光学物品およびその製造方法
【課題】帯電防止性および耐久性の良好な反射防止層を形成できる光学物品を提供する。
【解決手段】プラスチックレンズ基材１と、この基材１の上にハードコート層２を介して形成された透光性の反射防止層３とを有し、反射防止層３の１つの層３２の表面３３がシリサイド化されているレンズ１０を提供する。このレンズサンプルは、シート抵抗が従来のサンプルに比較し、３桁〜６桁（１０3〜１０6）程度小さくなり、光吸収損失の大幅な増加もなく、優れた耐薬品性および耐湿性を備えている。
【解決手段】プラスチックレンズ基材１と、この基材１の上にハードコート層２を介して形成された透光性の反射防止層３とを有し、反射防止層３の１つの層３２の表面３３がシリサイド化されているレンズ１０を提供する。このレンズサンプルは、シート抵抗が従来のサンプルに比較し、３桁〜６桁（１０3〜１０6）程度小さくなり、光吸収損失の大幅な増加もなく、優れた耐薬品性および耐湿性を備えている。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、眼鏡レンズなどのレンズ、その他の光学材料あるいは製品に用いられる光学物品およびその製造方法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
眼鏡レンズなどの光学物品は、種々の機能を果たすための基材（光学基材）の表面に、その基材の機能をさらに強化したり、保護したりするために種々の機能を備えた層（膜）が形成されている。たとえば、レンズ基材の耐久性を確保するためのハードコート層、ゴーストおよびちらつきを防止するための反射防止層などが公知である。反射防止層の典型的なものは、ハードコート層が積層されたレンズ基材の表面に異なる屈折率を持つ酸化膜を交互に積層してなるいわゆる多層反射防止層である。
【０００３】
特許文献１には、新規な、低耐熱性基材に好適な帯電防止性能を有する光学要素を提供することが記載されている。プラスチック製の光学基材上に複層構成の反射防止膜を備えた眼鏡レンズなどの光学要素において、反射防止膜が透明導電層を含み、該透明導電層をイオンアシスト真空蒸着により形成し、他の反射防止膜の構成層は、電子ビーム真空蒸着等により形成することが記載されている。導電層としては、インジウム、スズ、亜鉛等のいずれか、又は２種以上の複数を成分とする無機酸化物が挙げられており、特に、ＩＴＯ（Ｉｎｄｉｕｍ Ｔｉｎ Ｏｘｉｄｅ：酸化インジウムと酸化錫との混合物）が望ましいことが記載されている。
【特許文献１】特開２００４−３４１０５２号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
基材の表面に形成される膜あるいは層に、帯電防止、電磁遮蔽などを目的として導電性を付与するために、ある程度の厚みの導電層を形成することが公知である。しかしながら、多層からなる反射防止層など、所定の光学設計や膜設計にしたがって製造される膜あるいは層に新たな厚みの層を加えるためには、新たな光学設計や膜設計が必要なり、また、新たに加えられる膜あるいは層の影響を確認する必要がある。たとえば、酸化インジウムスズ（ＩＴＯ）層は、透明性と帯電防止性に優れているものの、酸やアルカリなどの薬品により侵されやすい。このため、眼鏡レンズの表面に採用すると、人の汗は塩分を含んだ酸なので、ＩＴＯ層を含む反射防止層の耐久性が問題になる可能性がある。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
本発明の一態様は、光学物品（光学素子）の製造方法であり、光学基材の上に、直にまたは他の層を介して透光性の第１の層を形成することと、第１の層の表面を低抵抗化することとを有する。ある程度の厚みの導電層を形成する代わりに、既存の層の表面を低抵抗にすることにより、多層からなる反射防止層の光学設計を大きく変化させることなく、第１の層および第１の層を含む多層あるいは膜のシート抵抗を低減できる。このため、帯電防止機能および／または電磁波遮蔽機能などを備えた光学物品をいっそう容易に製造および提供できる。なお低抵抗化とは、電気的な抵抗をより低くすることであり、本願発明では層表面の電気的な抵抗をより低くすることである。
【０００６】
眼鏡レンズなどの市販されている光学物品において、光学基材の表面に形成される層には、シリコン系の化合物、たとえば、酸化シリコン、有機ケイ素化合物を用いた層、または、それらを含む層が含まれることが多い。このため、シリコン系の導電構造を表面に導入することは第１の層およびそれに積層される層とのマッチングが良い。シリコン系の導電構造の１つはシリサイドであり、第１の層の表面をシリサイド化することにより、その層の表面を低抵抗化することは有効である。
【０００７】
この明細書においてシリサイドとは、遷移金属ケイ素化物（遷移金属シリサイド）を示し、第１の層の表面のシリサイド化とは、表面に、シリサイドを生成する遷移金属および／またはシリコンを物理的および／または化学的な方法、たとえば、蒸着、スパッタリングなどにより打ち込み、添加および／または混合することにより改質し、第１の層のシート抵抗が低下することを示す。シート抵抗が低下することは、第１の層の表面の少なくとも一部にシリサイド、シリサイドと第１の層の組成物との混合物、および／または、シリサイドの酸化物（遷移金属ケイ素酸化物）が顕在化していると考えられるからである。
【０００８】
また、表面のシリサイド化を、それによるシート抵抗の低下が帯電防止および／または電磁遮蔽という目的に適合する程度にすることにより、表面の限られた厚み（部分）をシリサイド化することになり、シリサイドによる第１の層の透光性の低下を抑制できる。すなわち、第１の層の光の吸収損失の増加を抑制できる。
【０００９】
第１の層の典型的なものは、光学基材の上にハードコート層、またはプライマー層およびハードコート層を介して積層された無機系または有機系の反射防止層である。第１の層が金属酸化物を含む層の場合は、シリサイド化することは、第１の層の表面にシリコンを添加して改質することを含む。この第１の層は、多層構造の反射防止層のいずれかの１つの層または複数の層であることを含む。多層構造の反射防止層のシート抵抗を低減できる。
【００１０】
シリサイド化することは、第１の層の表面にシリコンおよび金属を添加して改質することを含んでもよい。また、シリサイド化することは、第１の層の表面に遷移金属ケイ素化物を添加して改質することを含んでもよい。第１の層は、無機系または有機系の反射防止層であってもよい。第１の層の上に、直にまたは他の層を介して防汚層を形成することをさらに有してもよい。
【００１１】
本発明の他の態様の１つは、光学基材と、光学基材の上に、直にまたは他の層を介して形成された透光性の第１の層とを有し、第１の層の表面がシリサイド化されている光学物品である。第１の層の表面をシリサイド化することにより、その層およびその層を含み、光学基材の上に形成された膜あるいは層のシステムのシート抵抗を低減できる。したがって、基材の表面に形成された膜あるいは層に導電性を付与でき、帯電防止、電磁遮蔽などの機能を付与あるいはその機能を向上できる。さらに、シリサイドは、ＩＴＯと比較して、酸やアルカリなどの薬品に対して安定している。このため、耐久性の低下を抑制でき、帯電防止などが要望される身の回りの物品（素子、製品）、たとえば、眼鏡のレンズ、カメラのレンズ、情報端末の表示装置、ＤＶＤなどの多種多様な光学物品に適用できる。
【００１２】
第１の層の典型的なものは、無機系の反射防止層である。すなわち、光学物品が多層構造の反射防止層を有している場合は、第１の層は多層構造の反射防止層に含まれる１つの層であってよい。第１の層が反射防止層を構成する多層の複数の層であってもよい。第１の層は、有機系の反射防止層に含まれる層であってもよい。
【００１３】
さらに、光学物品は、第１の層の上に、直にまたは他の層を介して形成された防汚層を有していてもよい。防汚層は撥水性能を有するので、防汚層を有する光学物品表面は、空気中の水分を保持することができない。その結果、帯電し易い。第１の層を含む光学物品であれば、防汚層を有する光学物品であっても、帯電を防止することができる。典型的な光学基材は、プラスチックレンズ基材であり、たとえば、眼鏡レンズである。
【００１４】
本発明のさらに異なる他の態様の１つは、眼鏡レンズと、眼鏡レンズが装着されたフレームとを有する眼鏡である。
【００１５】
本発明のさらに異なる他の態様の１つは、上記の光学物品であって、一方の面が外界に面した光学物品を有し、光学物品を通して画像を透視するためのシステムである。このシステムの典型的なものは、時計、表示装置および表示装置を有する端末などの情報処理装置であり、表示装置の表面の帯電性を抑制でき、また、電磁波遮蔽能力を向上できる。
【００１６】
本発明のさらに異なる他の態様の１つは、上記の光学物品と、光学物品を通して画像を投影させるため画像形成装置とを有するシステムである。このシステムの典型的なものはプロジェターである。光学物品の典型的なものは、投射用のレンズ、ダイクロイックプリズム、カバーガラスなどである。本発明を、画像形成装置の１つであるＬＣＤ（液晶デバイス）などのライトバルブあるいはそれらに含まれる素子に適用してもよい。
【００１７】
本発明のさらに異なる他の態様の１つは、上記の光学物品と、光学物品を通して画像を取得するための撮像装置とを有するシステムである。このシステムの典型的なものはカメラである。光学物品の典型的なものは、結像用のレンズ、カバーガラスなどである。本発明を、撮像装置の１つであるＣＣＤなどに適用してもよい。
【００１８】
本発明のさらに異なる他の態様の１つは、上記の光学物品と、光学物品を通してアクセスする媒体とを有するシステムである。このシステムの典型的なものは、記録媒体を内蔵し、表面の帯電性が低いことが要望されるＤＶＤなどの情報記録装置、美的表現を発揮する媒体を内蔵した装飾品などである。
【図面の簡単な説明】
【００１９】
【図１】タイプＡ１の層構造の反射防止層を含むレンズの構造を示す断面図。
【図２】反射防止層の製造に用いる蒸着装置を模式的に示す図。
【図３】タイプＡに関連する反射防止層の層構造を示す表。
【図４】タイプＡに関連するサンプルの評価結果を示す表。
【図５】図５（Ａ）は、表面の電気抵抗を測定する様子を示す断面図、図５（Ｂ）は平面図。
【図６】図６（Ａ）は、耐薬品性試験の擦傷工程に使用される試験装置の外観を示す図、図６（Ｂ）は試験装置の内部構造を示す図。
【図７】耐薬品性試験の擦傷工程に使用される試験装置を回転することを示す図。
【図８】耐湿性試験におけるむくみを判定する装置の概略を示す図。
【図９】図９（Ａ）は、レンズ表面にむくみのない状態を模式的に示す図、図９（Ｂ）はレンズ表面にむくみのある状態を模式的に示す図。
【図１０】図１０（Ａ）は、Ｓｉをイオンアシスト蒸着により打ち込む（添加）する様子を示す図、図１０（Ｂ）は、添加されたＳｉにより表面が改質されシリサイド化される様子を示す図。
【図１１】タイプＢ１の層構造の反射防止層を含むレンズの構造を示す断面図。
【図１２】タイプＢに関連する反射防止層の層構造を示す表。
【図１３】タイプＢに関連するサンプルの評価結果を示す表。
【図１４】タイプＣの層構造の反射防止層を含むレンズの構造を示す断面図。
【図１５】シート抵抗と、シート抵抗を低減するための処理時間との関係を示す図。
【図１６】シート抵抗と、光吸収損失との関係を示す図。
【図１７】眼鏡の概要を示す図。
【図１８】プロジェクターの概要を示す図。
【図１９】デジタルカメラの概要を示す図。
【図２０】記録媒体の概要を示す図。
【発明を実施するための形態】
【００２０】
本発明の幾つかの実施形態を説明する。以下では、光学物品として眼鏡用のレンズを例示して説明するが、本発明を適用可能な光学物品はこれに限定されるものではない。
【００２１】
図１に、典型的なレンズの構成を、基材を中心とした一方の面の側の断面図により示している。レンズ１０は、レンズ基材１と、レンズ基材１の表面に形成されたハードコート層２と、ハードコート層２の上に形成された透光性の反射防止層３と、反射防止層３の上に形成された防汚層４とを含む。
【００２２】
１． レンズの概要
１．１ レンズ基材
レンズ基材１は、特に限定されないが、（メタ）アクリル樹脂をはじめとしてスチレン樹脂、ポリカーボネート樹脂、アリル樹脂、ジエチレングリコールビスアリルカーボネート樹脂（ＣＲ−３９）等のアリルカーボネート樹脂、ビニル樹脂、ポリエステル樹脂、ポリエーテル樹脂、イソシアネート化合物とジエチレングリコールなどのヒドロキシ化合物との反応で得られたウレタン樹脂、イソシアネート化合物とポリチオール化合物とを反応させたチオウレタン樹脂、分子内に１つ以上のジスルフィド結合を有する（チオ）エポキシ化合物を含有する重合性組成物を硬化して得られる透明樹脂等を例示することができる。レンズ基材１の屈折率は、たとえば、１．６４〜１．７５程度である。この実施形態においては、屈折率は上記の範囲でも、上記の範囲から上下に離れていてもよい。
【００２３】
１．２ ハードコート層（プライマー層）
ハードコート層２は、耐擦傷性を向上するものである。ハードコート層２に使用される材料として、アクリル系樹脂、メラミン系樹脂、ウレタン系樹脂、エポキシ系樹脂、ポリビニルアセタール系樹脂、アミノ系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリアミド系樹脂、ビニルアルコール系樹脂、スチレン系樹脂、シリコン系樹脂およびこれらの混合物もしくは共重合体等を挙げることができる。ハードコート層２の一例は、シリコーン系樹脂であり、金属酸化物微粒子、シラン化合物からなるコーティング組成物を塗布し硬化させてハードコート層を形成できる。このコーティング組成物にはコロイダルシリカ、および多官能性エポキシ化合物等の成分が含まれていてもよい。
【００２４】
金属酸化物微粒子の具体例は、ＳｉＯ2、Ａｌ2Ｏ3、ＳｎＯ2、Ｓｂ2Ｏ5、Ｔａ2Ｏ5、ＣｅＯ2、Ｌａ2Ｏ3、Ｆｅ2Ｏ3、ＺｎＯ、ＷＯ3、ＺｒＯ2、Ｉｎ2Ｏ3、ＴｉＯ2等の金属酸化物からなる微粒子または２種以上の金属の金属酸化物からなる複合微粒子である。これらの微粒子を、分散媒たとえば水、アルコール系もしくはその他の有機溶媒にコロイド状に分散させたものをコーティング組成物に混合できる。
【００２５】
レンズ基材１とハードコート層２との密着性を確保するために、レンズ基材１とハードコート層２との間にプライマー層を設けてもよい。プライマー層は、高屈折率レンズ基材の欠点である耐衝撃性を改善するためにも有効である。プライマー層を形成するための樹脂としては、アクリル系樹脂、メラミン系樹脂、ウレタン系樹脂、エポキシ系樹脂、ポリビニルアセタール系樹脂、アミノ系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリアミド系樹脂、ビニルアルコール系樹脂、スチレン系樹脂、シリコン系樹脂およびこれらの混合物もしくは共重合体等が挙げられる。密着性を持たせるためのプライマー層としてはウレタン系樹脂およびポリエステル系樹脂がよい。
【００２６】
ハードコート層２およびプライマー層の製造方法の典型的なものは、ディッピング法、スピンナー法、スプレー法、フロー法によりコーティング組成物を塗布し、その後、４０〜２００°Ｃの温度で数時間加熱乾燥する方法である。
【００２７】
１．３ 反射防止層
ハードコート層２の上に形成される反射防止層３の典型的なものは無機系の反射防止層と有機系の反射防止層である。無機系の反射防止層は多層膜で構成され、例えば、屈折率が１．３〜１．６である低屈折率層と、屈折率が１．８〜２．６である高屈折率層とを交互に積層して形成することができる。層数としては、５層あるいは７層程度が好ましい。反射防止層を構成する各層に使用される無機物の例としては、ＳｉＯ2、ＳｉＯ、ＺｒＯ2、ＴｉＯ2、ＴｉＯ、Ｔｉ2Ｏ3、Ｔｉ2Ｏ5、Ａｌ2Ｏ3、ＴａＯ2、Ｔａ2Ｏ5、ＮｄＯ2、ＮｂＯ、Ｎｂ2Ｏ3、ＮｂＯ2、Ｎｂ2Ｏ5、ＣｅＯ2、ＭｇＯ、Ｙ2Ｏ3、ＳｎＯ2、ＭｇＦ2、ＷＯ3、ＨｆＯ2、Ｙ2Ｏ3などが挙げられる。これらの無機物は単独で用いるかもしくは２種以上を混合して用いる。
【００２８】
反射防止層３を形成する方法としては、乾式法、例えば、真空蒸着法、イオンプレーティング法、スパッタリング法などが挙げられる。真空蒸着法においては、蒸着中にイオンビームを同時に照射するイオンビームアシスト法を用いてもよい。
【００２９】
