【課題】フォトリソグラフィー技術に限定されることなくパターンの形成が可能であり、安価なパターン形成方法を使用できるためコストを抑制でき、また、配線パターンのサイズや形状を自由に設計できるため、製品応用への範囲が広く、大量生産が可能な、配線パターンの見えない積層体を提供すること。
【解決手段】可視光波長領域における屈折率が１．８以上、２．２以下の透明基板１と、透明基板１上の一部に形成された酸化亜鉛膜２とを備え、透明基板１の可視光領域の光の波長に対応する屈折率に対して、酸化亜鉛膜２の可視光領域の光の波長に対応する屈折率が、プラス５％およびマイナス５％の範囲内であり、透明基板１の裏面から入射されて、透明基板１のみを透過して出射される光の可視光領域における分光透過率に対して、透明基板１の裏面から入射されて、透明基板１および透明基板１の一部に形成された酸化亜鉛膜２を透過して出射される光の可視光領域における分光透過率が、プラス５％およびマイナス５％の範囲内であることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】ガスバリア性を低下させることなく透明性を高めることができる炭素含有酸化珪素膜を形成したガスバリア性フィルムを提供すること。
【解決手段】基材フィルムの少なくとも一方の面に、膜厚が５〜３００ｎｍの炭素含有酸化珪素膜が形成され、前記炭素含有酸化珪素膜の炭素原子（Ｃ）と珪素原子（Ｓｉ）の組成比（Ｃ／Ｓｉ）が０を超えて１以下の範囲であり、かつ着色度（ＹＩ）が１．０〜５．０の範囲であることを特徴とするガスバリア性フィルム （もっと読む）

【課題】 透明性、導電性及び安定した電磁波遮蔽性を有する透明導電性シートとその製造方法、加飾成形品を提供することを目的とする。
【解決手段】 本発明の透明導電性シート１００は、表面に微細な凸部４と微細な凹部５とを備え、微細な凹部の平面形状がメッシュ状である基体シートの微細な凹部の上に、金属薄膜層２が少なくとも形成されるように構成されているので、透明性と導電性を同時に兼ね備えるものである。またこの発明の透明導電性シートの金属薄膜層は、メッシュ状に形成されているので、本発明の透明導電性シートは安定した電磁波遮蔽性を有するものでもある。。 （もっと読む）

【課題】アニールなしで実用上問題ない抵抗値を実現するとともに、対エッチング性および光の透過性も良好な、透明導電膜付き基板、並びにその製造方法を提供する。
【解決手段】透明な基板１０と、基板１０上に形成された透明導電膜とを有する透明導電膜付き基板であって、前記透明導電膜は、前記基板１０面上に、第１の金属酸化物膜２０と、銀（Ａｇ）合金膜３０と、第２の金属酸化物膜４０と、が順に積層された３層を少なくとも有する。銀合金膜３０は、銅（Ｃｕ）、金（Ａｕ）、パラジウム（Ｐｄ）及び白金（Ｐｔ）のうち少なくとも１種と、ゲルマニウム（Ｇｅ）、セリウム（Ｃｅ）、ネオジウム（Ｎｄ）及びガドリニウム（Ｇｄ）のうち少なくとも１種と、を含むことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】透明タッチパネルを構成する２枚の透明電極基板間で発生するニュートンリングを防止できる透明導電性積層体、およびこのような透明導電性積層体を用いた透明タッチパネルを提供する。
【解決手段】透明有機高分子基板（１６）の少なくとも一方の面上に、凹凸表面を有する硬化樹脂層（１５）と透明導電層（１４）とが順次積層された透明導電性積層体（１４、１５、１６）であって、硬化樹脂層が、硬化樹脂成分、および硬化樹脂成分中に分散している少なくとも１種の平均一次粒子径１００ｎｍ以下の金属酸化物超微粒子Ａおよび金属フッ化物超微粒子Ｂを有し、硬化樹脂層におけるこれらの超微粒子ＡおよびＢの含有量はそれぞれ、硬化樹脂成分１００質量部あたり１質量部以上２０質量部未満であり、かつこれらの超微粒子ＡおよびＢの質量比（Ａ／Ｂ）が、０．３よりも大きいことを特徴とする、透明導電性積層体とする。またこのような透明導電性積層体（１４、１５、１６）を有する透明タッチパネル（２０）とする。 （もっと読む）

