【課題】ターゲットに含まれる強磁性金属元素の含有量を減少させずに、マグネトロンスパッタリング時の漏洩磁束量を従来よりも増加させることができるマグネトロンスパッタリング用ターゲットを提供する。
【解決手段】強磁性金属元素を有するマグネトロンスパッタリング用ターゲットであって、前記強磁性金属元素を含む磁性相１２と、前記強磁性金属元素を含み、かつ、構成元素またはその含有割合の異なる複数の非磁性相１４、１６と、酸化物相１８とを有しており、前記磁性相１２および前記複数の非磁性相１４、１６からなる各相は、お互いに前記酸化物相１８により仕切られている。 （もっと読む）

【課題】焼結時や加工時に割れの発生しないＣｕ、Ｉｎ、ＧａおよびＳｅを含有するＣｕ−Ｉｎ−Ｇａ−Ｓｅ系粉末、およびこれを用いた焼結体およびスパッタリングターゲットを提供することを目的とする。
【解決手段】本発明は、Ｃｕ、Ｉｎ、ＧａおよびＳｅの元素を含有する粉末であって、Ｃｕ−Ｉｎ−Ｇａ−Ｓｅ系化合物および／またはＣｕ−Ｉｎ−Ｓｅ系化合物を、合計で６０質量％以上含有することを特徴とする粉末である。本発明の粉末は、Ｉｎ−Ｓｅ系化合物を２０質量％以下および／またはＣｕ−Ｉｎ系化合物を２０質量％以下含有することが好ましい。 （もっと読む）

【課題】生産効率の良いＳｉ系材料の製造方法を提供する。
【解決手段】炭素系るつぼ１２、または、炭素系サセプタ１６内に配置した耐熱ガラスるつぼ１８内に純Ｓｉまたは純Ｓｉおよび下記合金原料Ｘを投入し、高周波誘導加熱により炭素系るつぼ１２または炭素系サセプタ１６を加熱して、るつぼ１２、１８内の純Ｓｉまたは純Ｓｉおよび下記合金原料Ｘを溶解し、溶湯１４を得る工程と、合金原料Ｘ：長周期型周期表の２Ａ族元素、遷移元素、２Ｂ族元素、３Ｂ族元素、および、４Ｂ族元素から選択される１または２以上の元素、アトマイズ法またはロール急冷法を用いて、溶湯１４からＳｉ系材料を得る工程とを有する製造方法とする。 （もっと読む）

【課題】比較的低温で焼成しても良好に焼結し、高密度の焼結体を製造可能な造粒粉末、およびかかる造粒粉末を容易に製造可能な造粒粉末の製造方法を提供すること。
【解決手段】本発明のチタン焼結体は、チタン系粉末を焼結してなるものであり、チタンα相の結晶組織を含んでいる。この結晶組織は、平均粒径が５μｍ以上５０μｍ以下のものであり、かつアスペクト比が３以下のものである。また、チタン焼結体の酸素含有量は質量比で３０００ｐｐｍ（０．３質量％）以下である。また、窒素含有量は質量比で１０００ｐｐｍ（０．１質量％）以下であるのが好ましく、炭素含有量は質量比で１５００（０．１５質量％）ｐｐｍ以下であるのが好ましい。 （もっと読む）

【課題】面内均一性に極めて優れたＡｇ系薄膜を形成するのに有用なＡｇ系スパッタリングターゲットを提供する。
【解決手段】Ａｇ系スパッタリングターゲットのスパッタリング面の平均結晶粒径ｄ_aveを下記手順（１）〜（３）によって測定したとき、平均結晶粒径ｄ_aveは１０μｍ以下を満足する。（手順１）スパッタリング面の面内に任意に複数箇所を選択し、選択した各箇所の顕微鏡写真（倍率：４０〜２０００倍）を撮影する。（手順２）各顕微鏡写真について、井桁状または放射線状に４本以上の直線を引き、直線上にある結晶粒界の数ｎを調べ、各直線ごとに下式に基づいて結晶粒径ｄを算出する。ｄ＝Ｌ／ｎ／ｍ式中、Ｌは直線の長さ、ｎは直線上の結晶粒界の数、ｍは顕微鏡写真の倍率を示す。（手順３）全選択箇所の結晶粒径ｄの平均値をスパッタリング面の平均結晶粒径ｄ_aveとする。 （もっと読む）

