【課題】電極を備えた透明基材を提供する。
【解決手段】特にはガラス製であり、特には太陽電池用の電極を備え、厚さが多くとも５００ｎｍ、特には多くとも４００ｎｍ、多くとも３００ｎｍ、又は、多くとも２００ｎｍのモリブデンＭｏに基づいた導電層を含んで成る透明基材が提供される。好ましくは、モリブデンに基づいた層が、少なくとも２０ｎｍ、特には少なくとも５０ｎｍ、又は、少なくとも８０ｎｍの厚さで、更に好ましくは、特にアルカリ金属に対してバリヤーとして働く、少なくとも１つのバリヤー層を備え、該バリヤー層が前記基材と前記電極の間に挿入されている。 （もっと読む）

【課題】ガスバリア性や耐化学特性などの機能に優れたプラスチック系材料を、安価に大面積で提供する。
【解決手段】前処理用ガスに高周波電圧を常圧下で印加して放電プラズマを発生させ、該放電プラズマをプラスチックからなる基材４に接触させて基材表面を活性化させる前処理工程を実施した後に、雰囲気ガス６に高周波電圧を常圧下で印加して放電プラズマ７を発生させ、該放電プラズマ７を基材に接触させることにより、基材表面に、炭素原子および水素原子を主構成原子として含む非晶質炭素系素材からなる均一被膜を形成させる被膜形成工程を実施することを特徴とするプラスチック系材料の製造方法。このような製造方法によれば、基材表面に、炭素原子および水素原子を主構成原子として含む非晶質炭素系素材からなる均一被膜を、幅３０ｃｍ以上、かつ、面積９００ｃｍ^２以上の大きさで形成可能である。 （もっと読む）

【課題】本発明は、フィルムの反りを低減し、かつ高温高湿の環境下においても、ガスバリア性が悪化しない、高度なガスバリア性を有するガスバリア性フィルムを提供する。
【解決手段】高分子フィルム基材の片面または両面に、ZnSおよび、無機酸化物または金属酸化物からなる混合物を主成分とした混合薄膜層が少なくとも１層形成されてなり、さらに前記混合薄膜層上に樹脂層が少なくとも１層積層されたガスバリア性フィルムであって、前記ZnSをM、前記酸化物をＬとして表記する場合、前記混合薄膜層の組成比は（式１）の範囲であり、かつ混合薄膜層の膜厚が５nm以上、５００nm以下の範囲で形成されたことを特徴とするガスバリア性フィルム。
M_XＬ_(1-X) ０．７≦X≦０．９ （式１） （もっと読む）

【課題】本発明は、表面平滑性に優れたアルミニウム酸化物膜を有する積層体の製造方法を提供することを主目的とする。
【解決手段】本発明は、アルミニウム源を含有し、かつ、分極率の値の差が５以下である状態の溶媒を含有するアルミニウム酸化物膜形成用溶液を、アルミニウム酸化物膜形成温度以上の温度まで加熱した基材に接触させることにより、上記基材上にアルミニウム酸化物膜を形成することを特徴とする積層体の製造方法を提供することにより、上記課題を解決する。 （もっと読む）

本発明は、改善された光学的及び赤外線反射特性を有するｌｏｗ−Ｅ薄膜の光学積層体及びその作製方法を提供する。より特定的には、本発明は、硝酸といった強酸等の酸化剤を金属酸化物堆積工程において含めることにより、従前のものよりも低い放射率値を示す金属酸化物薄膜コーティングを提供する。本発明はまた、本願に記載の薄膜のコーティング効率を上昇させる方法を提供する。
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【課題】水蒸気バリア性に優れた、透明なガスバリア性積層フィルムを提供する。
【解決手段】プラスチックフィルムからなり、表面の算術平均粗さ（Ｒａ）が１０ｎｍ以上となる基材層１の上に、重合可能なアクリル系のモノマーまたはモノマーとオリゴマーとの混合物を含むアンカー層２と、ＳｉＯｘＣｙ（ｘは１．５以上２．０以下、ｙは０以上０．５以下）で表される酸化珪素からなり、厚さが１０ｎｍ以上１０００ｎｍ以下のガスバリア層３とを順次積層してなるガスバリア性積層フィルムにおいて、前記アンカー層２の厚みが０．１μｍ以上１０μｍ以下、かつ、前記アンカー層２の表面の算術平均粗さ（Ｒａ）が５ｎｍ以下であることを特徴とするガスバリア性積層フィルム。 （もっと読む）

【課題】 酸素ガスや水蒸気に対するガスバリア性に優れたガスバリア性被膜と無機酸化物の蒸着膜との反応性を向上させることにより、優れたガスバリア性を有する、透明で柔軟なガスバリア性積層フィルム及びその製造方法の提供。
【解決手段】 基材フィルムの一方の面に、無機酸化物の蒸着膜を形成し、該蒸着膜の表面に、酸素ガスを含む混合ガスによるグロー放電プラズマ処理を行うことにより、表面自由エネルギーが７０ｄｙｎｅ以上のプラズマ処理面を形成し、該プラズマ処理面に、アルコキシドとポリビニルアルコール系水溶性樹脂の混合溶液から得られるガスバリア性組成物を加熱乾燥処理して、ガスバリア性塗膜を形成する。 （もっと読む）

【課題】基板上に透明電極層を設け、さらにその上に導電性ペーストを原料とした金属配線を形成した透明電極付き基板において、当該透明電極層と当該金属配線の接着性に優れた透明電極付き基板を提供する。
【解決手段】透明電極層と金属配線の間にカーボン膜などの実質炭素を含有する層を形成することで、金属配線の剥離のない、耐久性に優れた透明電極付き基板を作製することができる。これらのカーボン層はスパッタリング法やプラズマＣＶＤ法により形成することができる。 （もっと読む）

【課題】 酸素ガスや水蒸気に対するガスバリア性に優れたガスバリア性被膜と無機酸化物の蒸着膜との反応性を向上させることにより、優れたガスバリア性を有する、透明で柔軟なガスバリア性積層フィルム及びその製造方法の提供。
【解決手段】 基材フィルムの一方の面に、無機酸化物の蒸着膜を形成し、該蒸着膜の表面に、表面自由エネルギーが７０ｄｙｎｅ以上のプラズマ処理面を形成し、該プラズマ処理面に、アルコキシドとポリビニルアルコール系水溶性樹脂の混合溶液から得られるガスバリア性組成物を加熱乾燥処理して、ガスバリア性塗膜を形成する。更に、上記の蒸着膜形成からガスバリア性塗膜形成までの工程を繰り返し、多層化する。 （もっと読む）

【課題】斜め方向も含めて赤味の反射色調が低減し、且つ近赤外域の反射率の向上がなされた窓用ガラス積層体を提供することを課題とする。
【解決手段】ガラス基材と、該ガラス基材上に形成される薄膜積層体とからなり、該薄膜積層体は、ガラス基材側から順次、誘電体からなる第１層、Ａｇを主成分とする金属からなる第２層、誘電体からなる第３層、Ａｇを主成分とする金属からなる第４層、そして、誘電体からなる第５層を有し、第２層と第４層の幾何学的厚さの総和が２２〜２９ｎｍ、第２層の幾何学的厚さが第４層の幾何学的厚さの０．３〜０．８倍であり、第１、３、５層の光学的厚さの総和が２２０〜３８０ｎｍ、第３層の光学的厚さが１４０〜２００ｎｍ、第１層の光学的厚みが第５層の光学的厚さの０．４〜１．５倍とすること。 （もっと読む）