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国際特許分類[B32B9/00]の内容

処理操作;運輸 (1,245,546) | 積層体 (52,471) | 積層体,すなわち平らなまたは平らでない形状,例.細胞状またはハニカム状,の層から組立てられた製品 (52,471) | 本質的にグループ11/00〜29/00に包含されない特殊な物質からなる積層体 (2,995)

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【課題】 真空成膜装置によりコーティング膜上に無機膜を成膜する際に、無機膜の割れ/抜け等の欠陥を引き起こすコーティング膜の平滑性悪化を防止する機能性フィルムの製造方法、及び製造装置を提供する。
【解決手段】
コーティング膜成膜装置20内で、フィルムロール40から連続的に支持体Bを送り出し、支持体B上にコーティング膜を成膜し、支持体Bを大気圧より減圧下でフィルムロール42に巻き取る。次いで、フィルムロール42を真空成膜装置22内に装填し、フィルムロール42から連続的に支持体Bを送り出し、コーティング膜上に無機膜を成膜し、支持体Bをフィルムロール48に巻き取る。 (もっと読む)


【課題】斜め方向も含めて赤味の反射色調が低減し、且つ近赤外域の反射率の向上がなされた窓用ガラス積層体を提供することを課題とする。
【解決手段】ガラス基材と、該ガラス基材上に形成される薄膜積層体とからなり、該薄膜積層体は、ガラス基材側から順次、誘電体からなる第1層、Agを主成分とする金属からなる第2層、誘電体からなる第3層、Agを主成分とする金属からなる第4層、そして、誘電体からなる第5層を有し、第2層と第4層の幾何学的厚さの総和が22〜29nm、第2層の幾何学的厚さが第4層の幾何学的厚さの0.3〜0.8倍であり、第1、3、5層の光学的厚さの総和が220〜380nm、第3層の光学的厚さが140〜200nm、第1層の光学的厚みが第5層の光学的厚さの0.4〜1.5倍とすること。 (もっと読む)


【課題】基材表面が親水性および疎水性のいずれであっても、自己組織化反応によってナノシートとポリマーとの複合薄膜を形成することのできるナノシートとポリマーとの複合薄膜の製造方法、およびナノシートとポリマーとの複合薄膜を提供すること。
【解決手段】ナノシートとポリマーとの複合薄膜の製造方法において、正電荷層を形成した後、正電荷層に自己組織化反応によって酸化ルテニウムナノシートを吸着させてナノシートとポリマーとの複合薄膜を形成する。その際、カチオン部(NH2+)、親水部(OH)および疎水部(−CH2−CH2−)を備えたPVA共重合体を用いる。 (もっと読む)


【課題】無機酸化物層を形成したプラスチック基材フィルムと他の樹脂フィルムなどとラミネートを行い、高温多湿環境で長期間保存された場合の、プラスチック基材フィルムと無機酸化物層との密着性の低下を生じ難くすること。
【解決手段】プラスチック基材フィルムと、前記基材フィルムの一方の主面上に形成され、ポリウレタン系樹脂、窒素原子含有成分、珪素原子含有成分を含んだプライマー層と、前記プライマー層上に気相堆積法によって形成された無機酸化物層とを具備したことを特徴とする高密着透明ガスバリア性フィルムとそれを用いた高密着ガスバリア性積層体。 (もっと読む)


【課題】透明導電性が高く、かつ透過光の色調がニュートラルであるCNTを導電膜とする透明導電積層体を提供する。
【解決手段】透明基材の少なくとも片面上にカーボンナノチューブ導電膜と透明保護膜とが透明基材側からこの順に設けられた透明導電積層体であって、該透明保護膜側の反射率曲線の極小値が350〜550nmの波長範囲にあり、かつ波長380〜780nmにおける透明保護膜側の平均反射率が4%以下である透明導電積層体。 (もっと読む)


