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国際特許分類[C01B21/06]の内容

化学;冶金 (1,075,549) | 無機化学 (31,892) | 非金属元素;その化合物  (21,484) | 窒素;その化合物 (739) | 窒素と金属,けい素またはほう素とからなる二元化合物 (401)

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【課題】雑結晶の生成を抑制可能なIII族窒化物結晶製造装置を提供する。
【解決手段】坩堝10,11は、NaとGaとを含む混合融液270を保持する。坩堝10は、BNからなり、坩堝11は、混合融液270に対する濡れ性がBNよりも悪いWからなる。支持装置40は、種結晶5が混合融液270中に浸漬されるように一方端に種結晶5を保持する。加熱装置50,60は、坩堝10,11および反応容器20を結晶成長温度(=800℃)に加熱し、圧力調整器120は、反応容器20の窒素ガス圧が1.01MPaになるようにガス供給管90およびバルブ110を介して窒素ガスを反応容器20へ供給する。このようなIII族窒化物結晶製造装置において、濡れ性が異なる2つの材質で坩堝を作製するという構成を採用することによって、混合融液270中にマランゴニ対流を発生させ、雑結晶の発生を抑制する。 (もっと読む)


【課題】低温で簡単な工程で製造された優秀な特性を有する低価のp型ZnO半導体膜の製造方法を提供すること。
【解決手段】本発明のp型ZnO半導体膜の製造方法は、基板を準備し、チャンバー内に配置する段階と、チャンバー内に亜鉛前駆体と酸素前駆体を注入し、原子層蒸着法を利用した亜鉛前駆体と酸素前駆体間の表面化学反応を通じて基板上にZnO薄膜を形成する段階と、チャンバー内に亜鉛前駆体と窒素前駆体を注入し、亜鉛前駆体と窒素前駆体間の表面化学反応を用いてZnO薄膜上にドーピング層を形成する段階とを含む。半導体膜の製造方法を通じて形成された半導体膜を利用して、ガラス、Si、SUSなどの金属箔、プラスチック基板上に特性が優秀なp型の薄膜トランジスタを形成することができ、PN接合(junction)を利用したLEDなどの光電素子を具現することができる。 (もっと読む)


【課題】窒化ガリウム単結晶を簡単な操作で迅速に製造することができる方法を提供する。
【解決手段】シード、窒素元素を含有する溶媒、およびハロゲン化ガリウムペンタアンモニエート(ここでいうハロゲンは塩素、臭素または沃素である)を入れたオートクレーブ内の温度および圧力を、溶媒が超臨界状態及び/又は亜臨界状態となるように制御してシードの表面にアモノサーマル的に窒化ガリウムを結晶成長させる。オートクレーブ内にさらに鉱化剤を入れる。 (もっと読む)


本発明は、ダイオード、LEDおよびトランジスタなどの多くの半導体デバイスに応用可能な窒化物半導体の成長に関する。本発明の方法によると、窒化物半導体のナノワイヤは、選択領域を成長させる技術をベースとする化学蒸着法(CVD)を利用して成長する。ナノワイヤの成長工程中、窒素源と有機金属源とが存在し、少なくとも窒素源の流量はナノワイヤ成長工程中、連続して存在している。本発明の方法で利用されるV/III比は、一般的に窒化基半導体の成長に関連するV/III比より実質的に低い。
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窒化ガリウムを含む結晶を開示する。この結晶は、2.75mmより大きい少なくとも1つの次元と約10cm−2未満の転位密度とを有する少なくとも1つの粒子を有し、実質的に傾角境界がない。
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本発明は、半導体処理装置および方法に関し、特に、光学および電子構成部品の製造、エピタキシャル堆積用の基板としての使用、ウェハ用などの用途に適したIII−V族化合物半導体材料の持続的大量生産を提供する。好ましい実施形態では、これらの方法が、III族−N(窒素)化合物半導体ウェハ、特にGaNウェハを生産するように最適化される。具体的には、この方法は、反応室内で、1つの反応物としてのある量の気体III族前駆体を、他の反応物としてのある量の気体V族成分と、1つまたは複数の基板上での半導体材料の持続的大量製造を提供するのに十分な条件下で反応させることを含み、気体III族前駆体は、III族元素として50g/時の質量流量で、少なくとも48時間の間、連続的に供給される。この方法を実行するシステムも提供される。
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【課題】工業的に利用可能な方法で、効率良く高品質のGa含有窒化物を均一に結晶成長させること。
【解決手段】少なくとも、アルカリ金属元素またはアルカリ土類金属元素とGa金属とを含む合金と、窒化物原料とを粉砕して混合した混合物を加熱し、Ga含有窒化物を結晶成長させることを特徴とする。 (もっと読む)


本発明は、各副層系が中間層で相互に分離された、少なくとも2つの副層系を含む耐食性被覆であって、(i)各副層系が、同一であるか又は異なり、かつ少なくとも4つの層を含み、(ii)前記層が、化学量論的組成の窒化物含有化合物及び非化学量論的組成の窒化物含有化合物が交互する層を含み、(iii)各副層系が、約0.4ミクロン超の厚みを有し、かつ(iv)各中間層が、同一であるか又は異なり、かつ金属含有化合物を含む被覆に関係する。また、本発明は、この被覆の形成法及びこの被覆で覆われた製品、例えばガスタービン圧縮機のロータブレード及びステータベーンに関係する。
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【課題】酸化性環境下におけるセパレータと電極との間の接触抵抗を低い値に維持し、耐食性に優れ、かつ低コスト化した燃料電池用セパレータ及びその製造方法を提供する。
【解決手段】少なくともFe及びCrを含むステンレス鋼よりなる基層12と、この基層上に形成された窒化層11とを備えている。窒化層11は、少なくともFe及びCrを含むステンレス鋼の窒化物よりなる第1の窒化層111と、この第1の窒化層111上に形成され、この第1の窒化層111とは成分の含有量が異なる窒化物よりなり、露出した表面を有する第2の窒化層112とを備えている。この第1の窒化層111から第2の窒化層112にかけて、これらの層の厚さ方向にCr濃度が連続的に変化した組成分布を有する。 (もっと読む)


【課題】反応性に優れ、着色ムラや生成物の窒化の程度の差が生じることのない窒化物及び酸窒化物の製造法を提供する。
【解決手段】Ga、Ge、Zn、In、Snから選ばれる少なくとも1種類の金属元素を含む組成式KMO(Mは金属元素)で表される化合物をアンモニア流通下で加熱した。KZnGeO、アンモニア流通下において700〜1000℃で加熱、又は、KGaOをアンモニア流通下において700〜1000℃で加熱した。 (もっと読む)


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