オキシ炭化ケイ素コーティングは、（ｉ）前記コーティングの屈折率が１．７０あるいはそれ以上であるのみならず、（ｉｉ）前記コーティングの厚さが３５０Åあるいはそれ以上であるときに、約数ヶ月間というかなりの長期間親水性を維持する。
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低屈折率を有し、フッ化マグネシウム及び少なくとも１つの金属酸化物もしくは半金属酸化物を含有する耐磨耗性且つ耐引掻性コーティングを有する支持体が開示される。該コーティングは、フッ化マグネシウム又はその前駆体及び少なくとも１つの金属酸化物もしくは半金属酸化物又はこれらの前駆体を含むコーティング組成物を支持体上に塗布し、次いでそれを熱処理することによって得られ得る。本発明のコーティングは、特に半透明支持体上の光学層に適している。適切な使用の例は、反射防止層及び干渉層アセンブリを含む。 （もっと読む）

本発明は、その表面の少なくとも一部が疎水性にされた基材であり、疎水性にするために、本質的に無機質のケイ素含有下層と該下層上にグラフトされた疎水性物質の外層とを含む疎水性表面構造を有する基材に関する。本発明は、下層の表面が疎水性物質との接触前に活性化状態にある間に、外側の疎水性物質層が下層に適用されることを特徴としている。本発明はまた、自動車、航空機、建物、家庭用電化製品及び眼科レンズ産業での使用に特に好適なこのような基材を含む防雨性ガラスに関する。 （もっと読む）

微細構造群を基板上に形成する方法が開示される。微細構造群を基板上に形成するための方法において使用されてもよい微細構造組立体もまた、開示される。本開示の方法および組立体は、プラズマディスプレイ装置に使用された基板上に形成されたバリヤーリブに閉じ込められた空気の量を低減することができる。
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アモルファスの連続気泡ＳｉＯ_２未焼結成形体の表面上に、Ｓｉ_３Ｎ_４焼結層を形成するために適切な前駆物質を施与し、かつ引き続きレーザービーム中現場で該先駆物質をＳｉ_３Ｎ_４焼結層へ変換することを特徴とする、ＳｉＯ_２未焼結成形体からなるＳｉ_３Ｎ_４被覆されたＳｉＯ_２成形体の製造方法。 （もっと読む）

本発明は、使用者によって取り扱うことのできる、固体で耐久性のあるマトリックス中に分散された発光体を含む照明系に関する。当該照明系は、透過装置又は光拡散装置、特には一体の単一又は複合層のグレージングに適用される。 （もっと読む）

耐腐食性低放射率コーティングが提供される。低放射率コーティングは、外側に向かって順に、耐腐食性内側赤外反射層、透明誘電中位層および外側赤外反射層とを含む。前記外側赤外反射層が実質的に銀からなり、前記耐腐食性赤外反射層が、前記外側赤外反射層とは異なる組成を有する。また、この性質を有するコーティングを堆積する方法、および、このコーティングを備えた基材が提供される。 （もっと読む）

【課題】 ＤＮＡあるいは蛋白質等の生体物質サンプルを基板に共有結合により強固に固定化することにより、従来遺伝子解析のための処理を進める際（例えばハイブリダイスの際）にスポットが抜け落ちるといった問題点を解決すること。
【解決手段】 オリゴヌクレオチドまたはＤＮＡ断片を表面に担持可能なスライドグラスにおいて、炭化ハフニウム、炭化ニオブ、炭化珪素、炭化タンタル、炭化トリウム、炭化チタン、炭化ウラン、炭化タングステンまたは炭化ジルコニウム等の表面処理層が形成されていることを特徴とするスライドグラス。また、表面処理層の被膜上に、オリゴヌクレオチドまたはＤＮＡ断片を担持させたスライドグラス及びスライドグラスの表面に遺伝子を担持させて遺伝子を解析する方法。 （もっと読む）

［目的］ 光透過面となる面における屈折率分布が平坦であり、特に、大口径で、肉厚な光学部材用に適する光学用合成石英ガラス成形体を提供すること。
［構成］ 少なくとも光透過方向に脈理が存在しない光学用合成石英ガラス成形体の熱処理方法において、光学用合成石英ガラス成形体を、被覆体内に、該被覆体の開口に該光透過面を向けて配置し、８００℃乃至１３００℃の範囲内の温度に加熱保持した後、１５℃／時間以下の降温速度で徐冷することにより、光透過面となる面における屈折率分布が平坦となるように、光学用合成石英ガラス成形体の熱処理を行う。 （もっと読む）