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国際特許分類[C01G25/02]の内容

国際特許分類[C01G25/02]に分類される特許

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【課題】比表面積が大きい固体酸化物形燃料電池用の燃料極または空気極を、簡便かつ安価な方法により作製可能とする粒子集合体の製造方法を提供する。
【解決手段】一次粒子径が1nm以上かつ20nm以下、分散粒径が1nm以上かつ100nm以下の正方晶ジルコニア粒子または安定化ジルコニア粒子を溶媒に分散させて粒子分散液を調製する工程Aと、該粒子分散液を噴霧することにより噴霧液体状態とし、この噴霧液体状態の粒子分散液を、−196℃以上かつ0℃以下の冷却物質に曝すことにより、前記粒子分散液を凍結させる工程Bと、該凍結した粒子分散液の溶媒を昇華させて、除去する工程Cとを有し、前記工程Aにおいて、前記粒子分散液における正方晶ジルコニア粒子または安定化ジルコニア粒子の含有率を1質量%以上かつ70質量%以下とし、工程Bにおいて、噴霧液体状態の液滴径を1μm以上かつ100μm以下とする。 (もっと読む)


【課題】高い分散性を有し、かつ透明性に優れる無機ナノ粒子分散液を提供すること。
【解決手段】平均一次粒子径が1〜50nmの無機ナノ粒子、シランカップリング剤の加水分解物、酸性基を塩基性基で中和した塩構造を有する分散剤、及び分散媒を含む無機ナノ粒子分散液である。 (もっと読む)


【課題】SnTiOより格段に圧電特性のすぐれたSnZrO―SnTiO固溶体からなる非鉛圧電材料を提供する。
【解決手段】SnZrO―SnTiO固溶体(Sn(ZrTi1−x)O)である非鉛圧電材料の組成(xの値)を調整して組成相境界の状態を作り出すことにより、温度依存性のほとんどないきわめてすぐれた圧電特性を実現する。組成相境界となるxの値は、第一原理計算による正方晶、単斜晶、菱面体晶の全エネルギー解析から決定できる。これを実施した結果、下記の一般式:Sn(ZrxTi1−x)O{xは0<x<1を満たす数を示す}で表されるペロブスカイト型酸化物からなる非鉛圧電材料が得られた。ここで一般式中、xが0.2≦x≦0.4あるいは0.5<x≦0.7を満たす数であることが好ましい。 (もっと読む)


【課題】微細で不純物の少ない複合酸化物粉末およびその製造方法を提供すること。
【解決手段】一般式A(BZr)Oで表され、ペロブスカイト型結晶構造を有する複合酸化物粒子の集合である複合酸化物粉末を製造する方法であって、Zrの原料粉末を準備する工程と、Aを構成する元素の原料粉末と、Bを構成する元素の原料粉末と、を準備する工程と、Zrの原料粉末と、Aを構成する元素の原料粉末と、Bを構成する元素の原料粉末と、を800〜1000℃で熱処理する工程と、を有し、Zrの原料粉末が、単斜晶構造を有するZrの酸化物を含み、X線回折により観測される単斜晶の(111)ピークの半値幅が0.40°以上である複合酸化物粉末の製造方法。また、Zrの原料粉末には、さらに正方晶構造を有するZrの酸化物が10〜60%の割合で含まれることが好ましい。 (もっと読む)


【課題】高い屈折率を維持しかつ(メタ)アクリルモノマーに対する相溶性に優れたナノ粒子を提供すること。
【解決手段】表面処理剤で被覆されたナノ粒子であって、屈折率が1.8以上である被覆ナノ粒子。好ましくは、表面処理剤が、ナノ粒子に対して吸着性または反応性を有する部分(A)、表面処理剤で被覆されたナノ粒子に(メタ)アクリルモノマーに対する相溶性を付与する部分(B)、および高屈折率を有する部分(C)を有する。 (もっと読む)


【課題】繰り返し使用時に意図しない微小黒点が画像に発生することが抑制される電子写真感光体を提供する。
【解決手段】導電性支持体102と、前記導電性支持体上に配置されており、金属酸化物で構成された中空粒子の表面にアクセプター性化合物が付着した中空金属酸化物粒子及び結着樹脂を含む下引層104と、前記下引層上に配置された感光層103と、を有する電子写真感光体101。 (もっと読む)


【課題】200℃以下の低温度での金属酸化物薄膜の製造、および均質な有機−無機
複合体の製造に適した金属−酸素結合を有する分散質を提供するとともに、各種機能を有
する金属酸化物薄膜および有機−無機複合体、特に高屈折率、高透明性を有する有機−無
機複合体を提供することを目的とする。
【解決手段】本発明の金属−酸素結合を有する分散質は、3以上の加水分解性基を有する金属化合物と所定量の水を、酸、塩基、及び分散安定化剤からなる群から選ばれる少なくとも1種の非存在下に、所定温度で混合して得られてくる金属−酸素結合を有する分散質において、該所定量の水が、炭化水素系溶媒、及びアルコール系溶媒で希釈された溶液であり、該希釈された溶液を、該金属化合物に添加し、さらに該所定温度が、室温であることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】70nm以下の金属配線を有する次世代DRAMで要求される容量および良好な漏れ電流特性を確保できるキャパシタ及びその製造方法を提供する。
【解決手段】キャパシタ形成方法は、ストレージ電極65を形成するステップと、ストレージ電極65の表面をプラズマ窒化66A処理するステップと、該表面がプラズマ窒化66A処理されたストレージ電極65上にZrO薄膜67を蒸着するステップと、ZrO薄膜67の表面をプラズマ窒化処理して、表面が窒化66BされたZrO薄膜を形成するステップと、窒化66Bされた前記ZrO薄膜上にプレート電極68を形成するステップとを含む。 (もっと読む)


【課題】ガスバリア性が高く、屈曲後や経時保存後も高いガスバリア性を維持し、生産性が高く安価に製造可能なガスバリア性フィルムとその製造方法、及び該ガスバリア性フィルムを有する有機電子デバイスを提供することである。
【解決手段】金属酸化物を含むガスバリア層を有するガスバリア性フィルムの製造方法において、該ガスバリア性フィルムを絶対湿度が0.001〜3g/mの環境下において、水と反応する材料を該ガスバリア層表面に接触させることを特徴とするガスバリア性フィルムの製造方法。 (もっと読む)


【課題】簡易かつ低廉な手法で電気特性が調節された酸化膜ならびにこれを成膜する方法および補修する方法を提供する。
【解決手段】ジルコニウム無機塩を溶質とし、アルコールを溶媒とし、ケトン類化合物を第1助剤として原料溶液が調製される。基板に向けて原料溶液のミストが段階的に供給され、かつ、雰囲気が加熱されることにより、基板の上にジルコニア薄膜が酸化膜として成膜される。原料溶液の調製に際して第1助剤の濃度を調節した上で、当該プロセスの繰り返し回数の調節により膜厚を調節することにより、電気特性が調節された酸化膜が成膜される。 (もっと読む)


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