有機系の反射防止層３の製造方法の１つは湿式法である。例えば、内部空洞を有するシリカ系微粒子（以下、「中空シリカ系微粒子」ともいう）と、有機ケイ素化合物とを含んだ反射防止層形成用のコーティング組成物を、ハードコート層、プライマー層と同様の方法でコーティングして形成することもできる。中空シリカ系微粒子を用いるのは、内部空洞内にシリカよりも屈折率が低い気体または溶媒が包含されることによって、空洞のないシリカ系微粒子に比べてより屈折率が低減し、結果的に、優れた反射防止効果を付与できるからである。中空シリカ系微粒子は、特開２００１−２３３６１１号公報に記載されている方法などで製造することができるが、平均粒子径が１〜１５０ｎｍの範囲にあり、かつ屈折率が１．１６〜１．３９の範囲にあるものを使用することが望ましい。この有機系の反射防止層の層厚は、５０〜１５０ｎｍの範囲が好ましい。この範囲より厚すぎたり薄すぎたりすると、十分な反射防止効果が得られないおそれがある。
【００３０】
１．４ 防汚層
反射防止層３の上に撥水膜、または親水性の防曇膜（防汚層）４を形成することが多い。防汚層４は、光学物品（レンズ）１０の表面の撥水撥油性能を向上させる目的で、反射防止層３の上に、フッ素を含有する有機ケイ素化合物からなる層を形成したものである。フッ素を含有する有機ケイ素化合物としては、例えば、特開２００５−３０１２０８号公報や特開２００６−１２６７８２号公報に記載されている含フッ素シラン化合物を好適に使用することができる。
【００３１】
含フッ素シラン化合物は、有機溶剤に溶解し、所定濃度に調整した撥水処理液（防汚層形成用のコーティング組成物）として用いることが好ましい。防汚層は、この撥水処理液（防汚層形成用のコーティング組成物）を反射防止層上に塗布することにより形成することができる。塗布方法としては、ディッピング法、スピンコート法などを用いることができる。なお、撥水処理液（防汚層形成用のコーティング組成物）を金属ペレットに充填した後、真空蒸着法などの乾式法を用いて、防汚層を形成することも可能である。
【００３２】
防汚層の層厚は、特に限定されないが、０．００１〜０．５μｍが好ましい。より好ましくは０．００１〜０．０３μｍである。防汚層の層厚が薄すぎると撥水撥油効果が乏しくなり、厚すぎると表面がべたつくので好ましくない。また、防汚層の厚さが０．０３μｍより厚くなると反射防止効果が低下する可能性がある。
【００３３】
２． サンプルの製造（タイプＡ）
２．１ 実施例１（サンプルＳ１）
２．１．１ レンズ基材の選択およびハードコート層の成膜
ハードコート層２を形成するための塗布液（コーティング液）を次のように調製した。エポキシ樹脂−シリカハイブリッド（商品名：コンポセランＥ１０２（荒川化学工業（株）製））２０重量部に、酸無水物系硬化剤（商品名：硬化剤液（Ｃ２）（荒川化学工業（株）製））４．４６重量部を混合、攪拌して塗布液（コーティング液）を得た。このコーティング溶液を所定の厚さになるようにスピンコーターを用いて基材１の上に塗布してハードコート層２を成膜した。
【００３４】
基材１としては、屈折率１．６７の眼鏡用のプラスチックレンズ基材（セイコーエプソン（株）製、商品名：セイコースーパーソブリン（ＳＳＶ））を用いた。塗布後のレンズ基材を１２５°Ｃで２時間焼成した。
【００３５】
２．１．２ 反射防止層の成膜
２．１．２．１ 蒸着装置
次に、図２に示す蒸着装置１００により無機系の反射防止層３を製造（成膜）した。例示した蒸着装置１００は電子ビーム蒸着装置であり、真空容器１１０、排気装置１２０およびガス供給装置１３０を備えている。真空容器１１０は、ハードコート層２までが形成されたレンズサンプル１０が載置されるサンプル支持台１１５と、サンプル支持台１１５にセットされたレンズサンプル１０を加熱するための基材加熱用ヒーター１１６と、熱電子を発生するフィラメント１１７とを備えており、電子銃（不図示）により蒸発源（るつぼ）１１２および１１３にセットされた蒸着材料に熱電子１１４を照射し蒸発させ、レンズサンプル１０に材料を蒸着する。
【００３６】
さらに、この蒸着装置１００は、イオンアシスト蒸着を可能とするために、容器１１０の内部に導入したガスをイオン化して加速し、レンズサンプル１０に照射するためのイオン銃１１８を備えている。また、真空容器１１０には、残留した水分を除去するためのコールドトラップや、層厚を管理するための装置等をさらに設けることができる。層厚を管理する装置としては、例えば、反射型の光学膜厚計や水晶振動子膜厚計などがある。
【００３７】
真空容器１１０の内部は、排気装置１２０に含まれるターボ分子ポンプまたはクライオポンプ１２１および圧力調節バルブ１２２により高真空、たとえば１×１０-4Ｐａに保持できる。一方、真空容器１１０の内部は、ガス供給装置１３０により所定のガス雰囲気することも可能である。たとえば、ガス容器１３１には、アルゴン（Ａｒ）、窒素（Ｎ2）、酸素（Ｏ2）などが用意される。ガスの流量は流量制御装置１３２により制御でき、真空容器１１０の内圧は圧力計１３５により制御できる。
【００３８】
基材加熱用ヒーター１１６は、例えば赤外線ランプであり、レンズサンプル１０を加熱することによりガス出しあるいは水分とばしを行い、レンズサンプル１０の表面に形成される層の密着性を確保する。
【００３９】
したがって、この蒸着装置１００における主な蒸着条件は、蒸着材料、電子銃の加速電圧および電流値、イオンアシストの有無である。イオンアシストを利用する場合の条件は、イオンの種類（真空容器１１０の雰囲気）と、イオン銃１１８の電圧値および電流値とにより与えられる。以下において、特に記載しないかぎり、電子銃の加速電圧は５〜１０ｋＶの範囲、電流値は５０〜５００ｍＡの範囲の中で成膜レートなどをもとに選択される。また、イオンアシストを利用する場合は、イオン銃１１８が電圧値２００Ｖ〜１ｋＶの範囲、電流値が１００〜５００ｍＡの範囲で成膜レートなどをもとに選択される。
【００４０】
２．１．２．２ 低屈折率層および高屈折率層の成膜
ハードコート層２が形成されたレンズサンプル１０をアセトンにて洗浄し、真空容器１１０の内部にて約７０°Ｃの加熱処理を行い、レンズサンプル１０に付着した水分を蒸発させる。次に、レンズサンプル１０の表面にイオンクリーニングを実施した。具体的には、イオン銃１１８を用いて酸素イオンビームを数百ｅＶのエネルギーでレンズサンプル１０の表面に照射し、レンズサンプル１０の表面に付着した有機物の除去を行った。この方法により、レンズサンプル１０の表面に形成する膜の付着力を強固なものとすることができる。なお、酸素イオンの代わりに不活性ガス、例えばＡｒ、キセノン（Ｘｅ）、Ｎ2を用いて同様の処理を行ってもよいし、酸素ラジカルや酸素プラズマを照射してもよい。
【００４１】
真空容器１１０の内部を十分に真空排気した後、電子ビーム真空蒸着法により、低屈折率層３１および高屈折率層３２を交互に積層して反射防止層３を製造した。
【００４２】
実施例１のレンズサンプルＳ１（以降では、各々の実施例のサンプルはサンプルＳ１と呼び、共通するサンプルについてはサンプル１０と呼ぶ）には、二酸化ケイ素（ＳｉＯ2）層を低屈折率層３１として形成し、酸化チタン（ＴｉＯ2）層を高屈折率層３２として形成した。図１に示すように、第１層、第３層、第５層および第７層が低屈折率層３１であり、イオンアシストは行わず、真空蒸着によりＳｉＯ2層を成膜した。成膜レートは２．０ｎｍ／ｓｅｃとし、電子銃の加速電圧は７ｋＶ、電流は１００ｍＡとした。第２層、第４層および第６層が高屈折率層であり、酸素ガスを導入しながらイオンアシスト蒸着を行い、ＴｉＯ2層を成膜した。成膜レートは０．４ｎｍ／ｓｅｃとし、電子銃の加速電圧は７ｋＶ、電流は３６０ｍＡとした。第１〜第７層の膜厚は、４４ｎｍ、１０ｎｍ、５７ｎｍ、３６ｎｍ、２５ｎｍ、３６ｎｍ、１０１ｎｍに管理した。この７層からなる層構造、すなわち、第１層、第３層、第５層および第７層がＳｉＯ2層、第２層、第４層および第６層がＴｉＯ2層の層構造をタイプＡの層構造と呼ぶことにする。
【００４３】
２．１．３ シリサイド化
第６層（ＴｉＯ2層）３２を成膜後、第７層（ＳｉＯ2層）３１を成膜する前に、蒸着装置１００を用い、Ｓｉ（金属シリコン）を、アルゴンイオンを用いたイオンアシスト蒸着により第６層の表面３３に添加し、図１に示すように、第６層の表面３３を改質した。この処理により第６層の表面３３はシリサイド化したと考えられる。イオンアシスト蒸着の条件はイオン種がアルゴン、イオンアシスト電圧は１０００ｅＶ、電流は１５０ｍＡであり、処理時間（蒸着時間）は１０秒である。そして、電子銃の加速電圧は７ｋＶ、電流は４００ｍＡとした。７層構造でシリサイド化を施したタイプの層構造をタイプＡ１と呼ぶことにする。
【００４４】
２．１．４ 防汚層の成膜
反射防止層３を形成した後、酸素プラズマ処理を施し、真空容器１１０内で、分子量の大きなフッ素含有有機ケイ素化合物を含む「ＫＹ−１３０」（商品名、信越化学工業（株）製）を含有させたペレット材料を蒸着源として、約５００°Ｃで加熱し、ＫＹ−１３０を蒸発させて、防汚層４を成膜した。蒸着時間は、約３分間程度とした。酸素プラズマ処理を施すことにより最終のＳｉＯ2層の表面にシラノール基を生成できるので、反射防止層３と防汚層４との化学的密着性（化学結合）を向上できる。蒸着終了後、真空蒸着装置１００からレンズサンプル１０を取り出し、反転して再び投入し、上記の２．１．２〜２．１．４の工程を同じ手順で繰り返し、反射防止層の成膜、シリサイド化および防汚層の成膜を行った。その後、レンズサンプル１０を真空蒸着装置１００から取り出した。これにより、レンズ基材１の両面にハードコート層２、シリサイド化されたタイプＡ１の反射防止層３、および防汚層４を備えた実施例１のレンズサンプルＳ１が得られた。
【００４５】
２．２ 実施例２（サンプルＳ２）
レンズ以外の光学物品の実施例として、光学基材１としてカバーガラスを用い、その表面に反射防止層３が形成されたサンプルＳ２を製造した。このサンプルＳ２では、光学基材１は、透明な白板ガラス（Ｂ２７０）である。この光学基材１の上に、ハードコート層を成膜せず、直に反射防止層３を成膜した。成膜方法は、上記の２．１．２と同じである。さらに、上記の２．１．３と同様にシリサイド化した。したがって、このサンプルＳ２は、タイプＡ１の反射防止層３を備えている。また、反射防止層３の上に防汚層４を形成している。
【００４６】
２．３ 実施例３〜８（サンプルＳ３〜Ｓ８）
レンズサンプルＳ１と、カバーガラスのサンプル（ガラスサンプル）Ｓ２とについて、２．１．３のシリサイド化のための処理条件を変えた幾つかのサンプルＳ３〜Ｓ８を製造した。レンズサンプルＳ３およびガラスサンプルＳ４は、シリサイド化のためのイオンアシスト蒸着の条件をイオン種がアルゴン、イオンアシスト電圧は１０００ｅＶ、電流は１５０ｍＡ、イオンアシスト蒸着により処理時間（蒸着時間）を５秒とした。レンズサンプルＳ５およびガラスサンプルＳ６は、シリサイド化のイオンアシスト蒸着の条件をイオン種がアルゴン、イオンアシスト電圧は５００ｅＶ、電流は１５０ｍＡ、処理時間を１０秒とした。レンズサンプルＳ７およびガラスサンプルＳ８は、シリサイド化のイオンアシスト蒸着の条件をイオン種がアルゴンと酸素の１対１、イオンアシスト電圧は２５０ｅＶ、電流は１５０ｍＡ、処理時間を５秒とした。
【００４７】
２．４ 比較例１、２（サンプルＲ１、Ｒ２）
上記の実施例により得られたレンズサンプルおよびガラスサンプルと比較するために、実施例１および実施例２と同様にレンズサンプルＲ１およびガラスサンプルＲ２を製造した。ただし、シリサイド化（２．１．３）は行わなかった。すなわち、比較例１により製造されたレンズサンプルＲ１は、レンズ基材１と、ハードコート層２と、シリサイド化された層を含まないタイプＡの反射防止層３と、防汚層４とを含む。比較例２により製造されたガラスサンプルＲ２は、ガラス基材１と、シリサイド化された層を含まないタイプＡの反射防止層３と、防汚層４とを含む。
【００４８】
２．５ 比較例３〜８（サンプルＲ３〜Ｒ８）
上記の実施例により得られたレンズサンプルと比較するために、透明な導電層としてＩＴＯ（酸化インジウムスズ）層を備えたレンズサンプルＲ３〜Ｒ８を製造した。これらのレンズサンプルＲ３〜Ｒ８は、上記の実施例１と同様にレンズ基材１を選択し、ハードコート層２を成膜した（２．１．１参照）。さらに、実施例１と同様に基本的には７層からなる反射防止層３を成膜した（２．１．２参照）。
【００４９】
ただし、第６層（ＴｉＯ2層）を成膜後、第７層（ＳｉＯ2層）を成膜する前に、酸化インジウムスズ（ＩＴＯ）をイオンアシスト真空蒸着により成膜した。ＩＴＯ層の成膜の際は、電子銃の加速電圧を７ｋＶ、電流値を５０ｍＡとし、ＩＴＯ膜の酸化を促進させるために真空容器内に毎分１５ミリリットルの酸素ガスを導入し、酸素雰囲気とした。また、イオン銃へは毎分３５ミリリットルの酸素ガスを導入し、加速電圧を５００Ｖ、電流値を２５０ｍＡとして酸素イオンビームを照射した。また、ＩＴＯ層の成膜レートは０．１ｎｍ／ｓｅｃとした。ＩＴＯ層の膜厚は、サンプルＲ３〜Ｒ８で２．５、３．５、５、７、１０および１５ｎｍと変えた。したがって、ＩＴＯ層を含むと反射防止層３は８層構造になる。この８層構造で、ＩＴＯ層を含むタイプの層構造をタイプＡ２と呼ぶことにする。
【００５０】
さらに、この比較例３〜８においては、膜厚の異なるＩＴＯ層を挟むことにより、反射防止層３の膜設計が変わり、ＳｉＯ2層およびＴｉＯ2層の膜厚が異なり、タイプＡ２−１〜Ａ２−６としている。サンプルＲ３〜Ｒ８の反射防止層３の層構造を、上述したサンプルＳ１〜Ｓ８、Ｒ１およびＲ２とともに図３に示している。なお、二酸化ケイ素（ＳｉＯ2）からなる低屈折率層の波長５５０ｎｍにおける屈折率ｎは１．４６２である。また、酸化チタン（ＴｉＯ2）からなる高屈折率層の波長５５０ｎｍにおける屈折率ｎは２．４３１である。ＩＴＯ層の波長５５０ｎｍにおける屈折率ｎは２．１である。
【００５１】
３． サンプルの評価
上記により製造されたサンプルＳ１〜Ｓ８およびＲ１〜Ｒ８について、シート抵抗、ごみの付着試験、吸収損失、耐薬品性（剥がれの発生の有無）、耐湿性（むくみの発生の有無）について評価した。それらの評価結果を図４にまとめて示している。
【００５２】
３．１ シート抵抗
図５（Ａ）および（Ｂ）に、各サンプルのシート抵抗を測定する様子を示している。この例では、測定対象、たとえば、レンズサンプル１０の表面１０Ａにリングプローブ６１を接触し、レンズサンプル１０の表面１０Ａのシート抵抗を測定した。測定装置６０は、三菱化学（株）製高抵抗抵抗率計ハイレスタＵＰ ＭＣＰ−ＨＴ４５０型を使用した。使用したリングプローブ６１は、ＵＲＳタイプであり、２つの電極を有し、外側のリング電極６１Ａは外径１８ｍｍ、内径１０ｍｍであり、内側の円形電極６１Ｂは直径７ｍｍである。それらの電極間に１０００Ｖ〜１０Ｖの電圧を印加し、各サンプルのシート抵抗を計測した。
【００５３】
図４に測定結果を示している。サンプルＲ１およびＲ２の測定結果が示すように、従来のレンズサンプルおよびガラスサンプルではシート抵抗は５×１０13[Ω／□]である。シート抵抗を低減するために反射防止層３にＩＴＯ層を含めたレンズサンプルＲ３〜Ｒ８では、ＩＴＯ層の厚みに依存するが、シート抵抗は１．５×１０11[Ω／□]〜２×１０13[Ω／□]に低下する。これに対し、反射防止層３の１つの層の表面をシリサイド化したサンプルＳ１〜Ｓ８においては、シート抵抗が５×１０7[Ω／□]〜１×１０10[Ω／□]となり、シート抵抗が従来のサンプルに比較し、３桁〜６桁（１０3〜１０6）程度小さくなる。すなわち、シート抵抗が１／１０3〜１／１０6になる。したがって、シリサイド化することにより大幅にシート抵抗が低下することが分かる。
【００５４】
また、反射防止層３を８層構造にしてＩＴＯ層を含めたサンプルＲ３〜Ｒ８と比較しても、シート抵抗は１桁〜６桁（１０1〜１０6）程度小さくなり、シート抵抗が１／１０〜１／１０6になる。したがって、ＩＴＯ層を含めたサンプルよりも、１つの層の表面をシリサイド化することにより大幅にシート抵抗を低下できることがわかる。そして、１つの層の表面をシリサイド化するだけでよいので、反射防止層３の膜設計を変える必要はない。
【００５５】
さらに、これらの結果より、１つの層の表面をシリサイド化するだけで、シート抵抗が大幅に低下することが分かる。したがって、ある層の表面がシリサイド化されたか否かはシート抵抗を測定することにより判断できる。すなわち、この明細書においてシリサイドとは、遷移金属ケイ素化物（遷移金属シリサイド）を示し、第１の層の表面のシリサイド化とは、表面に、シリサイドを生成する遷移金属および／またはシリコンを物理的および／または化学的な方法、たとえば、蒸着、スパッタリングなどにより打ち込み、添加および／または混合することにより改質し、第１の層の表面の少なくとも一部にシリサイド、シリサイドと第１の層の組成物との混合物、および／または、シリサイドの酸化物（遷移金属ケイ素酸化物）を顕在化させることを示す。そして、第１の層の表面をシリサイド化することにより、その層に限らず、その層の上に数レイヤーを重ねてもシート抵抗が低下する。したがって、シート抵抗を測定することにより、内部の少なくとも１層の表面がシリサイド化されたか否かの判断が可能となる。
