【課題】樹脂製モールドの劣化を抑制することができるパターン形成方法を提供する。
【解決手段】基板と凹凸パターンが形成されたモールドとで光硬化性成分を含有する液状の被転写材層を挟み込んで成形した後、前記被転写材層を露光して光硬化層とし、該光硬化層から前記モールドを離型するパターン形成方法であって、前記モールドが有機高分子化合物からなり、前記被転写材層に含有される成分全体の数平均分子量が３５０以上であり、かつ、前記被転写材層中の全成分のうち、分子量３００未満の成分が５０質量％未満である。 （もっと読む）

【課題】貫通孔近辺の耐傷性が優れ、水等に対するシール性が優れた貫通孔を有するシール部材形成用硬化性液状シリコーンゴム組成物、貫通孔近辺の耐傷性が優れ、水等に対するシール性が優れた貫通孔を有するシール部材を提供する。
【解決手段】液状アルケニル基含有オルガノポリシロキサン、補強性シリカ、オルガノハイドロジェンポリシロキサン、白金族系触媒、前記オルガノポリシロキサンと相溶性の架橋性基を有しない液状オルガノポリシロキサンおよび非相溶性の架橋性基を有しない液状オルガノポリシロキサンからなり、硬化物のＪＩＳタイプＡデュロメータ硬さが１５〜２６、１００％伸び時の引張応力が０.２５〜０.６０ＭＰａである液状シリコーンゴム組成物。この硬化物からなる貫通孔を有するシール部材。 （もっと読む）

【課題】磁気駆動式マイクロピラー基板において、目標の鋳型孔のみに確実に磁性体を入れ、自由に磁気駆動できるようにする。
【解決手段】複数の鋳型孔が形成された鋳型３の表面にマスク１を付けて、磁性体を入れる予定の鋳型孔以外をマスキングし、磁性体としての鉄粉５を含む鉄粉含有ＰＤＭＳ６をマスキングした鋳型３に注入して遠心処理し、マスクを外した後、鉄粉を含まないＰＤＭＳ８を鋳型３に注入する。この後、鋳型３の背面に永久磁石９をあてがいながら焼き固めて、磁気駆動式マイクロピラー基板１０を生成する。最後に、磁気駆動式マイクロピラー基板１０を鋳型３から剥離する。 （もっと読む）

【課題】当接する他部材との間の電位差により引き起こされる電流リークを抑制し、長期間にわたって安定した画像形成が可能な現像ローラを提供する。
【解決手段】軸芯体、シリコーンゴムを含む弾性層及び樹脂層をこの順で具備する現像ローラであって、該弾性層の端面にＳｉＯ₂が偏在していることを特徴とする。なお、このシリコーンゴム弾性層端面にＳｉＯ₂を偏在させることで、該弾性層の端部は高抵抗化されている。また、該ＳｉＯ₂の偏在は、弾性層端部に直流電流を印加することにより達成できる。 （もっと読む）

【課題】繰り返しパターン転写を行っても良好なパターン形成性を有し、かつ、硬化したパターンの耐溶剤性が良好であるナノインプリント用硬化性組成物の提供。
【解決手段】（Ａ）重合性化合物および（Ｂ）光重合開始剤を含有し、前記（Ａ）重合性化合物として、（Ａ１）フッ素原子とシリコン原子のうち少なくとも一方を有する重合性化合物および、（Ａ２）芳香族基を有する重合性化合物を含有することを特徴とするインプリント用硬化性組成物。 （もっと読む）

