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国際特許分類[B29C33/42]の内容

国際特許分類[B29C33/42]に分類される特許

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【課題】樹脂の分流や流動の妨げの要因となるような金型の凸形状部などがキャビティ内に存在した場合でも、意匠面にウエルドや樹脂の流動模様である配向ラインのない高品位の外観を得ることができる樹脂成形方法、金型装置および樹脂成形品を提供する。
【解決手段】金型2のキャビティ9内に出退自在の流動堰5を配設し、この流動堰5により樹脂の充填経路を制御し、意匠面以外の凹凸形状などが設けられている領域のみにウエルドや樹脂の流動模様である配向ラインを発生させ、それら以外にはウエルドや樹脂の流動模様である配向ラインを発生させないとともに、ウエルドや樹脂の流動模様である配向ラインの発生するエリアには意匠面を有する別部品を取り付ける。これにより、所望のメタリック調外観を得る。 (もっと読む)


【課題】第1成形型と第2成形型とを具備し、これら成形型を組み合わせて1つの成形品を成形する成形装置を提供する。
【解決手段】成形品を成形した後、第1成形型に成形品を把持させた状態で第2成形型を第1成形型から離れるように移動させ、その後、第1成形型に把持されている成形品を第1成形型から押し出すことによって成形品を成形装置50から排出する成形装置50に関するもので、成形品の成形時に第1成形型に把持される成形品の部分に成形品を第1成形型から押し出す方向に延在するリブ20が形成される。 (もっと読む)


【課題】親テンプレートからインプリント法により個別識別マークを備えたテンプレートを容易に作製する。
【解決手段】第1のテンプレートからインプリント法により第2のテンプレートを作製するテンプレート作製方法であって、第1のテンプレート上に形成された転写を希望する凹凸パターンに対応する被処理基板上のパターン形成領域に第1のレジストを塗布し、第1のテンプレート上のパターンの形成されていない領域に対応する被処理基板上のマーク形成領域に、所望するパターンとなるように第2のレジストを選択的に塗布する。レジストが塗布された被処理基板上に第1のテンプレートを密着させて、第1のテンプレートの凹部に第1のレジストを浸透させる。第1及び第2のレジストを硬化させ、硬化されたレジストをマスクに用いて被処理基板を加工する。 (もっと読む)


【課題】タイヤのサイドウォール部の文字列表示領域の大きさの如何にかかわらず、その領域に表示される文字列の優れた視認性を十分に確保することができる空気入りタイヤに文字列を表示する方法を提供する。
【解決手段】文字列表示領域内に、複数の文字を含む文字列を表示する方法であって、文字列を任意に変倍する変倍工程S1と、変倍後の文字列が所定条件を満たしているか否かを判別する判別工程S2と、文字列が所定条件を満たしていない場合、所定条件を満たすように変倍後の文字列の縦方向と横方向の変倍率とをそれぞれ独立に調整する調整工程S3と、変倍後または調整後の所定条件を満たした文字列を、文字列表示領域内に表示する表示工程S4とを有する。 (もっと読む)


【課題】樹脂バリを除去する作業を行わずとも、半導体パッケージの外観が損なわれることを抑制し、かつ半導体パッケージの薄型化を図る。
【解決手段】半導体パッケージ100は、半導体チップ60と、半導体チップ60をダイパッド52に搭載したリードフレーム50と、半導体チップ60、及びダイパッド52を上面及び下面から封止した樹脂10と、を備え、樹脂10は、表面に設けられた凹部30と、裏面に設けられ、平面視で凹部30の内側に位置する凹部40とを有する。 (もっと読む)


【課題】 本発明は、モールドの製造に複雑な工程を要することなく、モールド材と同じ材料からなるアライメントマークを直接光学的に識別することを可能とし、高いアライメント精度で位置合わせすることができるインプリント用モールド、アライメント方法、インプリント方法、およびインプリント装置を提供することを目的とするものである。
【解決手段】 ステップアンドリピート方式のインプリントにおいて、モールド側アライメントマークを、モールドの転写領域と同一面上であって、溝構造を隔てた位置に形成し、インプリントしようとしている被転写領域内の基板側アライメントマークではなく、前記被転写領域に対して上下、左右、対角に接する被転写領域内の基板側アライメントマークとアライメントすることにより、上記課題を解決する。 (もっと読む)


【課題】ゴムの流動性を確保しながら、タイヤ外表面でのクラックを防止できるタイヤモールド、空気入りタイヤの製造方法及び空気入りタイヤを提供する。
【解決手段】タイヤを加硫成型するためのタイヤモールドMにおいて、タイヤ外表面に押し当たるタイヤ成型面10に、最大高さRzが4μm以上であり、最大高さRzの20%を切断レベルcとしたときの負荷長さ率Rmr(c)が3.5%以上かつ最大高さRzの30%を切断レベルcとしたときの負荷長さ率Rmr(c)が25%以下である粗面成型部1を備える。 (もっと読む)


【課題】 硬化性材料の充填時間の短縮化を図れるテンプレートを提供すること。
【解決手段】 テンプレートは、硬化性材料が塗布された第1の基板に100nm以上の一辺を有するパッド、ダミーパターンまたはマークである大パターンとこの大パターンよりも小さな微細パターンとを有するパターンを転写するために使用されるインプリント用のテンプレートであって、前記硬化性材料と接触する面を有する第2の基板と、前記面上に設けられ、前記第1の基板に転写される前記大パターンに対応する凸状の輪郭を有する凹部と、前記凹部の体積を小さくするために、前記凹部内に配置された複数の凸部とを具備してなり、前記複数の凸部は、前記凹部内において、マトリクス状または不規則に配列されていることを特徴する。 (もっと読む)


【課題】ワックス組成物が塗布されたある長さのデンタルフロスを含む一回使用フロスホルダーを形成するための金型を提供する。
【解決手段】この金型は、中に配置される第1の空洞を有する第1の部分であって、第1の空洞は底部基部面と周縁側壁とによって画定され、第1の空洞は、基部部分と、近位部と遠位部とを有し基部部分から延出する第1及び第2の離間部分と、を含む、第1の部分と、中に配置される第2の空洞を含む第2の部分であって、第2の空洞は底部基部面と周縁側壁とによって画定され、第2の空洞は、基部部分と、近位部と遠位部とを有し基部部分から延出しかつ遠位部で終端する、第1及び第2の離間部分と、を含む、第2の部分と、約10:1以上のアスペクト比、並びに第1及び第2の末端部と中間部とを有する溝であって、溝は第2の部分の全幅にわたって延び、溝の第1及び第2の末端部は、それぞれ第2の空洞の第1及び第2の離間部分の遠位部を横切り遠位部と一致する、溝と、を含む。 (もっと読む)


【課題】製造ラインを止めることなく、用途の異なる光学フィルムの連続的製造、ロールの交換およびロールの清掃が可能な光学フィルムの製造装置を提供すること。
【解決手段】1以上の鋳型ロール2および1以上の鏡面ロール3を備えた凹凸転写手段10を有し、該凹凸転写手段においてポリマーフィルム1を鋳型ロール2と鏡面ロール3に交互に張架させて搬送することにより、鋳型ロール表面の凹凸形状をポリマーフィルムに転写させる光学フィルムの製造装置であって、前記凹凸転写手段10におけるロールのうち少なくとも1つのロールが位置変更可能な可動式であることを特徴とする光学フィルムの製造装置。 (もっと読む)


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