【００５６】
レンズ、カバーガラスなどの光学物品の表面抵抗を低減することにより幾つかの効果が得られる。典型的な効果は、帯電防止、および電磁遮蔽である。眼鏡用のレンズにおいて帯電防止性の有無の目安は、シート抵抗が１×１０12[Ω／□]以下であると考えられている。以下のごみの付着試験では、サンプルＲ１、Ｒ２およびＲ３（シート抵抗が５×１０13[Ω／□]および２×１０13[Ω／□]）ではごみの付着が確認され、他のサンプルではごみの付着は確認されなかった。さらに、使用上の安全性などを考慮すると、上記の測定方法で測定されたシート抵抗が１×１０11[Ω／□]以下であることがいっそう好ましい。サンプルＳ１〜Ｓ８は、上記の測定方法で測定されたシート抵抗が１×１０11[Ω／□]以下、さらに、１×１０10[Ω／□]以下であり、非常に優れた帯電防止性を備えていることが分かる。
【００５７】
３．２ ごみの付着試験
プラスチックレンズの表面上で、眼鏡レンズ用拭き布を１ｋｇの垂直荷重にて１０往復こすりつけ、このときに発生した静電気によるごみの付着の有無を調べた。ここで、ごみとしては、発泡スチロールを約５ｍｍの大きさに砕いたものを使用した。判断基準は以下の通りである。
○：ごみの付着が認められなかった。
△：ごみが数個付着していることが認められた。
×：数多くのごみが付着していることが認められた。
【００５８】
ごみの付着がない場合は帯電防止効果に優れ、ごみの付着がある場合は帯電防止効果が劣っていると考えられる。図４に示すように、シリサイド化を施したサンプルＳ１〜Ｓ８の評価はすべて○であり、帯電防止効果に優れていることがわかった。また、ＩＴＯ層を形成した幾つかのサンプルＲ５〜Ｒ８は○であり、ある程度の帯電防止効果を示している。しかしながら、ＩＴＯ層を形成したサンプルＲ４は△であり、ＩＴＯ層を形成したサンプルＲ３および何も導電的な膜を形成していないサンプルＲ１およびＲ２はいずれも×であり、帯電防止効果が劣っていることがわかった。
【００５９】
３．３ 吸収損失
光の吸収損失を測定した。光の吸収損失は、表面が湾曲していたりすると測定が難しい。このため、上記のサンプルＳ１〜Ｓ８のうち、ガラスサンプルＳ２、Ｓ４、Ｓ６およびＳ８について吸収損失を測定し、ガラスサンプルＲ２の吸収損失と比較した。
【００６０】
光の吸収損失は、分光光度計を用いて反射率と透過率を測定し、（Ａ）式にて吸収率を算出した。測定には、日立製分光光度計Ｕ−４１００を使用した。
吸収率（吸収損失）＝１００％−透過率−反射率 ・・・・（Ａ）
以下、吸収率は波長５５０ｎｍ付近の吸収率を記している。
【００６１】
シリサイド化することにより若干吸収損失が上昇する傾向がみられる。しかしながら、最大でも３％程度であり、十分に透光性は高く、反射防止層３の透光性に大きな影響を与えるほど光吸収損失は増加していない。したがって、シリサイド化した層を含む層構造Ａ１の反射防止層３は眼鏡用のレンズとして十分に使用できる。また、帯電防止を考慮するのであれば、吸収損失が０．５％のサンプルＳ８程度で十分にシート抵抗が小さい。したがって、シリサイド化することにより、従来とほぼ同等の吸収損失で、透光性であり（透明であり）、帯電防止性能の優れた光学物品を提供できることが分かる。
【００６２】
３．４ 耐薬品性
各サンプルの表面に傷をつけ、その後、薬液浸漬を行い、反射防止膜の剥がれの有無を観察して耐薬品性を評価した。
【００６３】
（１）擦傷工程
図６（Ａ）に示す容器（ドラム）７１の内壁に図６（Ｂ）に示すように評価用のサンプル１０を４つ貼り付け、擦傷用として不織布７３とオガクズ７４を入れる。そして、蓋をした後、図７に示すようにドラム７１を３０ｒｐｍで３０分間回転させる。
【００６４】
（２）薬液浸漬工程
人の汗を模した薬液（純水に乳酸を５０ｇ／Ｌ、塩を１００ｇ／Ｌ溶解した溶液）を用意した。（１）の擦傷工程を経たサンプル１０を、５０°Ｃに保持した薬液に１００時間浸漬した。
【００６５】
（３）評価
上記の工程を経たサンプル１０を従来のサンプルであるサンプルＲ１およびＲ２を基準に目視により評価した。判断基準は以下の通りである。
○：基準のサンプルと比較し、傷がほとんど見えず、同等の透明性がある。
△：基準のサンプルに対して傷が見え、透明性が劣る。
×：基準のサンプルに対して層の剥離および多数の傷が見え、透明性が著しく低下した。
【００６６】
図４に示す様にシリサイド化を施したサンプルＳ１〜Ｓ８の評価はすべて○であり、日常的に用いられる環境において、優れた耐薬品性を示した。一方、ＩＴＯ層を成膜したサンプルＲ３〜Ｒ８の評価はすべて×であり、ＩＴＯ層を成膜することによりサンプルの耐薬品性が低下していることが分かる。
【００６７】
３．５ むくみの発生（耐湿性）の評価
（１）恒温恒湿度環境試験
作製した各サンプルを恒温恒湿度環境（６０°Ｃ、９８％ＲＨ）で８日間放置した。
【００６８】
（２）むくみの判定方法
上記の恒温恒湿度環境試験を経た各サンプルの表面または裏面の表面反射光を観察し、むくみの有無を判断した。具体的には、図８に示すように、サンプル１０の凸面１０Ａにおける蛍光灯７５の反射光を観察した。図９（Ａ）に示すように、蛍光灯７５の反射光７６の像の輪郭がくっきりと明瞭に観察できる場合は「むくみ無し」と判定した。一方、図９（Ｂ）に示すように、蛍光灯７５の反射光７７の像の輪郭がぼやけている、またはかすれて観察できるときは「むくみ有り」と判定した。
【００６９】
（３）評価
図４に示す様にシリサイド化を施したサンプルＳ１〜Ｓ８についてはむくみの発生は観測されず、すぐれた耐湿性を示した。一方、ＩＴＯ層を成膜したサンプルＲ３〜Ｒ８については、ＩＴＯ層の膜厚が厚くなるとむくみの発生がみられ、ＩＴＯ層を成膜することによりサンプルの耐湿性が低下する可能性があることを示している。
【００７０】
３．６ 総合評価
以上の各評価より、反射防止層３の１つの層の表面をシリサイド化したサンプルＳ１〜Ｓ８については、シート抵抗が大幅に低下し、その一方で、耐薬品性および耐湿性の劣化はなく、帯電防止などの特性を持ち、さらに、耐久性の良い光学物品であることがわかった。シリサイド化することにより、若干の吸収損失の増加が観測される。しかしながら、帯電防止および電磁波遮断などの他の目的に応じた適切な導電性が得られる程度にシリサイド化を施すことにより、吸収損失の影響は光学物品としてほとんど無視できる程度のものを提供できる。このため、ある層の表面をシリサイド化することにより、良好な透光性と、さらに、優れた帯電防止性能および電磁波遮断性能とを備えた光学物品を提供できる。
【００７１】
図１０（Ａ）および（Ｂ）に、ＴｉＯ2層の表面にＳｉを、イオンアシスト蒸着し、ＴｉＯ2層の表面をシリサイド化する様子を模式的に示している。図１０（Ａ）に示すように、ＴｉＯ2層の表面にＳｉを適当なエネルギーのイオンアシスト蒸着することにより、図１０（Ｂ）に示すように、ＴｉＯ2層の表面だけではなく、ＴｉＯ2層の表面から若干、たとえば、１ｎｍ前後程度あるいはそれ以上の部分にＳｉ原子が注入（添加）されＴｉＯ2とミキシングされる。すなわち、ＴｉＯ2層にＳｉ原子が叩き込まれ（打ち込まれ）、下地の材料であるＴｉＯ2と化学反応を起こし、表面の近傍が改質される。その結果、ＴｉＯ2層のＴｉ原子とＳｉ原子とが反応し金属間化合物であるＴｉＳｉ、ＴｉＳｉ2などのチタンシリサイドが形成されると考えられる。チタンシリサイド（たとえば、ＴｉＳｉ2）の抵抗率は１５〜２０μΩ・ｃｍ（シート抵抗（２０ｎｍ）は１２〜１８[Ω／□]）と低く、ＨＦ以外には溶けにくいという耐薬品性も高い。さらに、酸化膜（ＳｉＯ2）や、ＴｉＯ2層との密着性も確保できている。
【００７２】
したがって、ＴｉＯ2層の表面の領域の全体に、あるいは部分的に、または、チタンシリサイドの酸化物という状態であっても、チタンシリサイドが存在することにより反射防止層３の抵抗値を低減でき、導電性を向上できると考えられる。このため、シリサイド化する層は、７層構造の６層目に限定されることはなく、いずれかの層でよく、さらに、複数の層の表面をシリサイド化してもよい。
【００７３】
チタンシリサイドに限らず、遷移金属ケイ素化物は一般に低抵抗であり、シリコンあるいは含有シリコン化合物が多く用いられる反射防止層との親和性もよい。したがって、ＴｉＯ2層に限らずに、他の金属酸化物の層にＳｉ原子をイオンアシスト蒸着あるいは他の方法、たとえば、通常の真空蒸着、イオンプレーティング、スパッタリング等を用いて導入・混合し、シリサイド化することは有効である。また、ＳｉＯ2層の表面にＴｉ原子などの遷移金属原子をイオンアシスト蒸着などの方法により導入・混合して表面をシリサイド化してもよい。さらに、ＴｉＳｉ2などのシリサイド自身を蒸着などの方法により層の表面に導入・混合して表面をシリサイド化することも可能である。
【００７４】
シリサイドの他の例としては、ＺｒＳｉ、ＣｏＳｉ、ＷＳｉ、ＭｏＳｉ、ＮｉＳｉ、ＴａＳｉ、ＮｄＳｉ、Ｔｉ3Ｓｉ、Ｔｉ5Ｓｉ3、Ｔｉ5Ｓｉ4、ＴｉＳｉ、ＴｉＳｉ2、Ｚｒ3Ｓｉ、Ｚｒ2Ｓｉ、Ｚｒ5Ｓｉ3、Ｚｒ3Ｓｉ2、Ｚｒ5Ｓｉ4、Ｚｒ6Ｓｉ5、ＺｒＳｉ2、Ｈｆ2Ｓｉ、Ｈｆ5Ｓｉ3、Ｈｆ3Ｓｉ2、Ｈｆ4Ｓｉ3、Ｈｆ5Ｓｉ4、ＨｆＳｉ、ＨｆＳｉ2、Ｖ3Ｓｉ、Ｖ5Ｓｉ3、Ｖ5Ｓｉ4、ＶＳｉ2、Ｎｂ4Ｓｉ、Ｎｂ3Ｓｉ、Ｎｂ5Ｓｉ3、ＮｂＳｉ2、Ｔａ４．5Ｓｉ、Ｔａ4Ｓｉ、Ｔａ3Ｓｉ、Ｔａ2Ｓｉ、Ｔａ5Ｓｉ3、ＴａＳｉ2、Ｃｒ3Ｓｉ、Ｃｒ2Ｓｉ、Ｃｒ5Ｓｉ3、Ｃｒ3Ｓｉ2、ＣｒＳｉ、ＣｒＳｉ2、Ｍｏ3Ｓｉ、Ｍｏ5Ｓｉ3、Ｍｏ3Ｓｉ2、ＭｏＳｉ2、Ｗ3Ｓｉ、Ｗ5Ｓｉ3、Ｗ3Ｓｉ2、ＷＳｉ2、Ｍｎ6Ｓｉ、Ｍｎ3Ｓｉ、Ｍｎ5Ｓｉ2、Ｍｎ5Ｓｉ3、ＭｎＳｉ、Ｍｎ11Ｓｉ19、Ｍｎ4Ｓｉ7、ＭｎＳｉ2、Ｔｃ4Ｓｉ、Ｔｃ3Ｓｉ、Ｔｃ5Ｓｉ3、ＴｃＳｉ、ＴｃＳｉ2、Ｒｅ3Ｓｉ、Ｒｅ5Ｓｉ3、ＲｅＳｉ、ＲｅＳｉ2、Ｆｅ3Ｓｉ、Ｆｅ5Ｓｉ3、ＦｅＳｉ、ＦｅＳｉ2、Ｒｕ2Ｓｉ、ＲｕＳｉ、Ｒｕ2Ｓｉ3、ＯｓＳｉ、Ｏｓ2Ｓｉ3、ＯｓＳｉ2、ＯｓＳｉ1.8、ＯｓＳｉ3、Ｃｏ3Ｓｉ、Ｃｏ2Ｓｉ、ＣｏＳｉ2、Ｒｈ2Ｓｉ、Ｒｈ5Ｓｉ3、Ｒｈ3Ｓｉ2、ＲｈＳｉ、Ｒｈ4Ｓｉ5、Ｒｈ3Ｓｉ4、ＲｈＳｉ2、Ｉｒ3Ｓｉ、Ｉｒ2Ｓｉ、Ｉｒ3Ｓｉ2、ＩｒＳｉ、Ｉｒ2Ｓｉ3、ＩｒＳｉ1.75、ＩｒＳｉ2、ＩｒＳｉ3、Ｎｉ3Ｓｉ、Ｎｉ5Ｓｉ2、Ｎｉ2Ｓｉ、Ｎｉ3Ｓｉ2、ＮｉＳｉ2、Ｐｄ5Ｓｉ、Ｐｄ9Ｓｉ2、Ｐｄ4Ｓｉ、Ｐｄ3Ｓｉ、Ｐｄ9Ｓｉ4、Ｐｄ2Ｓｉ、ＰｄＳｉ、Ｐｔ4Ｓｉ、Ｐｔ3Ｓｉ、Ｐｔ5Ｓｉ2、Ｐｔ12Ｓｉ5、Ｐｔ7Ｓｉ3、Ｐｔ2Ｓｉ、Ｐｔ6Ｓｉ5、ＰｔＳｉを挙げることができる。
【００７５】
これらの中で、チタンシリサイドに加え、反射防止層の高屈折率層として使用されることが多い、ジルコニウム（Ｚｒ）系のシリサイド、タンタル（Ｔａ）系のシリサイド、ネオジム（Ｎｄ）系のシリサイド、ニオブ（Ｎｂ）系のシリサイドなどは有用である。また、チタンシリサイドと同様に非常に抵抗率の低いシリサイド、たとえば、コバルト系、ニッケル系のシリサイドも有用である。
【００７６】
以下では、本発明に含まれる幾つかの異なる実施例を説明する。
【００７７】
４． 他のサンプル（タイプＢ）
４．１ 実施例９（サンプルＳ９）
４．１．１ サンプルＳ９の製造
上記の実施例１と同様にレンズ基材１を選択し、ハードコート層２を成膜した（２．１．１参照）。さらに、実施例１と同様の蒸着装置１００を用いて同様の工程で反射防止層３を成膜した（２．１．２参照）。ただし、実施例９のサンプルレンズＳ９には、図１１に示すように、二酸化ケイ素（ＳｉＯ2）層を低屈折率層３１として形成し、酸化ジルコニウム（ＺｒＯ2）層を高屈折率層３２として形成した。図１１に示すように、第１層、第３層および第５層が低屈折率層３１であり、イオンアシストは行わず、真空蒸着によりＳｉＯ2層を成膜した。成膜レートは２．０ｎｍ／ｓｅｃとした。第２層および第４層が高屈折率層３２であり、タブレット状のＺｒＯ2焼結体材料を電子ビームで加熱蒸発させＺｒＯ2層として成膜した。成膜レートは０．８ｎｍ／ｓｅｃとした。第１〜第５層の膜厚は、１５０ｎｍ、３０ｎｍ、２１ｎｍ、５５ｎｍ、８５ｎｍに管理した。この５層からなる層構造、すなわち、第１層、第３層および第５層がＳｉＯ2層、第２層および第４層がＺｒＯ2層の層構造をタイプＢの層構造と呼ぶことにする。反射防止層３を形成した後、実施例１と同様に防汚層４を成膜した（２．１．４参照）。
【００７８】
４．１．２ シリサイド化
第４層（ＺｒＯ2層）を成膜後、第５層（ＳｉＯ2層）を成膜する前に、Ｓｉ（金属シリコン）を、アルゴンイオンを用いてイオンアシスト蒸着して添加し、表面３３を改質した。この処理により、第４層（ＺｒＯ2層）３２の表面３３がシリサイド化されたと考えられる。イオンアシスト蒸着の条件はイオン種がアルゴン、イオンアシスト電圧は１０００ｅＶ、電流は１５０ｍＡであり、イオンアシスト蒸着の時間（処理時間）は１０秒である。この５層構造でシリサイド化を施したタイプの層構造をタイプＢ１と呼ぶことにする。
【００７９】
４．２ 実施例１０（サンプルＳ１０）
実施例２と同様にレンズ以外の光学物品の実施例として、光学基材１としてカバーガラスを用い、その表面に反射防止層３が形成されたサンプルＳ１０を製造した。このサンプルＳ１０では、光学基材１は、透明な白板ガラス（Ｂ２７０）である。この光学基材１の上に、ハードコート層を成膜せず、直に反射防止層３を成膜した。成膜方法は、上記の４．１と同じである。さらに、上記の４．１．２と同様にシリサイド化した。したがって、このサンプルＳ１０は、タイプＢ１の反射防止層３を備えている。また、反射防止層３の上に、防汚層４を形成した。
【００８０】
４．３ 実施例１１〜１６（サンプルＳ１１〜Ｓ１６）
レンズサンプルＳ９と、カバーガラスのサンプル（ガラスサンプル）Ｓ１０とについて、４．１．２のシリサイド化の条件を変えた幾つかのサンプルＳ１１〜Ｓ１６を製造した。レンズサンプルＳ１１およびガラスサンプルＳ１２は、イオンアシストを実施しないで第４層（ＺｒＯ2層）の表面に厚さ１ｎｍ程度に達するＴｉＯ2層（或いはＴｉＯx層）を作成して下地処理した。その後、シリコンＳｉをイオンアシスト蒸着して添加した。この処理により、第４層（ＺｒＯ2層）３２の表面３３をシリサイドに改質できたと考えられる。シリサイド化のイオンアシスト蒸着の条件をイオン種がアルゴン、イオンアシスト電圧は５００ｅＶ、電流は１５０ｍＡ、処理時間（イオンアシスト蒸着の時間）を１０秒とした。
【００８１】
レンズサンプルＳ１３およびガラスサンプルＳ１４も、イオンアシストを実施しないで第４層（ＺｒＯ2層）の表面に厚さ１ｎｍ程度のＴｉＯ2層で下地処理し、シリコンＳｉをイオンアシスト蒸着してシリサイド化した。シリサイド化のイオンアシスト蒸着の条件をイオン種がアルゴンと酸素の１対１、イオンアシスト電圧は２５０ｅＶ、電流は１５０ｍＡ、処理時間を１０秒とした。
【００８２】
さらに、レンズサンプルＳ１５と、ガラスサンプルＳ１６については、蒸着源としてＴｉＳｉを採用し、ＴｉＳｉを第４層（ＺｒＯ2層）の表面にイオンアシストを用いずに蒸着し、第４層（ＺｒＯ2層）の表面をチタンシリサイドに改質した。
【００８３】
４．４ 比較例９〜１１（サンプルＲ９〜Ｒ１１）
上記の実施例により得られたレンズサンプルおよびガラスサンプルと比較するために、実施例１０と同様にガラスサンプルＲ９を製造した。ただし、シリサイド化（４．１．２に相当）は行わなかった。すなわち、比較例９により製造されたガラスサンプルＲ９は、ガラス基材１と、シリサイド化された層を含まないタイプＢの反射防止層３とを含む。
【００８４】
比較例１０においては、上記の実施例９と同様にレンズサンプルＲ１０を製造した。ただし、シリサイド化（４．１．２）は行わず、金属Ｓｉを、イオンアシストを用いずに３ｎｍだけ蒸着した。すなわち、第４層（ＺｒＯ2層）を成膜後、第５層（ＳｉＯ2層）を成膜する前に、金属シリコンを真空蒸着により成膜し、アモルファスシリコンの層を形成した。したがって、アモルファスシリコン層を含むと反射防止層３は６層構造になる。この６層構造で、アモルファスシリコン層を含むタイプの層構造をタイプＢ２と呼ぶことにする。したがって、比較例１０により製造されたレンズサンプルＲ１０は、プラスチックレンズ基材１と、ハードコート層２と、アモルファスシリコン層を含むタイプＢ２の反射防止層３と、防汚層４とを含む。