【課題】従来では不可能と考えられていた層状化合物を高次元に配向させたフィルムを提供するものであり、特に力学特性、バリア性、耐熱性、寸法安定性などに優れたフィルムを提供すること。
【解決手段】層状化合物を含む無機物が0.3〜15重量%添加され、全層数が8層以上の積層構造を有し、厚みが3〜200μmである熱可塑性樹脂延伸多層フィルムであって、X線回折法によって測定される無機層状化合物の面配向度が0.4〜1.0の範囲にある熱可塑性樹脂延伸多層フィルム。 （もっと読む）

【課題】取り扱い性に関して好ましい易滑性を有しつつ、必要な透明性又はヘーズ特性を達成する透明導電性積層体を提供する。また、このような透明導電性積層体を有する透明タッチパネルを提供する。
【解決手段】透明有機高分子基板１、透明有機高分子基板の一方の面上の透明導電層２、及び透明有機高分子基板の他方の面上の、凹凸表面を有する硬化樹脂層３を有する透明導電性積層体１０、並びにこのような透明導電性積層体を有する透明タッチパネルとする。ここで、硬化樹脂層３が、物性の差に基づいて互いに相分離する２種の重合性成分を含有するコーティング組成物から形成されることによって凹凸表面を有しており、硬化樹脂層３が、平均一次粒子径２００ｎｍ以上の無機及び／又は有機微粒子を含有しておらず、硬化樹脂層３が、平均一次粒子径２００ｎｍ未満の金属酸化物及び／又は金属フッ化物超微粒子を含有している。 （もっと読む）

【課題】ポリアミド系樹脂フィルム基材の少なくとも一方の面に、易接着層とアンカーコート層と無機酸化物の蒸着薄膜層とが順次積層されてなる複合層が少なくとも設けられてなる、ガスバリア性に優れるガスバリア性フィルムの提供。
【解決手段】ポリアミド系樹脂フィルム基材１１１の少なくとも一方の面に、易接着層１１２とアンカーコート層１１３と無機酸化物の蒸着薄膜層１１４とが順次積層されてなる複合層が少なくとも設けられていると共に、その複合層の表面の表面粗さＲｚ（十点平均粗さ）が５ｎｍ以下であり、かつ１μｍ角あたりの表面積が１０１０００ｎｍ²以下であることを特徴とする、ガスバリア性フィルム。 （もっと読む）

【課題】透明性、光沢性、加工適性に優れ、かつ製造が容易な熱収縮性ポリエステル系積層フィルムを提供すること。
【解決手段】ポリエステル系樹脂からなる基材フィルムと、該基材フィルムの少なくとも一方の面に設けられた表面層とを有する積層フィルムであり、表面層が、粒径１ｎｍ以上３００ｎｍ以下の無機粒子０．０５〜３０重量％及びアニオン系帯電防止剤を含有し、フィルムのヘイズ値が２％以下で、フィルムの少なくとも一方の面について測定角度４５°における光沢度２００％以上であり、フィルム一方の面と他方の面との動摩擦係数が１．５以下であり、フィルムを９５℃の温湯に１０秒間浸漬したときの主収縮方向の収縮率が５０%以上であり、相対湿度６５％下における表面固有抵抗が１３ｌｏｇΩ以下である熱収縮性ポリエステル系フィルム。 （もっと読む）

【課題】７層積層構造を基本形とし、高日射遮蔽性、視認性、意匠性（反射色が目立たない）に優れた透明積層フィルムを提供すること。
【解決手段】透明高分子フィルムの少なくとも一方面に、第１金属酸化物薄膜、第１金属薄膜、第２金属酸化物薄膜、第２金属薄膜、第３金属酸化物薄膜、第３金属薄膜、第４金属酸化物薄膜がこの順に積層された積層構造を有し、第１金属薄膜と第２金属薄膜との間の膜厚、および、第２金属薄膜と第３金属薄膜との間の膜厚が、５５ｎｍ〜８５ｎｍ以下の範囲内にある透明積層フィルムとする。第１金属薄膜、第２金属薄膜、および、第３金属薄膜から選択される１種または２種以上の薄膜の少なくとも一方面には、さらに金属酸化物より主に構成されるバリア薄膜が形成されていることが好ましい。 （もっと読む）