【課題】耐クラック性、耐衝撃性に優れ、表面タックが少ないシリコーン硬化物からなるレンズの製造方法を提供する。
【解決手段】
該レンズは、（Ａ）Ｒ¹ＳｉＯ_1.5単位（Ｔ単位）、Ｒ²₂ＳｉＯ単位（Ｄ単位）、及びＲ³_aＲ⁴_bＳｉＯ_(4-a-b)/2単位からなり（Ｒ¹、Ｒ²及びＲ³はメチル基等、Ｒ⁴はビニル基又はアリル基、ａは０〜２の整数、ｂは１又は２、ａ＋ｂは２又は３）、Ｄ単位の繰返し数が５〜３００のオルガノポリシロキサン、（Ｂ）Ｔ単位、Ｄ単位、及びＲ³_cＨ_dＳｉＯ_(4-c-d)/2単位からなり（ｃは０〜２の整数、ｄは１又は２、ｃ＋ｄは２又は３）、Ｄ単位の繰り返し数が５〜３００のＳｉ−Ｈ含有ポリシロキサン：（Ａ）中のビニル基又はアリル基に対する（Ｂ）中のＳｉ結合水素原子がモル比で０．１〜４．０となる量、（Ｃ）触媒、及び（Ｄ）蛍光体を含むシリコーン樹脂組成物を加熱成形して硬化させることからなる。 （もっと読む）

【解決手段】オープンゲート方式の金型内に、２３℃におけるせん断速度１０ｓ^-1の粘度ａとせん断速度１００ｓ^-1の粘度ｂとの比（ａ／ｂ）が２．５以上の流動性を有する液状付加硬化型シリコーンゴム組成物を射出し、硬化してシリコーンゴム成形品を製造する方法であって、金型のゲート先端部の径をφ０．２５ｍｍ以下とすることを特徴とするシリコーンゴム組成物の射出成形方法。
【効果】本発明によれば、射出成形において、成形不良のないシリコーンゴム成形品を形成し、生産性向上に寄与することができるものである。 （もっと読む）

【課題】高い電磁シールド性を発揮する超音波診断装置用レンズ及びその製造方法を提供すること。
【解決手段】シリコーンゴム組成物で形成されたキャップ１０と、キャップ１０の内表面に密設された銅薄膜１１とを備えて成り、前記銅薄膜は伸びが４〜１２％であることを特徴とする超音波診断装置用レンズ２、並びに、凸部を有する第１金型と前記凸部が進入可能な凹部を有する第２金型とを備えて成る成形金型を用いて、前記凸部と前記凹部との間に配置された銅薄膜とシリコーンゴム組成物とを圧縮成形することを特徴とする請求項１又は２に記載の超音波診断装置用レンズの製造方法。 （もっと読む）

【課題】携帯電話、ゲーム機、ノート型パソコンなどの電子機器に組み込まれるシール構造体の製造に適用されるインサート成形方法において、その所要時間を短縮する。
【解決手段】金型に中子９をインサートする。金型のキャビティ内に樹脂を注入して固化させることにより、中子９の周囲にチューブ２を成形するとともに、中子９に離型用ボス１３を成形する。離型用ボス１３を把持しつつ中子９を金型から離型する。これにより、金型から中子９を離型するのが容易かつ迅速になるため、インサート成形方法の所要時間を短縮することができる。 （もっと読む）

【課題】インプリント法において使用する微細凹凸パターン形成用シートであって、使用前には保存安定性に優れ、かつ、耐擦傷性が高いハードコート層を形成するための微細凹凸パターン形成用シートを提供すること。
【解決手段】基材上に、
ａ）式（Ｉ）
Ｒ^１_ｎＳｉＸ_４−ｎ・・・（Ｉ）
（式中、Ｒ^１のうち１以上はビニル基含有炭化水素基を表す。）で表される化合物、
式（ＩＩ）
Ｒ^２_ｎＳｉＸ_４−ｎ・・・（ＩＩ）
（式中、Ｒ^２は式中のＳｉに炭素原子が直接結合した、ビニル基含有炭化水素基以外の有機基を表す。）で表される化合物、及びそれらの加水分解縮合物からなる有機ケイ素化合物
ｂ）電磁線硬化性化合物又は一部が硬化した電磁線硬化性化合物、及び
ｃ）Ｔｉ、Ｓｎ、Ａｌ及びＺｒから選ばれる１種類以上の金属化合物
を含有する半硬化物からなる層を有することを特徴とするインプリント法による微細凹凸パターン形成用シートである。 （もっと読む）