【００８５】
比較例１１においては、上記の実施例９と同様にレンズサンプルＲ１１を製造した。ただし、シリサイド化（４．１．２）は行わず、比較例３〜８と同様にＩＴＯ層を形成した。すなわち、第４層（ＺｒＯ2層）を成膜後、第５層（ＳｉＯ2層）を成膜する前に、ＩＴＯをイオンアシスト真空蒸着により３ｎｍ成膜し、ＩＴＯ層を形成した。したがって、ＩＴＯ層を含むと反射防止層３は６層構造になる。この６層構造で、ＩＴＯ層を含むタイプの層構造をタイプＢ３と呼ぶことにする。したがって、比較例１１により製造されたレンズサンプルＲ１１は、プラスチックレンズ基材１と、ハードコート層２と、ＩＴＯ層を含むタイプＢ３の反射防止層３と、防汚層４とを含む。
【００８６】
これらの層構造を図１２に纏めて示している。なお、酸化ジルコニウム（ＺｒＯ2）からなる高屈折率層の波長５５０ｎｍにおける屈折率ｎは２．０５、アモルファスシリコン（金属Ｓｉ）の波長５５０ｎｍにおける屈折率ｎは１．８〜２．０である。
【００８７】
４．５ サンプルの評価
上記３．と同様に、サンプルＳ９〜Ｓ１６およびＲ９〜Ｒ１１について、シート抵抗、ごみの付着試験、吸収損失、耐薬品性（剥がれの発生の有無）、耐湿性（むくみの発生の有無）について評価した。それらの評価結果を図１３にまとめて示している。
【００８８】
シート抵抗については、サンプルＲ９の測定結果が示すように、従来のガラスサンプルではシート抵抗は５×１０14[Ω／□]である。これに対し、反射防止層３の１つの層の表面をシリサイド化したサンプルＳ９〜Ｓ１６においては、シート抵抗が２×１０9[Ω／□]〜８×１０11[Ω／□]となり、シート抵抗が従来のサンプルに比較し、３桁〜５桁（１０3〜１０5）程度小さくなる。すなわち、シート抵抗が１／１０3〜１／１０5になり、導電率が向上している。したがって、シリサイド化することにより大幅にシート抵抗が低下し、導電率が上昇することが分かる。一方、反射防止層３にアモルファスシリコン層あるいはＩＴＯ層を含めたレンズサンプルＲ１０、Ｒ１１では、シート抵抗は２×１０12[Ω／□]〜９×１０12[Ω／□]であり、良好な帯電防止性能が得られるというほど低下していない。
【００８９】
また、これらの結果より、シリサイド化の処理を施したサンプルＳ９〜Ｓ１６においては、シート抵抗が大幅に低下していることが分かり、実際に、ＺｒＯ2層の表面がシリサイド化された面あるいは領域３３に改質されていることが分かる。すなわち、ＺｒＯ2層においてもＳｉ原子をたたき込むことにより、下地層のＺｒとＳｉとが化学反応し、ジルコニアシリサイド（Ｚｒ3Ｓｉ、Ｚｒ2Ｓｉ、Ｚｒ5Ｓｉ3、Ｚｒ3Ｓｉ2、Ｚｒ5Ｓｉ4、Ｚｒ6Ｓｉ5、ＺｒＳｉ2）が形成されていると考えられる。また、Ｚｒ系に限らず、チタンシリサイドを蒸着させることにより、ＺｒＯ2層の表面をシリサイド（可能性としてはＴｉＳｉ系）に改質できることが分かった。
【００９０】
シリサイド化の効果は、特に比較例１０と比較すると分かりやすい。比較例１０のサンプルＲ１０では、シリコンを蒸着しているがシート抵抗はそれほど低下していない。したがって、ある層の表面をシリサイド化することはシート抵抗を低減するために有用であり、逆に、シリサイド化されたか否かは、シート抵抗を測定することにより判断できることが分かる。
【００９１】
また、これらのサンプルＳ９〜Ｓ１６は上述した測定方法で測定されたシート抵抗が１×１０12[Ω／□]以下であり、ごみの付着試験もすべて○であり、良好な帯電防止性を備えていることがわかった。しかしながら、導電層を形成しないサンプルＲ９およびアモルファスシリコン層を備えたサンプルＲ１０は×であり帯電防止性が劣っていることがわかった。また、ＩＴＯ層を備えたサンプルＲ１１は、△であった。
【００９２】
光の吸収損失については、タイプＡ１の層構造を備えたサンプルと同様に、シリサイド化することにより若干吸収損失が上昇する傾向がみられる。しかしながら、最大でも１．２％程度であり、眼鏡用のレンズとしての許容範囲である透光性を備えている。また、帯電防止を考慮するのであれば、吸収損失が０．４％または０．５％のサンプルＳ１４またはＳ１６により、シート抵抗が３×１０10[Ω／□]以下までシート抵抗を小さくできる。したがって、シリサイド化することにより、従来とほぼ同等の吸収損失で、透光性および帯電防止性能の優れた光学物品を提供できることが分かる。
【００９３】
耐薬品性については、シリサイド化を施したサンプルＳ９〜Ｓ１６の評価はすべて○であり、日常的に用いられる環境において、優れた耐薬品性を示した。一方、ＩＴＯ層を成膜したサンプルＲ１１の評価は×であった。
【００９４】
シリサイド化を施したサンプルＳ９〜Ｓ１６も含め、すべてのサンプルについてむくみの発生は観測されず、すぐれた耐湿性を示した。
【００９５】
以上の各評価より、反射防止層３の１つの層の表面をシリサイド化したサンプルＳ９〜Ｓ１６については、先に説明したサンプルＳ１〜Ｓ８と同様に、シート抵抗が大幅に低下し、その一方で、耐薬品性および耐湿性の劣化はなく、帯電防止などの特性を持ち、さらに、耐久性の良い光学物品であることがわかった。したがって、チタンシリサイドに限らず、ジルコニウムシリサイドなどにより表面をシリサイド化することにより、優れた帯電防止性能および電磁波遮断性能を備えた光学物品を提供できることが分かった。
【００９６】
５． 他のサンプル（タイプＣ）
５．１ 実施例１７（サンプルＳ１７）
５．１．１ サンプルＳ１７の製造
図１４に示すように有機系反射防止層３５を備えたレンズサンプルＳ１７を製造した。まず、上記の実施例１と同様にレンズ基材１を選択し、ハードコート層２を成膜した（２．１．１参照）。このハードコート層２の表面に有機系の層３５により反射防止層３を形成した。
【００９７】
化学式 （ＣＨ3Ｏ）3Ｓｉ−Ｃ2Ｈ4−Ｃ6Ｆ12−Ｃ2Ｈ4−Ｓｉ（ＯＣＨ3）3で表されるフッ素含有シラン化合物４７．８重量部（０．０８モル）に、有機溶剤としてメタノール３１２．４重量部、フッ素を含有しないシラン化合物であるγ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン４．７重量部（０．０２モル）加え、さらに０．１規定の塩酸水溶液３６重量部を加えて混合した。その後、設定温度が２５°Ｃの恒温槽内で２時間攪拌して、固形分比率が１０重量％のシリコーンレジンを得た。
【００９８】
このシリコーンレジンに、内部に空洞を有するシリカ微粒子として、中空シリカ−イソプロパノール分散ゾル（触媒化成工業（株）製、固形分比率：２０重量％、平均粒子径：３５ｎｍ、外殻厚み：８ｎｍ）を、シリコーンレジンと中空シリカの固形分比率が７０：３０となるように配合した。さらに、分散媒として、プロピレングリコールモノメチルエーテル９３５重量部を加えて希釈し、固形分が３重量％の組成物を得た。
【００９９】
そして、この組成物に、アルミニウム（Ａｌ（III））を中心金属とする金属錯塩として、アルミニウムのアセチルアセトン（Ａｌ（ａｃａｃ）3）を、最終組成物（有機系反射防止層を形成するコーティング組成物）に対する固形分比率が３重量％となるように加えた後、４時間攪拌した。これにより、有機系反射防止層を形成するコーティング組成物としての反射防止処理液を得た。
【０１００】
ハードコート層２が形成されたレンズサンプル１０を、大気プラズマによりプラズマ処理した。その後、上記で得られた反射防止処理液を、ハードコート層２の表面に、乾燥膜厚が１００ｎｍとなるように、スピナー法を用いて塗布した。そして、温度１２５°Ｃに保たれた恒温槽内に２時間投入して、塗布された反射防止処理液の硬化を行った。これにより、ハードコート層２の上に有機系反射防止層３５を形成した。さらに、反射防止層３５を形成した後、実施例１と同様に防汚層４を成膜した（２．１．３参照）。このようにして、プラスチック基材１、ハードコート層２、有機系の反射防止層３５、防汚層４を含むレンズサンプルＳ１７を得た。
【０１０１】
５．１．２ シリサイド化
反射防止層３５を成膜後、防汚層４を成膜する前に、反射防止層３５の表面３６に、イオンアシストの実施をせず厚さ２ｎｍ程度のＴｉＯx層（或いはＴｉＯ2層）を作る下地処理を行い、Ｓｉ原子をイオンアシスト蒸着により添加した。この処理により有機系の反射防止層３５の表面をシリサイドに改質した。イオンアシスト蒸着の条件はイオン種がアルゴン、イオンアシスト電圧は１０００ｅＶ、電流は１５０ｍＡであり、処理時間（イオンアシスト蒸着時間）は１０秒である。
【０１０２】
５．２ サンプルの評価
上記３．と同様に、サンプルＳ１７について、シート抵抗、吸収損失、耐薬品性（剥がれの発生の有無）、耐湿性（むくみの発生の有無）について評価した。シート抵抗は、１×１０10[Ω／□]であり、優れた帯電防止性能が得られた。波長５５０ｎｍ付近の光の吸収損失は０．５％程度であり、眼鏡レンズとして問題のない値であり、十分な透光性を備えている。また、耐薬品性は○であり、日常的に用いられる環境において、優れた耐薬品性を示した。むくみの発生は観測されず、すぐれた耐湿性を示した。
【０１０３】
以上の各評価より、有機系の反射防止層３５においても、表面をシリサイド化することによりシート抵抗を低下できる。その一方で、耐薬品性および耐湿性の劣化はなく、帯電防止などの特性を持ち、さらに、耐久性の良い光学物品であることがわかった。したがって、無機系の層に限らず、有機系の層においても、表面をシリサイド化することにより、優れた帯電防止性能および電磁波遮断性能を備えた光学物品を提供できることが分かった。
【０１０４】
６． まとめ
図１５に、上記のサンプルＳ１〜Ｓ１６およびＲ３〜Ｒ８において測定されたシート抵抗をシリサイド化のためにシリコンを添加する処理時間と、ＩＴＯ層を成膜するための処理時間（ＩＴＯの蒸着時間）の関係を示している。
【０１０５】
この図からわかるように、反射防止層３を形成する酸化物層の表面をシリサイド化することにより簡単にシート抵抗を下げることができる。したがって、帯電防止性能を得るなどの目的で、耐薬品性および耐湿性の劣化の要因になるＩＴＯ層を形成する必要はない。さらに、表面の限られた領域をシリサイド化するだけで良いので、反射防止層を形成するための多層膜の膜設計を変える必要もない。また、金属酸化膜（層）の表面は、上記のようにシリコンを、イオンアシストを用いて蒸着することによりシリサイト化できる。したがって、従来の反射防止層の構成、材料および蒸着プロセスをほとんど変えずに、表面抵抗が低く、導電性の高いレンズなどの光学物品を提供できる。
【０１０６】
なお、シリサイト化する方法は、シリコンのイオンアシスト蒸着に限らず、スパッタなどの他のある程度のエネルギーを供給できる方法、シリサイド自体を蒸着する方法などであってもよいことは上述した通りである。
【０１０７】
図１６に、上記のガラスサンプルＳ２、Ｓ４、Ｓ６、Ｓ８、Ｓ１０、Ｓ１２、Ｓ１４およびＳ１６、Ｒ２およびＲ９の光吸収損失とシート抵抗とを示している。この図からわかるように、シリサイド化し、シート抵抗が下がると、光吸収損失は微小ながら増大する傾向がある。特に、上記の測定方法により測定されたシート抵抗が１×１０9〜１×１０10[Ω／□]近傍より低下すると、光吸収損失の増加傾向が増す。また、ごみの付着現象はシート抵抗が５×１０12[Ω／□]以下になると改善することが分かっている。したがって、光吸収損失が大きく性能に影響を及ぼす光学物品においては、シリサイト化によりシート抵抗が１×１０9〜５×１０12[Ω／□]である光学物品が好ましい。さらに、シリサイト化によりシート抵抗が１×１０10〜１×１０12[Ω／□]である光学物品がいっそう好ましい。
【０１０８】
なお、上記の実施例で示した反射防止層の層構造は幾つかの例にすぎず、本発明がそれらの層構造に限定されることはない。たとえば、３層以下、あるいは９層以上の反射防止層に適用することも可能であり、シリサイド化する層は１つの層に限定されない。また、高屈折率層と低屈折率層の組み合わせは、ＴｉＯ2／ＳｉＯ2、ＺｒＯ2／ＳｉＯ2に限定されることはなく、Ｔａ2Ｏ5／ＳｉＯ2、ＮｄＯ2／ＳｉＯ2、ＨｆＯ2／ＳｉＯ2、Ａｌ2Ｏ3／ＳｉＯ2などの系のいずれかの層の表面をシリサイド化することが可能である。
【０１０９】
図１７に、上記のシリサイド化された層を含む眼鏡レンズ１０と、眼鏡レンズ１０が装着されたフレーム２０１とを含む眼鏡２００を示している。また、図１８に、上記のシリサイド化された層を含むレンズ２１１と、シリサイド化された層を含むカバーガラス２１２と、投射レンズ２１１およびカバーガラス２１２とを通して投影する光を生成する画像形成装置、たとえばＬＣＤ２１３とを備えたプロジェクター２１０を示している。また、図１９に、上記のシリサイド化された層を含む撮像レンズ２２１と、シリサイド化された層を含むカバーガラス２２２と、撮像レンズ２２１およびカバーガラス２２２を通して画像を取得するための撮像装置、たとえばＣＣＤ２２３とを備えたデジタルカメラ２２０を示している。また、図２０に、上記のシリサイド化された透過層２３１と、光学的な方法により記録を読み書きできる記録層２３２とを備えた記録媒体、たとえばＤＶＤ２３０を示している。
【０１１０】
本発明の光学物品は、これらのシステムの光学物品、たとえば、レンズ、ガラス、プリズム、カバー層などとして多種多様な用途を備えている。また、上記に示したシステムは例示にすぎず、当業者が本発明を利用しうる光学物品およびシステムは、本発明に含まれるものである。
【符号の説明】
【０１１１】
１ レンズ基材、 ２ ハードコート層、 ３ 反射防止層、 ４ 防汚層、 １０ レンズサンプル
【技術分野】
【０００１】
本発明は、眼鏡レンズなどのレンズ、その他の光学材料あるいは製品に用いられる光学物品およびその製造方法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
眼鏡レンズなどの光学物品は、種々の機能を果たすための基材（光学基材）の表面に、その基材の機能をさらに強化したり、保護したりするために種々の機能を備えた層（膜）が形成されている。たとえば、レンズ基材の耐久性を確保するためのハードコート層、ゴーストおよびちらつきを防止するための反射防止層などが公知である。反射防止層の典型的なものは、ハードコート層が積層されたレンズ基材の表面に異なる屈折率を持つ酸化膜を交互に積層してなるいわゆる多層反射防止層である。
【０００３】
特許文献１には、新規な、低耐熱性基材に好適な帯電防止性能を有する光学要素を提供することが記載されている。プラスチック製の光学基材上に複層構成の反射防止膜を備えた眼鏡レンズなどの光学要素において、反射防止膜が透明導電層を含み、該透明導電層をイオンアシスト真空蒸着により形成し、他の反射防止膜の構成層は、電子ビーム真空蒸着等により形成することが記載されている。導電層としては、インジウム、スズ、亜鉛等のいずれか、又は２種以上の複数を成分とする無機酸化物が挙げられており、特に、ＩＴＯ（Ｉｎｄｉｕｍ Ｔｉｎ Ｏｘｉｄｅ：酸化インジウムと酸化錫との混合物）が望ましいことが記載されている。
【特許文献１】特開２００４−３４１０５２号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
基材の表面に形成される膜あるいは層に、帯電防止、電磁遮蔽などを目的として導電性を付与するために、ある程度の厚みの導電層を形成することが公知である。しかしながら、多層からなる反射防止層など、所定の光学設計や膜設計にしたがって製造される膜あるいは層に新たな厚みの層を加えるためには、新たな光学設計や膜設計が必要なり、また、新たに加えられる膜あるいは層の影響を確認する必要がある。たとえば、酸化インジウムスズ（ＩＴＯ）層は、透明性と帯電防止性に優れているものの、酸やアルカリなどの薬品により侵されやすい。このため、眼鏡レンズの表面に採用すると、人の汗は塩分を含んだ酸なので、ＩＴＯ層を含む反射防止層の耐久性が問題になる可能性がある。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
本発明の一態様は、光学物品（光学素子）の製造方法であり、光学基材の上に、直にまたは他の層を介して透光性の第１の層を形成することと、第１の層の表面を低抵抗化することとを有する。ある程度の厚みの導電層を形成する代わりに、既存の層の表面を低抵抗にすることにより、多層からなる反射防止層の光学設計を大きく変化させることなく、第１の層および第１の層を含む多層あるいは膜のシート抵抗を低減できる。このため、帯電防止機能および／または電磁波遮蔽機能などを備えた光学物品をいっそう容易に製造および提供できる。なお低抵抗化とは、電気的な抵抗をより低くすることであり、本願発明では層表面の電気的な抵抗をより低くすることである。
