲気調整手段を制御する制御装置10と、を備えている。 (もっと読む)


【課題】ウエブへ薬剤を理想的に噴霧し、歩留まり、経済性および生産性を向上する。
【解決手段】原反ロールから送り出されたウエブ2の出入口11のみが外部と通じた噴霧室1と、この噴霧室1内に設けられ、ウエブ2へ保湿剤3を噴霧する第一噴霧器12と、この第一噴霧器12とは別に設けられ、ウエブ2へ保湿剤3を噴霧する第二噴霧器13と、噴霧室1を囲むようにして設置され、噴霧室1の下面開口14を入口とし、天井面の上面開口15を出口とする配管4とから構成し、配管4によって第一噴霧器12および第二噴霧器13から噴霧された保湿剤3のうち、ウエブ2に付着しなかった余剰の保湿剤3を真空ポンプ5を備えることにより回収して第二噴霧器13へ送る。 (もっと読む)


本発明は、コーティングブース(2)と、静電気的に動作する堆積ユニット(14)を備える、対象物をコーティングするためのシステム(1)に関する。供給装置(80)は、堆積ユニット(14)の各堆積電極(25)と関連付けられており、供給装置(80)によって、堆積面の上方領域に、堆積液を供給可能である。供給装置は、供給チャネル(81、181)を有し、該供給チャネル(81、181)は、堆積液によって満たされており、その下方領域が、2つの鉄製板バネ(84、85、184、185)によって形成されている。2つのスライドプレート(99、100)が、堆積電極(25)の堆積面の一方側および他方側に対して当接している。スライドプレート(99、100)は、その下端部が、鉄製板バネ(84、85)の下端部の上方に配置される位置と、その下端部が、鉄製板バネ(84、85)の下端部の下方に配置される位置との間で、往復動可能に移動することができる。 (もっと読む)


【課題】半導体基板処理動作中に流体を分配する装置。
【解決手段】当該装置は、複数の流体源に結合された複数の分配ノズルを備える中央流体分配バンクと、中央流体分配バンクの第1の側に位置された第1の処理チャンバとを含む。また、当該装置は、中央流体分配バンクの第2の側に位置された第2の処理チャンバと、中央流体分配バンクと第1の処理チャンバと第2の処理チャンバとの間で並進するようになっている分配アームとを含む。さらに、当該装置は、第1の処理チャンバと第2の処理チャンバとの間に位置された分配アームアクセスシャッタを含む。 (もっと読む)


【課題】移動式塗装小屋の提供。
【解決手段】移動式塗装小屋は、ローラー要素(6)を具備して移動可能なモジュール(1)からなり、従って、さまざまな場所で使用できる。その塗装小屋は、修理機器(2)、空気吸引及びフィルター手段(3)、乾燥手段(4)および照明手段(5)からなる、修理作業の実施に必要な各種の要素を統合してなるものである。 (もっと読む)


【課題】マーキングのためにUVインクを用いる場合に起因する不具合の発生を防止した液滴吐出装置を提供する。
【解決手段】液滴吐出装置3は、サブストレート基板に液滴を吐出して所定のパターンを描画する液滴吐出ヘッドを含む液滴吐出部65と、液滴が吐出されたサブストレート基板に後処理を施す後処理部70と、を備えている。後処理部70は、サブストレート基板を搬送する搬送部と、その処理チャンバー内にサブストレート基板に対して紫外線を照射するランプを備えている。 (もっと読む)


【課題】易酸化性の金属を含む塗布膜の膜質の低下を抑えることができる塗布装置及び塗布方法を提供すること。
【解決手段】易酸化性の金属を含む液状体を基板に塗布する塗布部と、前記塗布部によって前記液状体の塗布される塗布空間及び前記液状体の塗布された前記基板の塗布後移動空間を囲むチャンバと、前記チャンバ内の酸素濃度及び湿度のうち少なくとも一方を調整する調整部とを備える。 (もっと読む)


【課題】易酸化性の金属を含む塗布膜の膜質の低下を抑えることができる塗布装置及び塗布方法を提供すること。
【解決手段】易酸化性の金属を含む液状体を基板に塗布する塗布ステップと、前記液状体が塗布された前記基板を大気圧に対して減圧下で加熱する加熱ステップとを備える。 (もっと読む)


【課題】易酸化性の金属を含む塗布膜の膜質の低下を抑えることができる塗布装置及び塗布方法を提供すること。
【解決手段】易酸化性の金属を含む液状体を基板に塗布する塗布部と、前記塗布部によって前記液状体の塗布を行う塗布空間及び前記液状体の塗布された前記基板の塗布後移動空間を囲むチャンバと、前記チャンバ内の酸素濃度及び湿度のうち少なくとも一方が閾値を超えたときに前記液状体を前記チャンバ内雰囲気から隔離させる隔離機構とを備える。 (もっと読む)


11 - 20 / 100