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国際特許分類[B05C9/14]の内容

国際特許分類[B05C9/14]に分類される特許

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【課題】基材の表面に塗布された塗膜を乾燥するにあたり、乾燥後に塗膜に残留する溶剤の量を大きく減少させることができるとともに塗膜表面の質が悪化することを防止することにより、乾燥後の塗膜の品質を良好なものとすることができる乾燥装置および乾燥方法を提供する。
【解決手段】各温度測定部24により測定された塗膜の表面温度に基づいて、基材W上の塗膜に対する各乾燥ノズル22による乾燥強度を調整するよう各乾燥ノズル22を制御する。この際に、温度測定部24により測定された塗膜の表面温度が予め設定された設定温度以上となった場合には、基材Wの搬送方向におけるこの温度測定部24よりも下流側にある各乾燥ノズル22による塗膜に対する乾燥強度を、当該温度測定部24よりも上流側にある各乾燥ノズル22による塗膜に対する乾燥強度よりも大きくする。 (もっと読む)


【課題】ウェブ上の液滴接触角を製造工程のなかで測定する塗布システムを提供する。
【解決手段】塗工部20でハードコート剤を塗布し、乾燥部30で熱風乾燥したウェブ11の搬送中に、その一部を切離部40により切り離し試験サンプル71を得る。滴下試験部60は、滴下装置61によりこの試験サンプル71に液滴を滴下し、カメラ63で液滴を撮影し、液滴65を撮影した画像から、計測装置69により液滴65の接触角75を算出、計測する。計測装置69は、計測した接触角75に応じて、乾燥部30の乾燥条件を制御するための制御信号を乾燥部30に出力する。 (もっと読む)


【課題】バインダーの偏在を抑制できる電極シート製造装置を提供する。
【解決手段】集電箔Sに電極ペーストPを塗工し、塗工した電極ペーストPを乾燥させることにより電極シートを製造する電極シート製造装置100であって、電極ペーストPを、常温以上かつ電極ペーストPに含まれる溶媒の揮発温度以下の予熱温度T0で予熱する加熱ユニット110と、加熱ユニット110によって予熱された電極ペーストPを、集電箔Sに塗工するスロットダイ120と、スロットダイ120によって塗工された電極ペーストPを、予熱温度T0と略同一の第一乾燥温度T1で乾燥させる第一乾燥炉130と、第一乾燥炉130によって乾燥させた電極ペーストPを、電極ペーストPに含まれる溶媒の揮発温度以上の第二乾燥温度T2で乾燥させる第二乾燥炉140と、を具備する。 (もっと読む)


【課題】 樹脂組成物によるノズル詰まりが発生すると、従来の洗浄方法で詰まりを解消することが困難である。
【解決手段】 テーブルが、樹脂組成物を塗布する対象の基板を保持する、樹脂組成物の液滴を基板に向かって吐出する複数のノズルが設けられたノズルユニットが、テーブルに保持された基板に対向する。移動機構が、テーブルを、基板の面内方向に移動させる。局所加熱装置が、ノズルユニットの複数のノズルから選択された1つのノズル及びその近傍を局所的に加熱する。 (もっと読む)


【課題】
帯状の基材に粘着剤層が形成された粘着シートを製造すべく、基材に形成されたエマルション粘着剤溶液を乾燥するための粘着シート製造用乾燥装置であって、粘着シートの乾燥装置へのセッティングや乾燥装置のメンテナンスが簡便に行えるとともに、粘着シートの自重による撓みを抑制し、粘着シートの乾燥装置への接触を防止することを課題とする。
【解決手段】
粘着シート製造用乾燥装置には、搬送コンベア、マイクロ波導波路部材が備わっており、マイクロ波導波路部材は、2枚の鋼板に設けられた溝を対向させることによってマイクロ波導波路が形成されたものであり、マイクロ波導波路部材には、搬送コンベアと粘着シートを通過させるためのスリットが設けられていることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】電極性能の低下を招くことなく、スラリー状態の電極層に含まれる溶媒を効率よく揮発させて、乾燥時間の短縮を図ることが可能な電極乾燥方法、および電極乾燥装置を提供する。
【解決手段】電極乾燥装置10は、溶媒21を含む電極スラリー20を電極箔30に塗布することによって形成された電極層40を乾燥炉50の中において乾燥させる。電極乾燥装置は、電極層内に残存する溶媒濃度と乾燥炉内の雰囲気57における溶媒濃度との濃度差を、雰囲気における溶媒濃度を高めることによって小さくする蒸発速度調整部材70と、電極層を乾燥させる熱を付与するヒーター部80と、を有している。 (もっと読む)