【０００６】
眼鏡レンズなどの市販されている光学物品において、光学基材の表面に形成される層には、シリコン系の化合物、たとえば、酸化シリコン、有機ケイ素化合物を用いた層、または、それらを含む層が含まれることが多い。このため、シリコン系の導電構造を表面に導入することは第１の層およびそれに積層される層とのマッチングが良い。シリコン系の導電構造の１つはシリサイドであり、第１の層の表面をシリサイド化することにより、その層の表面を低抵抗化することは有効である。
【０００７】
この明細書においてシリサイドとは、遷移金属ケイ素化物（遷移金属シリサイド）を示し、第１の層の表面のシリサイド化とは、表面に、シリサイドを生成する遷移金属および／またはシリコンを物理的および／または化学的な方法、たとえば、蒸着、スパッタリングなどにより打ち込み、添加および／または混合することにより改質し、第１の層のシート抵抗が低下することを示す。シート抵抗が低下することは、第１の層の表面の少なくとも一部にシリサイド、シリサイドと第１の層の組成物との混合物、および／または、シリサイドの酸化物（遷移金属ケイ素酸化物）が顕在化していると考えられるからである。
【０００８】
また、表面のシリサイド化を、それによるシート抵抗の低下が帯電防止および／または電磁遮蔽という目的に適合する程度にすることにより、表面の限られた厚み（部分）をシリサイド化することになり、シリサイドによる第１の層の透光性の低下を抑制できる。すなわち、第１の層の光の吸収損失の増加を抑制できる。
【０００９】
第１の層の典型的なものは、光学基材の上にハードコート層、またはプライマー層およびハードコート層を介して積層された無機系または有機系の反射防止層である。第１の層が金属酸化物を含む層の場合は、シリサイド化することは、第１の層の表面にシリコンを添加して改質することを含む。この第１の層は、多層構造の反射防止層のいずれかの１つの層または複数の層であることを含む。多層構造の反射防止層のシート抵抗を低減できる。
【００１０】
シリサイド化することは、第１の層の表面にシリコンおよび金属を添加して改質することを含んでもよい。また、シリサイド化することは、第１の層の表面に遷移金属ケイ素化物を添加して改質することを含んでもよい。第１の層は、無機系または有機系の反射防止層であってもよい。第１の層の上に、直にまたは他の層を介して防汚層を形成することをさらに有してもよい。
【００１１】
本発明の他の態様の１つは、光学基材と、光学基材の上に、直にまたは他の層を介して形成された透光性の第１の層とを有し、第１の層の表面がシリサイド化されている光学物品である。第１の層の表面をシリサイド化することにより、その層およびその層を含み、光学基材の上に形成された膜あるいは層のシステムのシート抵抗を低減できる。したがって、基材の表面に形成された膜あるいは層に導電性を付与でき、帯電防止、電磁遮蔽などの機能を付与あるいはその機能を向上できる。さらに、シリサイドは、ＩＴＯと比較して、酸やアルカリなどの薬品に対して安定している。このため、耐久性の低下を抑制でき、帯電防止などが要望される身の回りの物品（素子、製品）、たとえば、眼鏡のレンズ、カメラのレンズ、情報端末の表示装置、ＤＶＤなどの多種多様な光学物品に適用できる。
【００１２】
第１の層の典型的なものは、無機系の反射防止層である。すなわち、光学物品が多層構造の反射防止層を有している場合は、第１の層は多層構造の反射防止層に含まれる１つの層であってよい。第１の層が反射防止層を構成する多層の複数の層であってもよい。第１の層は、有機系の反射防止層に含まれる層であってもよい。
【００１３】
さらに、光学物品は、第１の層の上に、直にまたは他の層を介して形成された防汚層を有していてもよい。防汚層は撥水性能を有するので、防汚層を有する光学物品表面は、空気中の水分を保持することができない。その結果、帯電し易い。第１の層を含む光学物品であれば、防汚層を有する光学物品であっても、帯電を防止することができる。典型的な光学基材は、プラスチックレンズ基材であり、たとえば、眼鏡レンズである。
【００１４】
本発明のさらに異なる他の態様の１つは、眼鏡レンズと、眼鏡レンズが装着されたフレームとを有する眼鏡である。
【００１５】
本発明のさらに異なる他の態様の１つは、上記の光学物品であって、一方の面が外界に面した光学物品を有し、光学物品を通して画像を透視するためのシステムである。このシステムの典型的なものは、時計、表示装置および表示装置を有する端末などの情報処理装置であり、表示装置の表面の帯電性を抑制でき、また、電磁波遮蔽能力を向上できる。
【００１６】
本発明のさらに異なる他の態様の１つは、上記の光学物品と、光学物品を通して画像を投影させるため画像形成装置とを有するシステムである。このシステムの典型的なものはプロジェターである。光学物品の典型的なものは、投射用のレンズ、ダイクロイックプリズム、カバーガラスなどである。本発明を、画像形成装置の１つであるＬＣＤ（液晶デバイス）などのライトバルブあるいはそれらに含まれる素子に適用してもよい。
【００１７】
本発明のさらに異なる他の態様の１つは、上記の光学物品と、光学物品を通して画像を取得するための撮像装置とを有するシステムである。このシステムの典型的なものはカメラである。光学物品の典型的なものは、結像用のレンズ、カバーガラスなどである。本発明を、撮像装置の１つであるＣＣＤなどに適用してもよい。
【００１８】
本発明のさらに異なる他の態様の１つは、上記の光学物品と、光学物品を通してアクセスする媒体とを有するシステムである。このシステムの典型的なものは、記録媒体を内蔵し、表面の帯電性が低いことが要望されるＤＶＤなどの情報記録装置、美的表現を発揮する媒体を内蔵した装飾品などである。
【図面の簡単な説明】
【００１９】
【図１】タイプＡ１の層構造の反射防止層を含むレンズの構造を示す断面図。
【図２】反射防止層の製造に用いる蒸着装置を模式的に示す図。
【図３】タイプＡに関連する反射防止層の層構造を示す表。
【図４】タイプＡに関連するサンプルの評価結果を示す表。
【図５】図５（Ａ）は、表面の電気抵抗を測定する様子を示す断面図、図５（Ｂ）は平面図。
【図６】図６（Ａ）は、耐薬品性試験の擦傷工程に使用される試験装置の外観を示す図、図６（Ｂ）は試験装置の内部構造を示す図。
【図７】耐薬品性試験の擦傷工程に使用される試験装置を回転することを示す図。
【図８】耐湿性試験におけるむくみを判定する装置の概略を示す図。
【図９】図９（Ａ）は、レンズ表面にむくみのない状態を模式的に示す図、図９（Ｂ）はレンズ表面にむくみのある状態を模式的に示す図。
【図１０】図１０（Ａ）は、Ｓｉをイオンアシスト蒸着により打ち込む（添加）する様子を示す図、図１０（Ｂ）は、添加されたＳｉにより表面が改質されシリサイド化される様子を示す図。
【図１１】タイプＢ１の層構造の反射防止層を含むレンズの構造を示す断面図。
【図１２】タイプＢに関連する反射防止層の層構造を示す表。
【図１３】タイプＢに関連するサンプルの評価結果を示す表。
【図１４】タイプＣの層構造の反射防止層を含むレンズの構造を示す断面図。
【図１５】シート抵抗と、シート抵抗を低減するための処理時間との関係を示す図。
【図１６】シート抵抗と、光吸収損失との関係を示す図。
【図１７】眼鏡の概要を示す図。
【図１８】プロジェクターの概要を示す図。
【図１９】デジタルカメラの概要を示す図。
【図２０】記録媒体の概要を示す図。
【発明を実施するための形態】
【００２０】
本発明の幾つかの実施形態を説明する。以下では、光学物品として眼鏡用のレンズを例示して説明するが、本発明を適用可能な光学物品はこれに限定されるものではない。
【００２１】
図１に、典型的なレンズの構成を、基材を中心とした一方の面の側の断面図により示している。レンズ１０は、レンズ基材１と、レンズ基材１の表面に形成されたハードコート層２と、ハードコート層２の上に形成された透光性の反射防止層３と、反射防止層３の上に形成された防汚層４とを含む。
【００２２】
１． レンズの概要
１．１ レンズ基材
レンズ基材１は、特に限定されないが、（メタ）アクリル樹脂をはじめとしてスチレン樹脂、ポリカーボネート樹脂、アリル樹脂、ジエチレングリコールビスアリルカーボネート樹脂（ＣＲ−３９）等のアリルカーボネート樹脂、ビニル樹脂、ポリエステル樹脂、ポリエーテル樹脂、イソシアネート化合物とジエチレングリコールなどのヒドロキシ化合物との反応で得られたウレタン樹脂、イソシアネート化合物とポリチオール化合物とを反応させたチオウレタン樹脂、分子内に１つ以上のジスルフィド結合を有する（チオ）エポキシ化合物を含有する重合性組成物を硬化して得られる透明樹脂等を例示することができる。レンズ基材１の屈折率は、たとえば、１．６４〜１．７５程度である。この実施形態においては、屈折率は上記の範囲でも、上記の範囲から上下に離れていてもよい。
【００２３】
１．２ ハードコート層（プライマー層）
ハードコート層２は、耐擦傷性を向上するものである。ハードコート層２に使用される材料として、アクリル系樹脂、メラミン系樹脂、ウレタン系樹脂、エポキシ系樹脂、ポリビニルアセタール系樹脂、アミノ系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリアミド系樹脂、ビニルアルコール系樹脂、スチレン系樹脂、シリコン系樹脂およびこれらの混合物もしくは共重合体等を挙げることができる。ハードコート層２の一例は、シリコーン系樹脂であり、金属酸化物微粒子、シラン化合物からなるコーティング組成物を塗布し硬化させてハードコート層を形成できる。このコーティング組成物にはコロイダルシリカ、および多官能性エポキシ化合物等の成分が含まれていてもよい。
【００２４】
金属酸化物微粒子の具体例は、ＳｉＯ2、Ａｌ2Ｏ3、ＳｎＯ2、Ｓｂ2Ｏ5、Ｔａ2Ｏ5、ＣｅＯ2、Ｌａ2Ｏ3、Ｆｅ2Ｏ3、ＺｎＯ、ＷＯ3、ＺｒＯ2、Ｉｎ2Ｏ3、ＴｉＯ2等の金属酸化物からなる微粒子または２種以上の金属の金属酸化物からなる複合微粒子である。これらの微粒子を、分散媒たとえば水、アルコール系もしくはその他の有機溶媒にコロイド状に分散させたものをコーティング組成物に混合できる。
【００２５】
レンズ基材１とハードコート層２との密着性を確保するために、レンズ基材１とハードコート層２との間にプライマー層を設けてもよい。プライマー層は、高屈折率レンズ基材の欠点である耐衝撃性を改善するためにも有効である。プライマー層を形成するための樹脂としては、アクリル系樹脂、メラミン系樹脂、ウレタン系樹脂、エポキシ系樹脂、ポリビニルアセタール系樹脂、アミノ系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリアミド系樹脂、ビニルアルコール系樹脂、スチレン系樹脂、シリコン系樹脂およびこれらの混合物もしくは共重合体等が挙げられる。密着性を持たせるためのプライマー層としてはウレタン系樹脂およびポリエステル系樹脂がよい。
【００２６】
ハードコート層２およびプライマー層の製造方法の典型的なものは、ディッピング法、スピンナー法、スプレー法、フロー法によりコーティング組成物を塗布し、その後、４０〜２００°Ｃの温度で数時間加熱乾燥する方法である。
【００２７】
１．３ 反射防止層
ハードコート層２の上に形成される反射防止層３の典型的なものは無機系の反射防止層と有機系の反射防止層である。無機系の反射防止層は多層膜で構成され、例えば、屈折率が１．３〜１．６である低屈折率層と、屈折率が１．８〜２．６である高屈折率層とを交互に積層して形成することができる。層数としては、５層あるいは７層程度が好ましい。反射防止層を構成する各層に使用される無機物の例としては、ＳｉＯ2、ＳｉＯ、ＺｒＯ2、ＴｉＯ2、ＴｉＯ、Ｔｉ2Ｏ3、Ｔｉ2Ｏ5、Ａｌ2Ｏ3、ＴａＯ2、Ｔａ2Ｏ5、ＮｄＯ2、ＮｂＯ、Ｎｂ2Ｏ3、ＮｂＯ2、Ｎｂ2Ｏ5、ＣｅＯ2、ＭｇＯ、Ｙ2Ｏ3、ＳｎＯ2、ＭｇＦ2、ＷＯ3、ＨｆＯ2、Ｙ2Ｏ3などが挙げられる。これらの無機物は単独で用いるかもしくは２種以上を混合して用いる。
【００２８】
反射防止層３を形成する方法としては、乾式法、例えば、真空蒸着法、イオンプレーティング法、スパッタリング法などが挙げられる。真空蒸着法においては、蒸着中にイオンビームを同時に照射するイオンビームアシスト法を用いてもよい。
【００２９】
有機系の反射防止層３の製造方法の１つは湿式法である。例えば、内部空洞を有するシリカ系微粒子（以下、「中空シリカ系微粒子」ともいう）と、有機ケイ素化合物とを含んだ反射防止層形成用のコーティング組成物を、ハードコート層、プライマー層と同様の方法でコーティングして形成することもできる。中空シリカ系微粒子を用いるのは、内部空洞内にシリカよりも屈折率が低い気体または溶媒が包含されることによって、空洞のないシリカ系微粒子に比べてより屈折率が低減し、結果的に、優れた反射防止効果を付与できるからである。中空シリカ系微粒子は、特開２００１−２３３６１１号公報に記載されている方法などで製造することができるが、平均粒子径が１〜１５０ｎｍの範囲にあり、かつ屈折率が１．１６〜１．３９の範囲にあるものを使用することが望ましい。この有機系の反射防止層の層厚は、５０〜１５０ｎｍの範囲が好ましい。この範囲より厚すぎたり薄すぎたりすると、十分な反射防止効果が得られないおそれがある。
【００３０】
１．４ 防汚層
反射防止層３の上に撥水膜、または親水性の防曇膜（防汚層）４を形成することが多い。防汚層４は、光学物品（レンズ）１０の表面の撥水撥油性能を向上させる目的で、反射防止層３の上に、フッ素を含有する有機ケイ素化合物からなる層を形成したものである。フッ素を含有する有機ケイ素化合物としては、例えば、特開２００５−３０１２０８号公報や特開２００６−１２６７８２号公報に記載されている含フッ素シラン化合物を好適に使用することができる。
【００３１】
含フッ素シラン化合物は、有機溶剤に溶解し、所定濃度に調整した撥水処理液（防汚層形成用のコーティング組成物）として用いることが好ましい。防汚層は、この撥水処理液（防汚層形成用のコーティング組成物）を反射防止層上に塗布することにより形成することができる。塗布方法としては、ディッピング法、スピンコート法などを用いることができる。なお、撥水処理液（防汚層形成用のコーティング組成物）を金属ペレットに充填した後、真空蒸着法などの乾式法を用いて、防汚層を形成することも可能である。
【００３２】
防汚層の層厚は、特に限定されないが、０．００１〜０．５μｍが好ましい。より好ましくは０．００１〜０．０３μｍである。防汚層の層厚が薄すぎると撥水撥油効果が乏しくなり、厚すぎると表面がべたつくので好ましくない。また、防汚層の厚さが０．０３μｍより厚くなると反射防止効果が低下する可能性がある。
【００３３】
２． サンプルの製造（タイプＡ）
２．１ 実施例１（サンプルＳ１）
２．１．１ レンズ基材の選択およびハードコート層の成膜
ハードコート層２を形成するための塗布液（コーティング液）を次のように調製した。エポキシ樹脂−シリカハイブリッド（商品名：コンポセランＥ１０２（荒川化学工業（株）製））２０重量部に、酸無水物系硬化剤（商品名：硬化剤液（Ｃ２）（荒川化学工業（株）製））４．４６重量部を混合、攪拌して塗布液（コーティング液）を得た。このコーティング溶液を所定の厚さになるようにスピンコーターを用いて基材１の上に塗布してハードコート層２を成膜した。
【００３４】
基材１としては、屈折率１．６７の眼鏡用のプラスチックレンズ基材（セイコーエプソン（株）製、商品名：セイコースーパーソブリン（ＳＳＶ））を用いた。塗布後のレンズ基材を１２５°Ｃで２時間焼成した。
【００３５】
２．１．２ 反射防止層の成膜
２．１．２．１ 蒸着装置
次に、図２に示す蒸着装置１００により無機系の反射防止層３を製造（成膜）した。例示した蒸着装置１００は電子ビーム蒸着装置であり、真空容器１１０、排気装置１２０およびガス供給装置１３０を備えている。真空容器１１０は、ハードコート層２までが形成されたレンズサンプル１０が載置されるサンプル支持台１１５と、サンプル支持台１１５にセットされたレンズサンプル１０を加熱するための基材加熱用ヒーター１１６と、熱電子を発生するフィラメント１１７とを備えており、電子銃（不図示）により蒸発源（るつぼ）１１２および１１３にセットされた蒸着材料に熱電子１１４を照射し蒸発させ、レンズサンプル１０に材料を蒸着する。
【００３６】