【課題】安全に製造することが可能なＩｎ−Ｓｅ合金粉末、Ｉｎ−Ｓｅ合金焼結体、Ｇａ−Ｓｅ合金粉末、Ｇａ−Ｓｅ合金焼結体、Ｉｎ−Ｇａ−Ｓｅ合金粉末、Ｉｎ−Ｇａ−Ｓｅ合金焼結体、Ｃｕ−Ｉｎ−Ｇａ−Ｓｅ合金粉末及びＣｕ−Ｉｎ−Ｇａ−Ｓｅ合金焼結体の製造方法を提供すること
【解決手段】本発明のＩｎ−Ｓｅ合金粉末の製造方法は、Ｉｎ粉末とＳｅ粉末を混合してＩｎ及びＳｅ混合粉末を作製する。Ｉｎ及びＳｅ混合粉末は、Ｉｎ及びＳｅの融点以上に加熱された加熱部に逐次的に投入される。
Ｉｎ及びＳｅ混合粉末は、加熱部に逐次的に投入されるため、その部分に含まれるＩｎとＳｅの合金化反応により発生した熱は次のＩｎ及びＳｅ混合粉末が投入されるまでに放熱される。したがって、ＩｎとＳｅの合金化反応に伴なう熱が爆発的に発生することが防止され、安全にＩｎ−Ｓｅ合金粉末を製造することが可能となる。 （もっと読む）

【課題】肉盛合金の靭性を高めると共に、相手材との耐摩耗性を向上させることができる肉盛用合金粉末を提供する。
【解決手段】肉盛用合金粉末は、Ｃ：０．７〜１．０質量％、Ｍｏ：３０〜４０質量％、Ｎｉ：２０〜３０質量％、Ｃｒ：１０〜１５質量％、及び残部がＣｏと不可避不純物からなる合金粉末、または、Ｃ：０．２〜０．５質量％、Ｍｏ：３０〜４０質量％、Ｎｉ：２０〜３０質量％、及び残部がＣｏと不可避不純物からなる合金粉末である。 （もっと読む）

【課題】 高硬度、高靭性で、しかも安価なショットピーニング用投射材を提供する。
【解決手段】 質量％で、Ｂ：５〜８％、Ｃ：０．０５〜１％を含み、残部Ｆｅおよび不可避的不純物よりなり、かつ、ＢとＣの合計が８．５％以下であることを特徴とするショットピーニング用高硬度投射材。さらに、上記に加えて、Ｃｒ：２５％以下を含むショットピーニング用高硬度投射材。 （もっと読む）

【課題】熱電材料の製造時間を短縮化し得てコストを低減できるとともに不純物が少なく、熱電特性の良好なFe_２VAl基ホイスラー型熱電材料の製造方法を提供する。
【解決手段】Fe_２VAl基ホイスラー化合物の原料を溶解する溶解工程と、溶湯をガスアトマイズ法により急冷凝固させて粉末化する粉末化工程とを経て製造したアスペクト比が５以下の粉末を７０％以上含む熱電材料の粉末を、その後に粉砕処理することなく直接焼結を行って熱電材料を製造する。 （もっと読む）

【課題】ギャップを設けないリアクトルのコアに好適で、高圧に加圧しなくてもよい軟磁性複合材料の製造方法を提供する。
【解決手段】本発明軟磁性複合材料の製造方法は、次の工程を備える。（見掛密度／真密度）×100で表される密度比が45％超70％以下の軟磁性粉末を準備する準備工程。この軟磁性粉末10と樹脂20とを混合する工程であって、この混合時の樹脂温度における樹脂20の粘度を100mPa・s〜100Pa・sに調整して混合を行う混合工程。この混合材料を型3に充填し、大気圧以上1MPa以下の圧力にて樹脂を硬化させて成形体を得る成形工程。この方法によれば、所定の密度比の軟磁性粉末を用いることで、ある程度軟磁性粉末の充填率が高い軟磁性複合材料を得ることができる。 （もっと読む）