【課題】発生する揮発性有機化合物、悪臭物質及びヤニ類を効率よく分解して無害化できる、安価な構造及び運転コストの低廉な排気ガス処理装置を有する省エネ式の乾燥・焼付炉を提供する。
【解決手段】乾燥・焼付炉1の上部を区画し、この部分に揮発性有機化合物を含むガスやヤニ類を、触媒と接触させて無害化する浄化装置19を設け、触媒の加熱及び反応熱を使って乾燥・焼付部7の吸気を加熱することで、乾燥・焼付部7と浄化装置19を一体とする。 (もっと読む)


【課題】塵PおよびレジストRを基板Wの周縁部Eから同時に除去する。
【解決手段】基板Wの周縁部Eに液状の被覆剤Cを塗布して、基板Wの周縁部Eに付着した塵Pを液状の被覆剤Cによって覆う。そして、基板周縁部Eに付着した塵Pを覆う被覆剤Cを硬化させることで、当該塵Pを硬化された被覆剤Cの内部に捕捉する。したがって、被覆剤Cを基板Wの周縁部Eから除去することで、基板Wの周縁部Eから塵Pを除去することができる。さらに、基板Wの周縁部Eに被覆剤Cを塗布した後に、基板表面WfにフォトレジストRを塗布するため、基板Wの周縁部Eでは、フォトレジストRは被覆剤Cの上に塗布される。したがって、基板Wの周縁部Eから被覆剤Cを除去した際には、被覆剤Cの上に塗布されたフォトレジストRも被覆剤Cとともに基板Wの周縁部Eから除去される。こうして、塵PおよびフォトレジストRを基板Wの周縁部Eから同時に除去できる。 (もっと読む)


【課題】本発明の課題は、有機溶媒などの揮発性の液体を含む塗膜を形成したフィルムや基板の乾燥装置において、乾燥装置周囲の環境の変化や乾燥装置の出力変化に追従して乾燥装置の動作状態を逐次設定し、装置内の塗膜の乾燥速度を最適となるように制御する機能を持った塗膜乾燥装置を提供することである。
【解決手段】塗膜が形成された基材を搬送するための搬送装置と、搬送中の基材表面の塗膜を乾燥させるための乾燥装置と、搬送される基材表面に形成された塗膜の乾燥速度を測定する塗膜乾燥速度測定装置と、前記塗膜乾燥速度測定装置から得られる乾燥速度をもとに、塗膜の乾燥速度が常に最適な乾燥速度となるように、前記乾燥装置を制御する制御装置で構成される塗膜乾燥装置を提供する。 (もっと読む)


【課題】簡易な構造でわずかな乾燥ムラの発生を抑制することができる塗布物の製造装置および製造方法を提供する。
【解決手段】搬送中の帯状の基材3に有機溶剤を含む塗布液を塗布した後、乾燥炉4を通過させて乾燥する装置であって、乾燥炉は塗布膜が搬入する搬入口を有する搬入側乾燥炉4aと、塗布膜を搬出する搬出口を有する搬出側乾燥炉4cと、両者の間の少なくとも1つの中間乾燥炉4bとを備えており、搬入側乾燥炉内外の差圧を−0.1Pa以上0.1Pa以下の範囲となるように制御し、中間乾燥炉内部および搬出側乾燥炉内部の圧力を乾燥炉外部の圧力より1Pa以下の範囲で低くなるように制御する。 (もっと読む)


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