さらに、この蒸着装置１００は、イオンアシスト蒸着を可能とするために、容器１１０の内部に導入したガスをイオン化して加速し、レンズサンプル１０に照射するためのイオン銃１１８を備えている。また、真空容器１１０には、残留した水分を除去するためのコールドトラップや、層厚を管理するための装置等をさらに設けることができる。層厚を管理する装置としては、例えば、反射型の光学膜厚計や水晶振動子膜厚計などがある。
【００３７】
真空容器１１０の内部は、排気装置１２０に含まれるターボ分子ポンプまたはクライオポンプ１２１および圧力調節バルブ１２２により高真空、たとえば１×１０-4Ｐａに保持できる。一方、真空容器１１０の内部は、ガス供給装置１３０により所定のガス雰囲気することも可能である。たとえば、ガス容器１３１には、アルゴン（Ａｒ）、窒素（Ｎ2）、酸素（Ｏ2）などが用意される。ガスの流量は流量制御装置１３２により制御でき、真空容器１１０の内圧は圧力計１３５により制御できる。
【００３８】
基材加熱用ヒーター１１６は、例えば赤外線ランプであり、レンズサンプル１０を加熱することによりガス出しあるいは水分とばしを行い、レンズサンプル１０の表面に形成される層の密着性を確保する。
【００３９】
したがって、この蒸着装置１００における主な蒸着条件は、蒸着材料、電子銃の加速電圧および電流値、イオンアシストの有無である。イオンアシストを利用する場合の条件は、イオンの種類（真空容器１１０の雰囲気）と、イオン銃１１８の電圧値および電流値とにより与えられる。以下において、特に記載しないかぎり、電子銃の加速電圧は５〜１０ｋＶの範囲、電流値は５０〜５００ｍＡの範囲の中で成膜レートなどをもとに選択される。また、イオンアシストを利用する場合は、イオン銃１１８が電圧値２００Ｖ〜１ｋＶの範囲、電流値が１００〜５００ｍＡの範囲で成膜レートなどをもとに選択される。
【００４０】
２．１．２．２ 低屈折率層および高屈折率層の成膜
ハードコート層２が形成されたレンズサンプル１０をアセトンにて洗浄し、真空容器１１０の内部にて約７０°Ｃの加熱処理を行い、レンズサンプル１０に付着した水分を蒸発させる。次に、レンズサンプル１０の表面にイオンクリーニングを実施した。具体的には、イオン銃１１８を用いて酸素イオンビームを数百ｅＶのエネルギーでレンズサンプル１０の表面に照射し、レンズサンプル１０の表面に付着した有機物の除去を行った。この方法により、レンズサンプル１０の表面に形成する膜の付着力を強固なものとすることができる。なお、酸素イオンの代わりに不活性ガス、例えばＡｒ、キセノン（Ｘｅ）、Ｎ2を用いて同様の処理を行ってもよいし、酸素ラジカルや酸素プラズマを照射してもよい。
【００４１】
真空容器１１０の内部を十分に真空排気した後、電子ビーム真空蒸着法により、低屈折率層３１および高屈折率層３２を交互に積層して反射防止層３を製造した。
【００４２】
実施例１のレンズサンプルＳ１（以降では、各々の実施例のサンプルはサンプルＳ１と呼び、共通するサンプルについてはサンプル１０と呼ぶ）には、二酸化ケイ素（ＳｉＯ2）層を低屈折率層３１として形成し、酸化チタン（ＴｉＯ2）層を高屈折率層３２として形成した。図１に示すように、第１層、第３層、第５層および第７層が低屈折率層３１であり、イオンアシストは行わず、真空蒸着によりＳｉＯ2層を成膜した。成膜レートは２．０ｎｍ／ｓｅｃとし、電子銃の加速電圧は７ｋＶ、電流は１００ｍＡとした。第２層、第４層および第６層が高屈折率層であり、酸素ガスを導入しながらイオンアシスト蒸着を行い、ＴｉＯ2層を成膜した。成膜レートは０．４ｎｍ／ｓｅｃとし、電子銃の加速電圧は７ｋＶ、電流は３６０ｍＡとした。第１〜第７層の膜厚は、４４ｎｍ、１０ｎｍ、５７ｎｍ、３６ｎｍ、２５ｎｍ、３６ｎｍ、１０１ｎｍに管理した。この７層からなる層構造、すなわち、第１層、第３層、第５層および第７層がＳｉＯ2層、第２層、第４層および第６層がＴｉＯ2層の層構造をタイプＡの層構造と呼ぶことにする。
【００４３】
２．１．３ シリサイド化
第６層（ＴｉＯ2層）３２を成膜後、第７層（ＳｉＯ2層）３１を成膜する前に、蒸着装置１００を用い、Ｓｉ（金属シリコン）を、アルゴンイオンを用いたイオンアシスト蒸着により第６層の表面３３に添加し、図１に示すように、第６層の表面３３を改質した。この処理により第６層の表面３３はシリサイド化したと考えられる。イオンアシスト蒸着の条件はイオン種がアルゴン、イオンアシスト電圧は１０００ｅＶ、電流は１５０ｍＡであり、処理時間（蒸着時間）は１０秒である。そして、電子銃の加速電圧は７ｋＶ、電流は４００ｍＡとした。７層構造でシリサイド化を施したタイプの層構造をタイプＡ１と呼ぶことにする。
【００４４】
２．１．４ 防汚層の成膜
反射防止層３を形成した後、酸素プラズマ処理を施し、真空容器１１０内で、分子量の大きなフッ素含有有機ケイ素化合物を含む「ＫＹ−１３０」（商品名、信越化学工業（株）製）を含有させたペレット材料を蒸着源として、約５００°Ｃで加熱し、ＫＹ−１３０を蒸発させて、防汚層４を成膜した。蒸着時間は、約３分間程度とした。酸素プラズマ処理を施すことにより最終のＳｉＯ2層の表面にシラノール基を生成できるので、反射防止層３と防汚層４との化学的密着性（化学結合）を向上できる。蒸着終了後、真空蒸着装置１００からレンズサンプル１０を取り出し、反転して再び投入し、上記の２．１．２〜２．１．４の工程を同じ手順で繰り返し、反射防止層の成膜、シリサイド化および防汚層の成膜を行った。その後、レンズサンプル１０を真空蒸着装置１００から取り出した。これにより、レンズ基材１の両面にハードコート層２、シリサイド化されたタイプＡ１の反射防止層３、および防汚層４を備えた実施例１のレンズサンプルＳ１が得られた。
【００４５】
２．２ 実施例２（サンプルＳ２）
レンズ以外の光学物品の実施例として、光学基材１としてカバーガラスを用い、その表面に反射防止層３が形成されたサンプルＳ２を製造した。このサンプルＳ２では、光学基材１は、透明な白板ガラス（Ｂ２７０）である。この光学基材１の上に、ハードコート層を成膜せず、直に反射防止層３を成膜した。成膜方法は、上記の２．１．２と同じである。さらに、上記の２．１．３と同様にシリサイド化した。したがって、このサンプルＳ２は、タイプＡ１の反射防止層３を備えている。また、反射防止層３の上に防汚層４を形成している。
【００４６】
２．３ 実施例３〜８（サンプルＳ３〜Ｓ８）
レンズサンプルＳ１と、カバーガラスのサンプル（ガラスサンプル）Ｓ２とについて、２．１．３のシリサイド化のための処理条件を変えた幾つかのサンプルＳ３〜Ｓ８を製造した。レンズサンプルＳ３およびガラスサンプルＳ４は、シリサイド化のためのイオンアシスト蒸着の条件をイオン種がアルゴン、イオンアシスト電圧は１０００ｅＶ、電流は１５０ｍＡ、イオンアシスト蒸着により処理時間（蒸着時間）を５秒とした。レンズサンプルＳ５およびガラスサンプルＳ６は、シリサイド化のイオンアシスト蒸着の条件をイオン種がアルゴン、イオンアシスト電圧は５００ｅＶ、電流は１５０ｍＡ、処理時間を１０秒とした。レンズサンプルＳ７およびガラスサンプルＳ８は、シリサイド化のイオンアシスト蒸着の条件をイオン種がアルゴンと酸素の１対１、イオンアシスト電圧は２５０ｅＶ、電流は１５０ｍＡ、処理時間を５秒とした。
【００４７】
２．４ 比較例１、２（サンプルＲ１、Ｒ２）
上記の実施例により得られたレンズサンプルおよびガラスサンプルと比較するために、実施例１および実施例２と同様にレンズサンプルＲ１およびガラスサンプルＲ２を製造した。ただし、シリサイド化（２．１．３）は行わなかった。すなわち、比較例１により製造されたレンズサンプルＲ１は、レンズ基材１と、ハードコート層２と、シリサイド化された層を含まないタイプＡの反射防止層３と、防汚層４とを含む。比較例２により製造されたガラスサンプルＲ２は、ガラス基材１と、シリサイド化された層を含まないタイプＡの反射防止層３と、防汚層４とを含む。
【００４８】
２．５ 比較例３〜８（サンプルＲ３〜Ｒ８）
上記の実施例により得られたレンズサンプルと比較するために、透明な導電層としてＩＴＯ（酸化インジウムスズ）層を備えたレンズサンプルＲ３〜Ｒ８を製造した。これらのレンズサンプルＲ３〜Ｒ８は、上記の実施例１と同様にレンズ基材１を選択し、ハードコート層２を成膜した（２．１．１参照）。さらに、実施例１と同様に基本的には７層からなる反射防止層３を成膜した（２．１．２参照）。
【００４９】
ただし、第６層（ＴｉＯ2層）を成膜後、第７層（ＳｉＯ2層）を成膜する前に、酸化インジウムスズ（ＩＴＯ）をイオンアシスト真空蒸着により成膜した。ＩＴＯ層の成膜の際は、電子銃の加速電圧を７ｋＶ、電流値を５０ｍＡとし、ＩＴＯ膜の酸化を促進させるために真空容器内に毎分１５ミリリットルの酸素ガスを導入し、酸素雰囲気とした。また、イオン銃へは毎分３５ミリリットルの酸素ガスを導入し、加速電圧を５００Ｖ、電流値を２５０ｍＡとして酸素イオンビームを照射した。また、ＩＴＯ層の成膜レートは０．１ｎｍ／ｓｅｃとした。ＩＴＯ層の膜厚は、サンプルＲ３〜Ｒ８で２．５、３．５、５、７、１０および１５ｎｍと変えた。したがって、ＩＴＯ層を含むと反射防止層３は８層構造になる。この８層構造で、ＩＴＯ層を含むタイプの層構造をタイプＡ２と呼ぶことにする。
【００５０】
さらに、この比較例３〜８においては、膜厚の異なるＩＴＯ層を挟むことにより、反射防止層３の膜設計が変わり、ＳｉＯ2層およびＴｉＯ2層の膜厚が異なり、タイプＡ２−１〜Ａ２−６としている。サンプルＲ３〜Ｒ８の反射防止層３の層構造を、上述したサンプルＳ１〜Ｓ８、Ｒ１およびＲ２とともに図３に示している。なお、二酸化ケイ素（ＳｉＯ2）からなる低屈折率層の波長５５０ｎｍにおける屈折率ｎは１．４６２である。また、酸化チタン（ＴｉＯ2）からなる高屈折率層の波長５５０ｎｍにおける屈折率ｎは２．４３１である。ＩＴＯ層の波長５５０ｎｍにおける屈折率ｎは２．１である。
【００５１】
３． サンプルの評価
上記により製造されたサンプルＳ１〜Ｓ８およびＲ１〜Ｒ８について、シート抵抗、ごみの付着試験、吸収損失、耐薬品性（剥がれの発生の有無）、耐湿性（むくみの発生の有無）について評価した。それらの評価結果を図４にまとめて示している。
【００５２】
３．１ シート抵抗
図５（Ａ）および（Ｂ）に、各サンプルのシート抵抗を測定する様子を示している。この例では、測定対象、たとえば、レンズサンプル１０の表面１０Ａにリングプローブ６１を接触し、レンズサンプル１０の表面１０Ａのシート抵抗を測定した。測定装置６０は、三菱化学（株）製高抵抗抵抗率計ハイレスタＵＰ ＭＣＰ−ＨＴ４５０型を使用した。使用したリングプローブ６１は、ＵＲＳタイプであり、２つの電極を有し、外側のリング電極６１Ａは外径１８ｍｍ、内径１０ｍｍであり、内側の円形電極６１Ｂは直径７ｍｍである。それらの電極間に１０００Ｖ〜１０Ｖの電圧を印加し、各サンプルのシート抵抗を計測した。
【００５３】
図４に測定結果を示している。サンプルＲ１およびＲ２の測定結果が示すように、従来のレンズサンプルおよびガラスサンプルではシート抵抗は５×１０13[Ω／□]である。シート抵抗を低減するために反射防止層３にＩＴＯ層を含めたレンズサンプルＲ３〜Ｒ８では、ＩＴＯ層の厚みに依存するが、シート抵抗は１．５×１０11[Ω／□]〜２×１０13[Ω／□]に低下する。これに対し、反射防止層３の１つの層の表面をシリサイド化したサンプルＳ１〜Ｓ８においては、シート抵抗が５×１０7[Ω／□]〜１×１０10[Ω／□]となり、シート抵抗が従来のサンプルに比較し、３桁〜６桁（１０3〜１０6）程度小さくなる。すなわち、シート抵抗が１／１０3〜１／１０6になる。したがって、シリサイド化することにより大幅にシート抵抗が低下することが分かる。
【００５４】
また、反射防止層３を８層構造にしてＩＴＯ層を含めたサンプルＲ３〜Ｒ８と比較しても、シート抵抗は１桁〜６桁（１０1〜１０6）程度小さくなり、シート抵抗が１／１０〜１／１０6になる。したがって、ＩＴＯ層を含めたサンプルよりも、１つの層の表面をシリサイド化することにより大幅にシート抵抗を低下できることがわかる。そして、１つの層の表面をシリサイド化するだけでよいので、反射防止層３の膜設計を変える必要はない。
【００５５】
さらに、これらの結果より、１つの層の表面をシリサイド化するだけで、シート抵抗が大幅に低下することが分かる。したがって、ある層の表面がシリサイド化されたか否かはシート抵抗を測定することにより判断できる。すなわち、この明細書においてシリサイドとは、遷移金属ケイ素化物（遷移金属シリサイド）を示し、第１の層の表面のシリサイド化とは、表面に、シリサイドを生成する遷移金属および／またはシリコンを物理的および／または化学的な方法、たとえば、蒸着、スパッタリングなどにより打ち込み、添加および／または混合することにより改質し、第１の層の表面の少なくとも一部にシリサイド、シリサイドと第１の層の組成物との混合物、および／または、シリサイドの酸化物（遷移金属ケイ素酸化物）を顕在化させることを示す。そして、第１の層の表面をシリサイド化することにより、その層に限らず、その層の上に数レイヤーを重ねてもシート抵抗が低下する。したがって、シート抵抗を測定することにより、内部の少なくとも１層の表面がシリサイド化されたか否かの判断が可能となる。
【００５６】
レンズ、カバーガラスなどの光学物品の表面抵抗を低減することにより幾つかの効果が得られる。典型的な効果は、帯電防止、および電磁遮蔽である。眼鏡用のレンズにおいて帯電防止性の有無の目安は、シート抵抗が１×１０12[Ω／□]以下であると考えられている。以下のごみの付着試験では、サンプルＲ１、Ｒ２およびＲ３（シート抵抗が５×１０13[Ω／□]および２×１０13[Ω／□]）ではごみの付着が確認され、他のサンプルではごみの付着は確認されなかった。さらに、使用上の安全性などを考慮すると、上記の測定方法で測定されたシート抵抗が１×１０11[Ω／□]以下であることがいっそう好ましい。サンプルＳ１〜Ｓ８は、上記の測定方法で測定されたシート抵抗が１×１０11[Ω／□]以下、さらに、１×１０10[Ω／□]以下であり、非常に優れた帯電防止性を備えていることが分かる。
【００５７】
３．２ ごみの付着試験
プラスチックレンズの表面上で、眼鏡レンズ用拭き布を１ｋｇの垂直荷重にて１０往復こすりつけ、このときに発生した静電気によるごみの付着の有無を調べた。ここで、ごみとしては、発泡スチロールを約５ｍｍの大きさに砕いたものを使用した。判断基準は以下の通りである。
○：ごみの付着が認められなかった。
△：ごみが数個付着していることが認められた。
×：数多くのごみが付着していることが認められた。
【００５８】
ごみの付着がない場合は帯電防止効果に優れ、ごみの付着がある場合は帯電防止効果が劣っていると考えられる。図４に示すように、シリサイド化を施したサンプルＳ１〜Ｓ８の評価はすべて○であり、帯電防止効果に優れていることがわかった。また、ＩＴＯ層を形成した幾つかのサンプルＲ５〜Ｒ８は○であり、ある程度の帯電防止効果を示している。しかしながら、ＩＴＯ層を形成したサンプルＲ４は△であり、ＩＴＯ層を形成したサンプルＲ３および何も導電的な膜を形成していないサンプルＲ１およびＲ２はいずれも×であり、帯電防止効果が劣っていることがわかった。
【００５９】
３．３ 吸収損失
光の吸収損失を測定した。光の吸収損失は、表面が湾曲していたりすると測定が難しい。このため、上記のサンプルＳ１〜Ｓ８のうち、ガラスサンプルＳ２、Ｓ４、Ｓ６およびＳ８について吸収損失を測定し、ガラスサンプルＲ２の吸収損失と比較した。
【００６０】
光の吸収損失は、分光光度計を用いて反射率と透過率を測定し、（Ａ）式にて吸収率を算出した。測定には、日立製分光光度計Ｕ−４１００を使用した。
吸収率（吸収損失）＝１００％−透過率−反射率 ・・・・（Ａ）
以下、吸収率は波長５５０ｎｍ付近の吸収率を記している。
【００６１】
シリサイド化することにより若干吸収損失が上昇する傾向がみられる。しかしながら、最大でも３％程度であり、十分に透光性は高く、反射防止層３の透光性に大きな影響を与えるほど光吸収損失は増加していない。したがって、シリサイド化した層を含む層構造Ａ１の反射防止層３は眼鏡用のレンズとして十分に使用できる。また、帯電防止を考慮するのであれば、吸収損失が０．５％のサンプルＳ８程度で十分にシート抵抗が小さい。したがって、シリサイド化することにより、従来とほぼ同等の吸収損失で、透光性であり（透明であり）、帯電防止性能の優れた光学物品を提供できることが分かる。
【００６２】
３．４ 耐薬品性
各サンプルの表面に傷をつけ、その後、薬液浸漬を行い、反射防止膜の剥がれの有無を観察して耐薬品性を評価した。
【００６３】
（１）擦傷工程