【課題】帯電防止性および耐久性の良好な反射防止層を形成できる光学物品を提供する。
【解決手段】プラスチックレンズ基材1と、この基材1の上にハードコート層2を介して形成された透光性の反射防止層3とを有し、反射防止層3の1つの層32の表面33がシリサイド化されているレンズ10を提供する。このレンズサンプルは、シート抵抗が従来のサンプルに比較し、3桁〜6桁(103〜106)程度小さくなり、光吸収損失の大幅な増加もなく、優れた耐薬品性および耐湿性を備えている。 (もっと読む)


【課題】天然資源を有効利用し、環境に優しい廃棄処理あるいはリサイクリングが可能でコスト的にも安価であり、且つ、完全な水溶性多糖類ではなく、高い結晶性を有するセルロース系コーティング剤であり、コーティング剤によって形成されるコーティング層が湿度劣化や温度依存性が抑制された優れた酸素バリア性を有し、また加工適性や保存適性にも優れ、優れた透明性と可とう性を有する成形体を提供する。
【解決手段】繊維状の微細セルロースを含有し、且つ、該微細セルロースの結晶化度が70%以上98%以下の範囲内であり、且つ、該微細セルロースの繊維幅が1nm以上1μm以下の範囲内であり、且つ、該微細セルロースの長さが繊維幅の100倍以上10000倍以下の範囲内であることを特徴とするコーティング剤。 (もっと読む)


【課題】本発明は基材の両面に加工を行う場合に、電子ペーパーや有機ELなどのFPD向けとして好適に用いることができる透明なガスバリア性積層フィルムの製造方法を提供すること。
【解決手段】透明なプラスチックフィルムからなる基材層1−1の両面上に、一方の面上にアンカーコート層2−1とガスバリア層3−1を順次積層し、もう一方の面上にアンカーコート層2−2とガスバリア層3−2を順次積層してなるガスバリア性積層フィルムにおいて、前記アンカーコート層を、フラッシュ蒸着法を用いて重合可能なアクリル系のモノマーまたはモノマーとオリゴマーとの混合物を前記基材層上に成膜し、紫外線または電子線を照射して硬化させて形成することを特徴とするガスバリア性積層フィルムの製造方法とする。 (もっと読む)


【課題】選択波長の設計の自由度が高く、且つ、フィルタ性能の向上を図れる赤外線光学フィルタおよびその製造方法を提供する。
【解決手段】赤外線透過材料(Si)からなる基板1と、基板1の一表面側で並設された複数のフィルタ部2,2とを備え、各フィルタ部2,2は、互いに屈折率が異なり且つ光学膜厚が等しい2種類の薄膜21b,21aが交互に積層された第1のλ/4多層膜21と、第1のλ/4多層膜21における基板1側とは反対側に形成され2種類の薄膜21a,21bが交互に積層された第2のλ/4多層膜22と、第1のλ/4多層膜21と第2のλ/4多層膜22との間に介在し所望の選択波長に応じて光学膜厚を各薄膜21a,21bの光学膜厚とは異ならせた波長選択層23,23とを備える。薄膜21bの低屈折率材料としてAlを採用し、薄膜21aの高屈折率材料としてGeを採用する。 (もっと読む)


【課題】光学機能及び導電機能を別々に形成する積層フィルムよりも製造工程を削減し、かつ、歩留まりを向上させることができる優れた積層フィルムを提供すること。
【解決手段】積層フィルム10は、透明な樹脂基板11と、ハードコート層12と、光学膜13、14,15と、透明導電膜16とを具備している。光学膜13、14、15及び透明導電膜16は、樹脂基板11の屈折率とは異なる屈折率を有している。積層フィルム10は、40℃90%Rhにおける水蒸気透過速度が1.0g/m・day以下であるように形成されている。積層フィルム10は、全光線透過率(JIS−K7105)が90%以上であり、かつ、D65光源の透過光の色相をL*a*b*表色系で表す場合のb*の値が−1.0以上1.5以下であることが望ましい。 (もっと読む)


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