図６（Ａ）に示す容器（ドラム）７１の内壁に図６（Ｂ）に示すように評価用のサンプル１０を４つ貼り付け、擦傷用として不織布７３とオガクズ７４を入れる。そして、蓋をした後、図７に示すようにドラム７１を３０ｒｐｍで３０分間回転させる。
【００６４】
（２）薬液浸漬工程
人の汗を模した薬液（純水に乳酸を５０ｇ／Ｌ、塩を１００ｇ／Ｌ溶解した溶液）を用意した。（１）の擦傷工程を経たサンプル１０を、５０°Ｃに保持した薬液に１００時間浸漬した。
【００６５】
（３）評価
上記の工程を経たサンプル１０を従来のサンプルであるサンプルＲ１およびＲ２を基準に目視により評価した。判断基準は以下の通りである。
○：基準のサンプルと比較し、傷がほとんど見えず、同等の透明性がある。
△：基準のサンプルに対して傷が見え、透明性が劣る。
×：基準のサンプルに対して層の剥離および多数の傷が見え、透明性が著しく低下した。
【００６６】
図４に示す様にシリサイド化を施したサンプルＳ１〜Ｓ８の評価はすべて○であり、日常的に用いられる環境において、優れた耐薬品性を示した。一方、ＩＴＯ層を成膜したサンプルＲ３〜Ｒ８の評価はすべて×であり、ＩＴＯ層を成膜することによりサンプルの耐薬品性が低下していることが分かる。
【００６７】
３．５ むくみの発生（耐湿性）の評価
（１）恒温恒湿度環境試験
作製した各サンプルを恒温恒湿度環境（６０°Ｃ、９８％ＲＨ）で８日間放置した。
【００６８】
（２）むくみの判定方法
上記の恒温恒湿度環境試験を経た各サンプルの表面または裏面の表面反射光を観察し、むくみの有無を判断した。具体的には、図８に示すように、サンプル１０の凸面１０Ａにおける蛍光灯７５の反射光を観察した。図９（Ａ）に示すように、蛍光灯７５の反射光７６の像の輪郭がくっきりと明瞭に観察できる場合は「むくみ無し」と判定した。一方、図９（Ｂ）に示すように、蛍光灯７５の反射光７７の像の輪郭がぼやけている、またはかすれて観察できるときは「むくみ有り」と判定した。
【００６９】
（３）評価
図４に示す様にシリサイド化を施したサンプルＳ１〜Ｓ８についてはむくみの発生は観測されず、すぐれた耐湿性を示した。一方、ＩＴＯ層を成膜したサンプルＲ３〜Ｒ８については、ＩＴＯ層の膜厚が厚くなるとむくみの発生がみられ、ＩＴＯ層を成膜することによりサンプルの耐湿性が低下する可能性があることを示している。
【００７０】
３．６ 総合評価
以上の各評価より、反射防止層３の１つの層の表面をシリサイド化したサンプルＳ１〜Ｓ８については、シート抵抗が大幅に低下し、その一方で、耐薬品性および耐湿性の劣化はなく、帯電防止などの特性を持ち、さらに、耐久性の良い光学物品であることがわかった。シリサイド化することにより、若干の吸収損失の増加が観測される。しかしながら、帯電防止および電磁波遮断などの他の目的に応じた適切な導電性が得られる程度にシリサイド化を施すことにより、吸収損失の影響は光学物品としてほとんど無視できる程度のものを提供できる。このため、ある層の表面をシリサイド化することにより、良好な透光性と、さらに、優れた帯電防止性能および電磁波遮断性能とを備えた光学物品を提供できる。
【００７１】
図１０（Ａ）および（Ｂ）に、ＴｉＯ2層の表面にＳｉを、イオンアシスト蒸着し、ＴｉＯ2層の表面をシリサイド化する様子を模式的に示している。図１０（Ａ）に示すように、ＴｉＯ2層の表面にＳｉを適当なエネルギーのイオンアシスト蒸着することにより、図１０（Ｂ）に示すように、ＴｉＯ2層の表面だけではなく、ＴｉＯ2層の表面から若干、たとえば、１ｎｍ前後程度あるいはそれ以上の部分にＳｉ原子が注入（添加）されＴｉＯ2とミキシングされる。すなわち、ＴｉＯ2層にＳｉ原子が叩き込まれ（打ち込まれ）、下地の材料であるＴｉＯ2と化学反応を起こし、表面の近傍が改質される。その結果、ＴｉＯ2層のＴｉ原子とＳｉ原子とが反応し金属間化合物であるＴｉＳｉ、ＴｉＳｉ2などのチタンシリサイドが形成されると考えられる。チタンシリサイド（たとえば、ＴｉＳｉ2）の抵抗率は１５〜２０μΩ・ｃｍ（シート抵抗（２０ｎｍ）は１２〜１８[Ω／□]）と低く、ＨＦ以外には溶けにくいという耐薬品性も高い。さらに、酸化膜（ＳｉＯ2）や、ＴｉＯ2層との密着性も確保できている。
【００７２】
したがって、ＴｉＯ2層の表面の領域の全体に、あるいは部分的に、または、チタンシリサイドの酸化物という状態であっても、チタンシリサイドが存在することにより反射防止層３の抵抗値を低減でき、導電性を向上できると考えられる。このため、シリサイド化する層は、７層構造の６層目に限定されることはなく、いずれかの層でよく、さらに、複数の層の表面をシリサイド化してもよい。
【００７３】
チタンシリサイドに限らず、遷移金属ケイ素化物は一般に低抵抗であり、シリコンあるいは含有シリコン化合物が多く用いられる反射防止層との親和性もよい。したがって、ＴｉＯ2層に限らずに、他の金属酸化物の層にＳｉ原子をイオンアシスト蒸着あるいは他の方法、たとえば、通常の真空蒸着、イオンプレーティング、スパッタリング等を用いて導入・混合し、シリサイド化することは有効である。また、ＳｉＯ2層の表面にＴｉ原子などの遷移金属原子をイオンアシスト蒸着などの方法により導入・混合して表面をシリサイド化してもよい。さらに、ＴｉＳｉ2などのシリサイド自身を蒸着などの方法により層の表面に導入・混合して表面をシリサイド化することも可能である。
【００７４】
シリサイドの他の例としては、ＺｒＳｉ、ＣｏＳｉ、ＷＳｉ、ＭｏＳｉ、ＮｉＳｉ、ＴａＳｉ、ＮｄＳｉ、Ｔｉ3Ｓｉ、Ｔｉ5Ｓｉ3、Ｔｉ5Ｓｉ4、ＴｉＳｉ、ＴｉＳｉ2、Ｚｒ3Ｓｉ、Ｚｒ2Ｓｉ、Ｚｒ5Ｓｉ3、Ｚｒ3Ｓｉ2、Ｚｒ5Ｓｉ4、Ｚｒ6Ｓｉ5、ＺｒＳｉ2、Ｈｆ2Ｓｉ、Ｈｆ5Ｓｉ3、Ｈｆ3Ｓｉ2、Ｈｆ4Ｓｉ3、Ｈｆ5Ｓｉ4、ＨｆＳｉ、ＨｆＳｉ2、Ｖ3Ｓｉ、Ｖ5Ｓｉ3、Ｖ5Ｓｉ4、ＶＳｉ2、Ｎｂ4Ｓｉ、Ｎｂ3Ｓｉ、Ｎｂ5Ｓｉ3、ＮｂＳｉ2、Ｔａ４．5Ｓｉ、Ｔａ4Ｓｉ、Ｔａ3Ｓｉ、Ｔａ2Ｓｉ、Ｔａ5Ｓｉ3、ＴａＳｉ2、Ｃｒ3Ｓｉ、Ｃｒ2Ｓｉ、Ｃｒ5Ｓｉ3、Ｃｒ3Ｓｉ2、ＣｒＳｉ、ＣｒＳｉ2、Ｍｏ3Ｓｉ、Ｍｏ5Ｓｉ3、Ｍｏ3Ｓｉ2、ＭｏＳｉ2、Ｗ3Ｓｉ、Ｗ5Ｓｉ3、Ｗ3Ｓｉ2、ＷＳｉ2、Ｍｎ6Ｓｉ、Ｍｎ3Ｓｉ、Ｍｎ5Ｓｉ2、Ｍｎ5Ｓｉ3、ＭｎＳｉ、Ｍｎ11Ｓｉ19、Ｍｎ4Ｓｉ7、ＭｎＳｉ2、Ｔｃ4Ｓｉ、Ｔｃ3Ｓｉ、Ｔｃ5Ｓｉ3、ＴｃＳｉ、ＴｃＳｉ2、Ｒｅ3Ｓｉ、Ｒｅ5Ｓｉ3、ＲｅＳｉ、ＲｅＳｉ2、Ｆｅ3Ｓｉ、Ｆｅ5Ｓｉ3、ＦｅＳｉ、ＦｅＳｉ2、Ｒｕ2Ｓｉ、ＲｕＳｉ、Ｒｕ2Ｓｉ3、ＯｓＳｉ、Ｏｓ2Ｓｉ3、ＯｓＳｉ2、ＯｓＳｉ1.8、ＯｓＳｉ3、Ｃｏ3Ｓｉ、Ｃｏ2Ｓｉ、ＣｏＳｉ2、Ｒｈ2Ｓｉ、Ｒｈ5Ｓｉ3、Ｒｈ3Ｓｉ2、ＲｈＳｉ、Ｒｈ4Ｓｉ5、Ｒｈ3Ｓｉ4、ＲｈＳｉ2、Ｉｒ3Ｓｉ、Ｉｒ2Ｓｉ、Ｉｒ3Ｓｉ2、ＩｒＳｉ、Ｉｒ2Ｓｉ3、ＩｒＳｉ1.75、ＩｒＳｉ2、ＩｒＳｉ3、Ｎｉ3Ｓｉ、Ｎｉ5Ｓｉ2、Ｎｉ2Ｓｉ、Ｎｉ3Ｓｉ2、ＮｉＳｉ2、Ｐｄ5Ｓｉ、Ｐｄ9Ｓｉ2、Ｐｄ4Ｓｉ、Ｐｄ3Ｓｉ、Ｐｄ9Ｓｉ4、Ｐｄ2Ｓｉ、ＰｄＳｉ、Ｐｔ4Ｓｉ、Ｐｔ3Ｓｉ、Ｐｔ5Ｓｉ2、Ｐｔ12Ｓｉ5、Ｐｔ7Ｓｉ3、Ｐｔ2Ｓｉ、Ｐｔ6Ｓｉ5、ＰｔＳｉを挙げることができる。
【００７５】
これらの中で、チタンシリサイドに加え、反射防止層の高屈折率層として使用されることが多い、ジルコニウム（Ｚｒ）系のシリサイド、タンタル（Ｔａ）系のシリサイド、ネオジム（Ｎｄ）系のシリサイド、ニオブ（Ｎｂ）系のシリサイドなどは有用である。また、チタンシリサイドと同様に非常に抵抗率の低いシリサイド、たとえば、コバルト系、ニッケル系のシリサイドも有用である。
【００７６】
以下では、本発明に含まれる幾つかの異なる実施例を説明する。
【００７７】
４． 他のサンプル（タイプＢ）
４．１ 実施例９（サンプルＳ９）
４．１．１ サンプルＳ９の製造
上記の実施例１と同様にレンズ基材１を選択し、ハードコート層２を成膜した（２．１．１参照）。さらに、実施例１と同様の蒸着装置１００を用いて同様の工程で反射防止層３を成膜した（２．１．２参照）。ただし、実施例９のサンプルレンズＳ９には、図１１に示すように、二酸化ケイ素（ＳｉＯ2）層を低屈折率層３１として形成し、酸化ジルコニウム（ＺｒＯ2）層を高屈折率層３２として形成した。図１１に示すように、第１層、第３層および第５層が低屈折率層３１であり、イオンアシストは行わず、真空蒸着によりＳｉＯ2層を成膜した。成膜レートは２．０ｎｍ／ｓｅｃとした。第２層および第４層が高屈折率層３２であり、タブレット状のＺｒＯ2焼結体材料を電子ビームで加熱蒸発させＺｒＯ2層として成膜した。成膜レートは０．８ｎｍ／ｓｅｃとした。第１〜第５層の膜厚は、１５０ｎｍ、３０ｎｍ、２１ｎｍ、５５ｎｍ、８５ｎｍに管理した。この５層からなる層構造、すなわち、第１層、第３層および第５層がＳｉＯ2層、第２層および第４層がＺｒＯ2層の層構造をタイプＢの層構造と呼ぶことにする。反射防止層３を形成した後、実施例１と同様に防汚層４を成膜した（２．１．４参照）。
【００７８】
４．１．２ シリサイド化
第４層（ＺｒＯ2層）を成膜後、第５層（ＳｉＯ2層）を成膜する前に、Ｓｉ（金属シリコン）を、アルゴンイオンを用いてイオンアシスト蒸着して添加し、表面３３を改質した。この処理により、第４層（ＺｒＯ2層）３２の表面３３がシリサイド化されたと考えられる。イオンアシスト蒸着の条件はイオン種がアルゴン、イオンアシスト電圧は１０００ｅＶ、電流は１５０ｍＡであり、イオンアシスト蒸着の時間（処理時間）は１０秒である。この５層構造でシリサイド化を施したタイプの層構造をタイプＢ１と呼ぶことにする。
【００７９】
４．２ 実施例１０（サンプルＳ１０）
実施例２と同様にレンズ以外の光学物品の実施例として、光学基材１としてカバーガラスを用い、その表面に反射防止層３が形成されたサンプルＳ１０を製造した。このサンプルＳ１０では、光学基材１は、透明な白板ガラス（Ｂ２７０）である。この光学基材１の上に、ハードコート層を成膜せず、直に反射防止層３を成膜した。成膜方法は、上記の４．１と同じである。さらに、上記の４．１．２と同様にシリサイド化した。したがって、このサンプルＳ１０は、タイプＢ１の反射防止層３を備えている。また、反射防止層３の上に、防汚層４を形成した。
【００８０】
４．３ 実施例１１〜１６（サンプルＳ１１〜Ｓ１６）
レンズサンプルＳ９と、カバーガラスのサンプル（ガラスサンプル）Ｓ１０とについて、４．１．２のシリサイド化の条件を変えた幾つかのサンプルＳ１１〜Ｓ１６を製造した。レンズサンプルＳ１１およびガラスサンプルＳ１２は、イオンアシストを実施しないで第４層（ＺｒＯ2層）の表面に厚さ１ｎｍ程度に達するＴｉＯ2層（或いはＴｉＯx層）を作成して下地処理した。その後、シリコンＳｉをイオンアシスト蒸着して添加した。この処理により、第４層（ＺｒＯ2層）３２の表面３３をシリサイドに改質できたと考えられる。シリサイド化のイオンアシスト蒸着の条件をイオン種がアルゴン、イオンアシスト電圧は５００ｅＶ、電流は１５０ｍＡ、処理時間（イオンアシスト蒸着の時間）を１０秒とした。
【００８１】
レンズサンプルＳ１３およびガラスサンプルＳ１４も、イオンアシストを実施しないで第４層（ＺｒＯ2層）の表面に厚さ１ｎｍ程度のＴｉＯ2層で下地処理し、シリコンＳｉをイオンアシスト蒸着してシリサイド化した。シリサイド化のイオンアシスト蒸着の条件をイオン種がアルゴンと酸素の１対１、イオンアシスト電圧は２５０ｅＶ、電流は１５０ｍＡ、処理時間を１０秒とした。
【００８２】
さらに、レンズサンプルＳ１５と、ガラスサンプルＳ１６については、蒸着源としてＴｉＳｉを採用し、ＴｉＳｉを第４層（ＺｒＯ2層）の表面にイオンアシストを用いずに蒸着し、第４層（ＺｒＯ2層）の表面をチタンシリサイドに改質した。
【００８３】
４．４ 比較例９〜１１（サンプルＲ９〜Ｒ１１）
上記の実施例により得られたレンズサンプルおよびガラスサンプルと比較するために、実施例１０と同様にガラスサンプルＲ９を製造した。ただし、シリサイド化（４．１．２に相当）は行わなかった。すなわち、比較例９により製造されたガラスサンプルＲ９は、ガラス基材１と、シリサイド化された層を含まないタイプＢの反射防止層３とを含む。
【００８４】
比較例１０においては、上記の実施例９と同様にレンズサンプルＲ１０を製造した。ただし、シリサイド化（４．１．２）は行わず、金属Ｓｉを、イオンアシストを用いずに３ｎｍだけ蒸着した。すなわち、第４層（ＺｒＯ2層）を成膜後、第５層（ＳｉＯ2層）を成膜する前に、金属シリコンを真空蒸着により成膜し、アモルファスシリコンの層を形成した。したがって、アモルファスシリコン層を含むと反射防止層３は６層構造になる。この６層構造で、アモルファスシリコン層を含むタイプの層構造をタイプＢ２と呼ぶことにする。したがって、比較例１０により製造されたレンズサンプルＲ１０は、プラスチックレンズ基材１と、ハードコート層２と、アモルファスシリコン層を含むタイプＢ２の反射防止層３と、防汚層４とを含む。
【００８５】
比較例１１においては、上記の実施例９と同様にレンズサンプルＲ１１を製造した。ただし、シリサイド化（４．１．２）は行わず、比較例３〜８と同様にＩＴＯ層を形成した。すなわち、第４層（ＺｒＯ2層）を成膜後、第５層（ＳｉＯ2層）を成膜する前に、ＩＴＯをイオンアシスト真空蒸着により３ｎｍ成膜し、ＩＴＯ層を形成した。したがって、ＩＴＯ層を含むと反射防止層３は６層構造になる。この６層構造で、ＩＴＯ層を含むタイプの層構造をタイプＢ３と呼ぶことにする。したがって、比較例１１により製造されたレンズサンプルＲ１１は、プラスチックレンズ基材１と、ハードコート層２と、ＩＴＯ層を含むタイプＢ３の反射防止層３と、防汚層４とを含む。
【００８６】
これらの層構造を図１２に纏めて示している。なお、酸化ジルコニウム（ＺｒＯ2）からなる高屈折率層の波長５５０ｎｍにおける屈折率ｎは２．０５、アモルファスシリコン（金属Ｓｉ）の波長５５０ｎｍにおける屈折率ｎは１．８〜２．０である。
【００８７】
４．５ サンプルの評価
上記３．と同様に、サンプルＳ９〜Ｓ１６およびＲ９〜Ｒ１１について、シート抵抗、ごみの付着試験、吸収損失、耐薬品性（剥がれの発生の有無）、耐湿性（むくみの発生の有無）について評価した。それらの評価結果を図１３にまとめて示している。
【００８８】
シート抵抗については、サンプルＲ９の測定結果が示すように、従来のガラスサンプルではシート抵抗は５×１０14[Ω／□]である。これに対し、反射防止層３の１つの層の表面をシリサイド化したサンプルＳ９〜Ｓ１６においては、シート抵抗が２×１０9[Ω／□]〜８×１０11[Ω／□]となり、シート抵抗が従来のサンプルに比較し、３桁〜５桁（１０3〜１０5）程度小さくなる。すなわち、シート抵抗が１／１０3〜１／１０5になり、導電率が向上している。したがって、シリサイド化することにより大幅にシート抵抗が低下し、導電率が上昇することが分かる。一方、反射防止層３にアモルファスシリコン層あるいはＩＴＯ層を含めたレンズサンプルＲ１０、Ｒ１１では、シート抵抗は２×１０12[Ω／□]〜９×１０12[Ω／□]であり、良好な帯電防止性能が得られるというほど低下していない。
【００８９】
また、これらの結果より、シリサイド化の処理を施したサンプルＳ９〜Ｓ１６においては、シート抵抗が大幅に低下していることが分かり、実際に、ＺｒＯ2層の表面がシリサイド化された面あるいは領域３３に改質されていることが分かる。すなわち、ＺｒＯ2層においてもＳｉ原子をたたき込むことにより、下地層のＺｒとＳｉとが化学反応し、ジルコニアシリサイド（Ｚｒ3Ｓｉ、Ｚｒ2Ｓｉ、Ｚｒ5Ｓｉ3、Ｚｒ3Ｓｉ2、Ｚｒ5Ｓｉ4、Ｚｒ6Ｓｉ5、ＺｒＳｉ2）が形成されていると考えられる。また、Ｚｒ系に限らず、チタンシリサイドを蒸着させることにより、ＺｒＯ2層の表面をシリサイド（可能性としてはＴｉＳｉ系）に改質できることが分かった。
【００９０】
シリサイド化の効果は、特に比較例１０と比較すると分かりやすい。比較例１０のサンプルＲ１０では、シリコンを蒸着しているがシート抵抗はそれほど低下していない。したがって、ある層の表面をシリサイド化することはシート抵抗を低減するために有用であり、逆に、シリサイド化されたか否かは、シート抵抗を測定することにより判断できることが分かる。
【００９１】
また、これらのサンプルＳ９〜Ｓ１６は上述した測定方法で測定されたシート抵抗が１×１０12[Ω／□]以下であり、ごみの付着試験もすべて○であり、良好な帯電防止性を備えていることがわかった。しかしながら、導電層を形成しないサンプルＲ９およびアモルファスシリコン層を備えたサンプルＲ１０は×であり帯電防止性が劣っていることがわかった。また、ＩＴＯ層を備えたサンプルＲ１１は、△であった。
【００９２】
光の吸収損失については、タイプＡ１の層構造を備えたサンプルと同様に、シリサイド化することにより若干吸収損失が上昇する傾向がみられる。しかしながら、最大でも１．２％程度であり、眼鏡用のレンズとしての許容範囲である透光性を備えている。また、帯電防止を考慮するのであれば、吸収損失が０．４％または０．５％のサンプルＳ１４またはＳ１６により、シート抵抗が３×１０10[Ω／□]以下までシート抵抗を小さくできる。したがって、シリサイド化することにより、従来とほぼ同等の吸収損失で、透光性および帯電防止性能の優れた光学物品を提供できることが分かる。
【００９３】
耐薬品性については、シリサイド化を施したサンプルＳ９〜Ｓ１６の評価はすべて○であり、日常的に用いられる環境において、優れた耐薬品性を示した。一方、ＩＴＯ層を成膜したサンプルＲ１１の評価は×であった。
【００９４】
シリサイド化を施したサンプルＳ９〜Ｓ１６も含め、すべてのサンプルについてむくみの発生は観測されず、すぐれた耐湿性を示した。
【００９５】
以上の各評価より、反射防止層３の１つの層の表面をシリサイド化したサンプルＳ９〜Ｓ１６については、先に説明したサンプルＳ１〜Ｓ８と同様に、シート抵抗が大幅に低下し、その一方で、耐薬品性および耐湿性の劣化はなく、帯電防止などの特性を持ち、さらに、耐久性の良い光学物品であることがわかった。したがって、チタンシリサイドに限らず、ジルコニウムシリサイドなどにより表面をシリサイド化することにより、優れた帯電防止性能および電磁波遮断性能を備えた光学物品を提供できることが分かった。
【００９６】
５． 他のサンプル（タイプＣ）
５．１ 実施例１７（サンプルＳ１７）
５．１．１ サンプルＳ１７の製造
図１４に示すように有機系反射防止層３５を備えたレンズサンプルＳ１７を製造した。まず、上記の実施例１と同様にレンズ基材１を選択し、ハードコート層２を成膜した（２．１．１参照）。このハードコート層２の表面に有機系の層３５により反射防止層３を形成した。
【００９７】
化学式 （ＣＨ3Ｏ）3Ｓｉ−Ｃ2Ｈ4−Ｃ6Ｆ12−Ｃ2Ｈ4−Ｓｉ（ＯＣＨ3）3で表されるフッ素含有シラン化合物４７．８重量部（０．０８モル）に、有機溶剤としてメタノール３１２．４重量部、フッ素を含有しないシラン化合物であるγ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン４．７重量部（０．０２モル）加え、さらに０．１規定の塩酸水溶液３６重量部を加えて混合した。その後、設定温度が２５°Ｃの恒温槽内で２時間攪拌して、固形分比率が１０重量％のシリコーンレジンを得た。
【００９８】
このシリコーンレジンに、内部に空洞を有するシリカ微粒子として、中空シリカ−イソプロパノール分散ゾル（触媒化成工業（株）製、固形分比率：２０重量％、平均粒子径：３５ｎｍ、外殻厚み：８ｎｍ）を、シリコーンレジンと中空シリカの固形分比率が７０：３０となるように配合した。さらに、分散媒として、プロピレングリコールモノメチルエーテル９３５重量部を加えて希釈し、固形分が３重量％の組成物を得た。
【００９９】
そして、この組成物に、アルミニウム（Ａｌ（III））を中心金属とする金属錯塩として、アルミニウムのアセチルアセトン（Ａｌ（ａｃａｃ）3）を、最終組成物（有機系反射防止層を形成するコーティング組成物）に対する固形分比率が３重量％となるように加えた後、４時間攪拌した。これにより、有機系反射防止層を形成するコーティング組成物としての反射防止処理液を得た。
【０１００】
ハードコート層２が形成されたレンズサンプル１０を、大気プラズマによりプラズマ処理した。その後、上記で得られた反射防止処理液を、ハードコート層２の表面に、乾燥膜厚が１００ｎｍとなるように、スピナー法を用いて塗布した。そして、温度１２５°Ｃに保たれた恒温槽内に２時間投入して、塗布された反射防止処理液の硬化を行った。これにより、ハードコート層２の上に有機系反射防止層３５を形成した。さらに、反射防止層３５を形成した後、実施例１と同様に防汚層４を成膜した（２．１．３参照）。このようにして、プラスチック基材１、ハードコート層２、有機系の反射防止層３５、防汚層４を含むレンズサンプルＳ１７を得た。
【０１０１】
５．１．２ シリサイド化
反射防止層３５を成膜後、防汚層４を成膜する前に、反射防止層３５の表面３６に、イオンアシストの実施をせず厚さ２ｎｍ程度のＴｉＯx層（或いはＴｉＯ2層）を作る下地処理を行い、Ｓｉ原子をイオンアシスト蒸着により添加した。この処理により有機系の反射防止層３５の表面をシリサイドに改質した。イオンアシスト蒸着の条件はイオン種がアルゴン、イオンアシスト電圧は１０００ｅＶ、電流は１５０ｍＡであり、処理時間（イオンアシスト蒸着時間）は１０秒である。
【０１０２】
５．２ サンプルの評価
上記３．と同様に、サンプルＳ１７について、シート抵抗、吸収損失、耐薬品性（剥がれの発生の有無）、耐湿性（むくみの発生の有無）について評価した。シート抵抗は、１×１０10[Ω／□]であり、優れた帯電防止性能が得られた。波長５５０ｎｍ付近の光の吸収損失は０．５％程度であり、眼鏡レンズとして問題のない値であり、十分な透光性を備えている。また、耐薬品性は○であり、日常的に用いられる環境において、優れた耐薬品性を示した。むくみの発生は観測されず、すぐれた耐湿性を示した。
【０１０３】
以上の各評価より、有機系の反射防止層３５においても、表面をシリサイド化することによりシート抵抗を低下できる。その一方で、耐薬品性および耐湿性の劣化はなく、帯電防止などの特性を持ち、さらに、耐久性の良い光学物品であることがわかった。したがって、無機系の層に限らず、有機系の層においても、表面をシリサイド化することにより、優れた帯電防止性能および電磁波遮断性能を備えた光学物品を提供できることが分かった。
【０１０４】
６． まとめ
図１５に、上記のサンプルＳ１〜Ｓ１６およびＲ３〜Ｒ８において測定されたシート抵抗をシリサイド化のためにシリコンを添加する処理時間と、ＩＴＯ層を成膜するための処理時間（ＩＴＯの蒸着時間）の関係を示している。
【０１０５】
この図からわかるように、反射防止層３を形成する酸化物層の表面をシリサイド化することにより簡単にシート抵抗を下げることができる。したがって、帯電防止性能を得るなどの目的で、耐薬品性および耐湿性の劣化の要因になるＩＴＯ層を形成する必要はない。さらに、表面の限られた領域をシリサイド化するだけで良いので、反射防止層を形成するための多層膜の膜設計を変える必要もない。また、金属酸化膜（層）の表面は、上記のようにシリコンを、イオンアシストを用いて蒸着することによりシリサイト化できる。したがって、従来の反射防止層の構成、材料および蒸着プロセスをほとんど変えずに、表面抵抗が低く、導電性の高いレンズなどの光学物品を提供できる。
【０１０６】
なお、シリサイト化する方法は、シリコンのイオンアシスト蒸着に限らず、スパッタなどの他のある程度のエネルギーを供給できる方法、シリサイド自体を蒸着する方法などであってもよいことは上述した通りである。
【０１０７】
図１６に、上記のガラスサンプルＳ２、Ｓ４、Ｓ６、Ｓ８、Ｓ１０、Ｓ１２、Ｓ１４およびＳ１６、Ｒ２およびＲ９の光吸収損失とシート抵抗とを示している。この図からわかるように、シリサイド化し、シート抵抗が下がると、光吸収損失は微小ながら増大する傾向がある。特に、上記の測定方法により測定されたシート抵抗が１×１０9〜１×１０10[Ω／□]近傍より低下すると、光吸収損失の増加傾向が増す。また、ごみの付着現象はシート抵抗が５×１０12[Ω／□]以下になると改善することが分かっている。したがって、光吸収損失が大きく性能に影響を及ぼす光学物品においては、シリサイト化によりシート抵抗が１×１０9〜５×１０12[Ω／□]である光学物品が好ましい。さらに、シリサイト化によりシート抵抗が１×１０10〜１×１０12[Ω／□]である光学物品がいっそう好ましい。
【０１０８】
なお、上記の実施例で示した反射防止層の層構造は幾つかの例にすぎず、本発明がそれらの層構造に限定されることはない。たとえば、３層以下、あるいは９層以上の反射防止層に適用することも可能であり、シリサイド化する層は１つの層に限定されない。また、高屈折率層と低屈折率層の組み合わせは、ＴｉＯ2／ＳｉＯ2、ＺｒＯ2／ＳｉＯ2に限定されることはなく、Ｔａ2Ｏ5／ＳｉＯ2、ＮｄＯ2／ＳｉＯ2、ＨｆＯ2／ＳｉＯ2、Ａｌ2Ｏ3／ＳｉＯ2などの系のいずれかの層の表面をシリサイド化することが可能である。
【０１０９】
図１７に、上記のシリサイド化された層を含む眼鏡レンズ１０と、眼鏡レンズ１０が装着されたフレーム２０１とを含む眼鏡２００を示している。また、図１８に、上記のシリサイド化された層を含むレンズ２１１と、シリサイド化された層を含むカバーガラス２１２と、投射レンズ２１１およびカバーガラス２１２とを通して投影する光を生成する画像形成装置、たとえばＬＣＤ２１３とを備えたプロジェクター２１０を示している。また、図１９に、上記のシリサイド化された層を含む撮像レンズ２２１と、シリサイド化された層を含むカバーガラス２２２と、撮像レンズ２２１およびカバーガラス２２２を通して画像を取得するための撮像装置、たとえばＣＣＤ２２３とを備えたデジタルカメラ２２０を示している。また、図２０に、上記のシリサイド化された透過層２３１と、光学的な方法により記録を読み書きできる記録層２３２とを備えた記録媒体、たとえばＤＶＤ２３０を示している。
【０１１０】
本発明の光学物品は、これらのシステムの光学物品、たとえば、レンズ、ガラス、プリズム、カバー層などとして多種多様な用途を備えている。また、上記に示したシステムは例示にすぎず、当業者が本発明を利用しうる光学物品およびシステムは、本発明に含まれるものである。
【符号の説明】
【０１１１】
１ レンズ基材、 ２ ハードコート層、 ３ 反射防止層、 ４ 防汚層、 １０ レンズサンプル
【特許請求の範囲】
【請求項１】
光学基材の上に、直にまたは他の層を介して透光性の第１の層を形成することと、
前記第１の層の表面を低抵抗化することとを有する、光学物品の製造方法。
【請求項２】
請求項１において、前記低抵抗化することは、前記第１の層の表面をシリサイド化することを含む、光学物品の製造方法。
【請求項３】
請求項２において、前記第１の層は金属酸化物を含む層であり、
前記シリサイド化することは、前記第１の層の表面にシリコンを添加して改質することを含む、光学物品の製造方法。
【請求項４】
請求項３において、前記第１の層は多層構造の反射防止層に含まれる１つの層であることを含む、光学物品の製造方法。
【請求項５】
請求項２において、前記シリサイド化することは、前記第１の層の表面にシリコンおよび金属を添加して改質することを含む、光学物品の製造方法。
【請求項６】
請求項２において、前記シリサイド化することは、前記第１の層の表面に遷移金属ケイ素化物を添加して改質することを含む、光学物品の製造方法。
【請求項７】
請求項５または６において、前記第１の層は、無機系または有機系の反射防止層である、光学物品の製造方法。
【請求項８】
請求項４または７において、前記第１の層の上に、直にまたは他の層を介して防汚層を形成することをさらに有する光学物品の製造方法。
【請求項９】
光学基材と、
前記光学基材の上に、直にまたは他の層を介して形成された透光性の第１の層とを有し、前記第１の層の表面がシリサイド化されている、光学物品。
【請求項１０】
請求項９において、多層構造の反射防止層を有し、
前記第１の層は前記多層構造の反射防止層に含まれる層である、光学物品。
【請求項１１】
請求項９において、前記第１の層は、無機系または有機系の反射防止層である、光学物品。
【請求項１２】
請求項１０または１１において、前記第１の層の上に、直にまたは他の層を介して形成された防汚層をさらに有する光学物品。
【請求項１３】
請求項９ないし１２のいずれかにおいて、前記光学基材は、プラスチックレンズ基材である、光学物品。
【請求項１４】
請求項１３において、当該光学物品は眼鏡レンズである、光学物品。
【請求項１５】
請求項１４に記載の眼鏡レンズと、
前記眼鏡レンズが装着されたフレームとを有する眼鏡。
【請求項１６】
請求項９ないし１２のいずれかに記載の光学物品と、
前記光学物品を通して画像を投影させるための画像形成装置とを有するシステム。
【請求項１７】
請求項９ないし１２のいずれかに記載の光学物品と、
前記光学物品を通して画像を取得するための撮像装置とを有するシステム。
【請求項１８】
請求項９ないし１２のいずれかに記載の光学物品と、
前記光学物品を通してアクセスする媒体とを有するシステム。
【請求項１】
光学基材の上に、直にまたは他の層を介して透光性の第１の層を形成することと、
前記第１の層の表面を低抵抗化することとを有する、光学物品の製造方法。
【請求項２】
請求項１において、前記低抵抗化することは、前記第１の層の表面をシリサイド化することを含む、光学物品の製造方法。
【請求項３】
請求項２において、前記第１の層は金属酸化物を含む層であり、
前記シリサイド化することは、前記第１の層の表面にシリコンを添加して改質することを含む、光学物品の製造方法。
【請求項４】
請求項３において、前記第１の層は多層構造の反射防止層に含まれる１つの層であることを含む、光学物品の製造方法。
【請求項５】
請求項２において、前記シリサイド化することは、前記第１の層の表面にシリコンおよび金属を添加して改質することを含む、光学物品の製造方法。
【請求項６】
請求項２において、前記シリサイド化することは、前記第１の層の表面に遷移金属ケイ素化物を添加して改質することを含む、光学物品の製造方法。
【請求項７】
請求項５または６において、前記第１の層は、無機系または有機系の反射防止層である、光学物品の製造方法。
【請求項８】
請求項４または７において、前記第１の層の上に、直にまたは他の層を介して防汚層を形成することをさらに有する光学物品の製造方法。
【請求項９】
光学基材と、
前記光学基材の上に、直にまたは他の層を介して形成された透光性の第１の層とを有し、前記第１の層の表面がシリサイド化されている、光学物品。
【請求項１０】
請求項９において、多層構造の反射防止層を有し、
前記第１の層は前記多層構造の反射防止層に含まれる層である、光学物品。
【請求項１１】
請求項９において、前記第１の層は、無機系または有機系の反射防止層である、光学物品。
【請求項１２】
請求項１０または１１において、前記第１の層の上に、直にまたは他の層を介して形成された防汚層をさらに有する光学物品。
【請求項１３】
請求項９ないし１２のいずれかにおいて、前記光学基材は、プラスチックレンズ基材である、光学物品。
【請求項１４】
請求項１３において、当該光学物品は眼鏡レンズである、光学物品。
【請求項１５】
請求項１４に記載の眼鏡レンズと、
前記眼鏡レンズが装着されたフレームとを有する眼鏡。
【請求項１６】
請求項９ないし１２のいずれかに記載の光学物品と、
前記光学物品を通して画像を投影させるための画像形成装置とを有するシステム。
【請求項１７】
請求項９ないし１２のいずれかに記載の光学物品と、
前記光学物品を通して画像を取得するための撮像装置とを有するシステム。
【請求項１８】
請求項９ないし１２のいずれかに記載の光学物品と、
前記光学物品を通してアクセスする媒体とを有するシステム。
【図１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９】
【図１０】
【図１１】
【図１２】
【図１３】
【図１４】
【図１５】
【図１６】
【図１７】
【図１８】
【図１９】
【図２０】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９】
【図１０】
【図１１】
【図１２】
【図１３】
【図１４】
【図１５】
【図１６】
【図１７】
【図１８】
【図１９】
【図２０】
【公開番号】特開２０１０−１８６１５９（Ｐ２０１０−１８６１５９Ａ）
【公開日】平成２２年８月２６日（２０１０．８．２６）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２００９−１９７７８６（Ｐ２００９−１９７７８６）
【出願日】平成２１年８月２８日（２００９．８．２８）
【出願人】（０００００２３６９）セイコーエプソン株式会社 (51,324)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２２年８月２６日（２０１０．８．２６）
【国際特許分類】
【出願日】平成２１年８月２８日（２００９．８．２８）
【出願人】（０００００２３６９）セイコーエプソン株式会社 (51,324)
【Ｆターム（参考）】
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